技术总结
本实用新型涉及双向旋转真空镀膜室，包括真空泵、导气管、反应室、蒸发源、镀膜支架、旋转台、旋转电机，其特征在于真空泵通过导气管与反应室连通，反应室中央位置设置有旋转台，镀膜支架设置在旋转电机下方，由于本实用新型所述的双向旋转真空镀膜室的镀膜支架上表面朝上方突起，蒸发源位于镀膜支架上表面突起的正下方，因此蒸发源与镀膜支架上不同位置的直线距离差极小，尽量减小了镀膜支架上工件的镀膜速率差，而且镀膜支架通过三根支柱钢性连接在旋转电机输出端上，可以通过旋转电机带动镀膜支架旋转从而缩小镀膜支架上不同位置与蒸发源的距离不同造成的影响，保证了镀膜的均匀。
技术研发人员：许峰
受保护的技术使用者：苏州市博飞光学有限公司
文档号码：201621233707
技术研发日：2016.11.17
技术公布日：2017.04.26