技术特征：
技术总结
本发明提供一种即便在具有高纵横比的槽的被处理体上也能够向该槽内均匀地喷射气体的气体喷射装置。而且，本发明的气体喷射装置(100)具有向被处理体(202)喷射气体的气体喷射单元部(1)。气体喷射单元部(1)具有第一锥体形状构件(3)和第二锥体形状构件(2)。在第一锥体形状(3)的侧面与第二锥体形状构件(2)的侧面之间形成有间隙(do)。各锥体形状构件(2、3)的顶部侧与被处理体(202)相面对。
技术研发人员：田畑要一郎;渡边谦资;西村真一
受保护的技术使用者：东芝三菱电机产业系统株式会社
技术研发日：2014.10.29
技术公布日：2017.08.18