一种金刚石打磨头的制作方法

文档序号:11912897阅读:591来源:国知局
一种金刚石打磨头的制作方法与工艺

本发明属于打磨加工工具领域,尤其是涉及一种金刚石打磨头。



背景技术:

目前,机械制造对于零件的加工精度要求越来越高,而机械加工中许多零件需要倒角,对于锥孔类零件既需要对孔的内壁进行打磨,也需要去除端面的毛刺,通常需要使用不同的刀头进行加工,浪费时间,大大降低了生产效率。



技术实现要素:

有鉴于此,本发明旨在提出一种金刚石打磨头,以提高对锥孔工件的打磨效率。

为达到上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:

一种金刚石打磨头,包括磨头部、过渡部和连接部,所述磨头部通过过渡部固定在连接部上,所述磨头部为锥形,所述磨头部表面设有金刚石合金层,所述过渡部与磨头部连接的平面设有金刚石合金层,所述磨头部、过渡部和连接部的中心设有贯通的冷却孔。

进一步的,所述过渡部为锥形,所述过渡部锥形的上底面直径大于磨头部锥形的下底面直径,所述过渡部锥形上底面的表面积小于所述过渡部锥形下底面的表面积,所述磨头部锥形上底面的表面积小于所述磨头部锥形下底面的表面积。

进一步的,所述连接部表面至少设有两个与所述冷却孔连通的螺纹孔。

进一步的,所述磨头部的锥度大于过渡部的锥度。

进一步的,所述磨头部表面和过渡部上底面的金刚石合金层通过镍电铸方式加工。

进一步的,所述螺纹孔轴线与所述冷却孔轴线垂直,所述螺纹孔设有3个,其中相邻两个之间夹角为120°。

进一步的,所述磨头部、过渡部和连接部由45号钢一体成型制作。

相对于现有技术,本发明所述的一种金刚石打磨头具有以下优势:

本发明所述的一种金刚石打磨头既能对锥孔的内壁进行打磨,也能打磨端面的毛刺,提高加工效率,节省时间,有很好的散热降温效果。

附图说明

构成本发明的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:

图1为本发明实施例所述的结构示意图;

图2为本发明实施例所述的侧视图;

图3为图2中沿A-A的剖视图。

附图标记说明:

1-螺纹孔,2-连接部,3-过渡部,4-磨头部,5-冷却孔。

具体实施方式

需要说明的是,在不冲突的情况下,本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。

在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以通过具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

一种金刚石打磨头,包括磨头部4、过渡部3和连接部2,所述磨头部4通过过渡部3固定在连接部2上,所述磨头部4为锥形,所述磨头部4表面设有金刚石合金层,所述过渡部3与磨头部4连接的平面设有金刚石合金层,所述磨头部4、过渡部3和连接部2的中心设有贯通的冷却孔5。所述过渡部3为锥形,所述过渡部3锥形的上底面直径大于磨头部4锥形的下底面直径,所述过渡部3锥形上底面的表面积小于所述过渡部3锥形下底面的表面积,所述磨头部4锥形上底面的表面积小于所述磨头部4锥形下底面的表面积。所述连接部2表面至少设有两个与所述冷却孔5连通的螺纹孔1,所述磨头部4的锥度大于过渡部3的锥度。所述磨头部4表面和过渡部3上底面的金刚石合金层通过镍电铸方式加工,所述磨头部4、过渡部3和连接部2由45号钢一体成型制作。所述螺纹孔1轴线与所述冷却孔5轴线垂直,所述螺纹孔1设有3个,其中相邻两个之间夹角为120°。

本发明所述的一种金刚石打磨头使用时将连接部2通过螺纹孔1固定在旋转动力部上,所述过渡部3与磨头部4连接的平面能够打磨端面,所述磨头部4打磨锥孔,加工效率高,冷却液从冷却孔5通入,可以将碎屑和热量通过冷却液排出。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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