1.一种立方氮化硼微粉颗粒表面金属化改性的方法，包括以下步骤：
(1)采用物理气相沉积法在立方氮化硼微粉颗粒表面镀膜，在物理气相沉积设备的镀膜室装入金属或合金阴极靶材，然后将立方氮化硼微粉放入滚筒式沉积台；关闭镀膜室门，设定气相沉积参数，进行物理气相沉积镀膜；
(2)将镀膜后的立方氮化硼微粉在真空热处理炉中进行热处理，即得到表面金属化改性的立方氮化硼颗粒粉体。
2.根据权利要求1所述的立方氮化硼微粉颗粒表面金属化改性的方法，其特征在于：在采用物理气相沉积法在立方氮化硼微粉颗粒表面镀膜前，还包括将立方氮化硼微粉进行颗粒表面洁净处理的步骤。
3.根据权利要求1所述的立方氮化硼微粉颗粒表面金属化改性的方法，其特征在于：所述的立方氮化硼微粉的费氏粒度≤3.0μm。
4.根据权利要求1所述的立方氮化硼微粉颗粒表面金属化改性的方法，其特征在于：所述的阴极靶材为钨、钼、钛、钒、铬、钴、镍、铝单质或其合金。
5.根据权利要求4所述的立方氮化硼微粉颗粒表面金属化改性的方法，其特征在于：所述的阴极靶材为两种以上不同的金属或合金靶材，两种以上靶材交替沉积，得到的金属膜层为多层，或者两种以上靶材共沉积，得到的金属膜层为合金层。
6.根据权利要求1所述的立方氮化硼微粉颗粒表面金属化改性的方法，其特征在于：所述的物理气相沉积法包括磁控溅射法和射频溅射法。
7.根据权利要求6所述的立方氮化硼微粉颗粒表面金属化改性的方法，其特征在于：所述的阴极靶材为导电磁性金属时，采用直流电源磁控溅射法；所述的阴极靶材为导电非磁性金属时，采用交流电源射频溅射法。
8.根据权利要求1所述的立方氮化硼微粉颗粒表面金属化改性的方法，其特征在于：所述的物理气相沉积过程中，预抽本底真空至3.0×10-3Pa以下，通入工作气体Ar气，镀膜过程中溅射气压设定在0.1～10Pa；样品加热温度为100～400℃；靶材功率密度范围为5～30W/cm2；滚筒式沉积台的转速为12～50r/min；振动系统的振动频率为10～50Hz；镀膜时间为0.5～20h。
9.根据权利要求1所述的立方氮化硼微粉颗粒表面金属化改性的方法，其特征在于：所述的热处理的温度为400～1400℃，热处理保温时间为20～120min。
10.权利要求1所述的立方氮化硼微粉颗粒表面金属化改性的方法在制备用于成形、烧结超硬合金的混合料中的应用。