技术总结
本发明公开了一种用于管内壁镀膜的装置，包括电源和能够插入待镀管内的内电极，内电极为双层结构，内层为导电体，外层为介质层，使用状态下，内电极设置在待镀管内并连接至电源，待镀管由导电材料制成亦连接至电源，通电状态下，在内电极和待镀管之间产生介质阻挡放电，激励气体原料产生等离子体，实现薄膜沉积。本发明还公开了采用上述用于管内壁镀膜的装置进行管内壁镀膜的方法。本发明的用于管内壁镀膜的装置及方法，是采用表面带有介质层的内电极与导电的待镀管组成介质阻挡放电结构形式，使发明的装置可以在高气压、甚至在大气压下实现均匀放电，进而利用高频高电压电源激励产生均匀等离子体或相对均匀等离子体，实现金属管内壁薄膜沉积。
技术研发人员：王坤;李建
受保护的技术使用者：核工业西南物理研究院;成都理工大学工程技术学院
文档号码：201510362876
技术研发日：2015.06.26
技术公布日：2017.01.04