一种CCD去盖预处理装置的制作方法

本实用新型涉及一种新的CCD去盖预处理装置，具体涉及光学镀膜领域。

背景技术：

近年来，紫外成像和探测技术已经逐渐推广应用于许多领域，与现代国防和人民生活联系日趋紧密。CCD是近年来发展最快的光电探测器，它能够将光学影像转化为数字信号，CCD具有较高的量子效率、较低的噪声以及很高的动态范围，因此具有极大的市场应用价值。CCD成像探测器件在400-800nm光谱范围内有很好的响应度，但是在400nm以下的紫外波段量子效率太低，几乎没有响应。这是由于CCD表面的多晶硅电极对紫外光有强烈的吸收，使得紫外光在多晶硅中穿透深度很小(小于2nm)，从而无法被探测到。为了解决这一难题，目前可行的方法之一就是在器件上镀一层紫外响应增强的荧光转换变频膜，实现将紫外光转换为可见光，从而被CCD探测到。

由于CCD表面有一层保护玻璃，如果在玻璃面直接镀膜，其增大了光线从膜层到CCD光敏面的光程，致使入射光强减弱，影响紫外响应的效果。因此，如何解决这一问题，便成为了紫外增敏技术的首要任务。通过实验证明，将CCD保护玻璃去掉，直接将变频膜镀在CCD光敏面上，是一个切实可行的方法。CCD表面保护玻璃和CCD的粘合一般是采用环氧树脂或者是其他类型的胶水，它们一般都会溶于一些有机溶剂中。因此，利用这个原理设计一个装置去除CCD表面的保护玻璃，对CCD进行去盖预处理，在CCD的光敏面直接镀膜，从而提高CCD的紫外响应能力。

技术实现要素：

为了解决上述现有技术的不足，本实用新型的目的在于设计一种CCD去盖预处理装置。该装置不仅能安全、高效地去除CCD表面保护玻璃，增强CCD紫外响应效果，结构上还简易精巧，降低了研究成本，操作也更加方便、快捷。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：CCD去盖预处理装置主要由支架台、加热座和溶剂皿三大部件组成。所述的支架台是可拆卸的，支架台底座开有一个螺纹接口，支撑杆的一端通过螺纹接口与底座连接固定；支撑杆上套有一个移动端，它可以沿着支撑杆上下滑动，调节高度，通过其上的一个旋钮将其与支撑杆固定；移动端上开有一个螺纹接口，横梁一端可以通过它与移动端相连：横梁的另一端通过螺纹连接一个螺旋调节器，该螺旋调节器连接一根空心管，空心管上端连接真空泵，下端接有真空吸头，利用真空泵和真空吸头将CCD吸住，通过调节螺旋调节器将CCD完全、精准地浸入到溶剂皿中；所述的溶剂皿可以放置在所述的加热座上，然后放置在支架台底座上。

所述的加热座底部有一个加热电阻，中间是镂空的，刚好可以将溶剂皿放进去；所述的加热座镂空部分与加热座四周的内壁之间还开有一条凹槽，右边壁开有一个排液孔，可以将溢出液排出来，以防溶剂溢出流到底部的加热电阻上，引起短路；所述的加热座底座侧边开有一个小孔，可以用温度传感器实时监测加热温度。

所述的溶剂皿有三个，分别是陶瓷、玻璃和塑料制作而成的；所述的溶剂皿上方四周相对于溶剂皿主体是凸出来的，这样可以将其固定放置于加热座中，并且其凸出来的长度在溶剂皿放进去之后刚好到达加热座内壁的四条凹槽上，防止溶剂溢出流到底部的加热电阻，引起短路。

本实用新型的有益效果为：

1.设计支架台结构是简易可拆卸的，体积小不占用实验室多余空间，增加了装置的便携性。

2.设计支架台上的支撑杆上的移动端是可以沿着支撑杆上下滑动的，通过它可以粗略地调节CCD距离溶剂皿的大致高度位置，可以有效提高实验效率。

3.设计支架台上有一个螺旋调节器，在支撑杆上大致确定好CCD与溶剂皿之间的高度之后，通过该螺旋调节器，可以精准地将CCD完全浸入到溶剂皿中，大大挺高了实验的准确性。

4.设计支架台是利用真空泵抽气的方式将CCD吸附在真空吸头上，然后浸入到溶剂皿中，而不是采用人为的方法，这样就可以避免人体与溶剂的直接接触，防止溶剂对人体造成伤害，提高了实验的操作性和安全性。

5.设计加热座上设有加热电阻，在浸泡CCD的同时还可以进行加热，且加热座底座侧边开有一个小孔，设有温度传感器，可实时监测加热温度，既加快了实验的进程，又可以更加有效的去除CCD的保护玻璃。

6.设计加热座镂空部分与加热座四周的内壁之间还开有一条凹槽，右边壁开有一个排液孔，可以将溢出液排出来，以防溶剂溢出流到底部的加热电阻上，引起短路。

7.设计的溶剂皿上方四周边相对于溶剂皿主体是凸出来的，这样可以将其固定放置于加热座中，并且其凸出来的长度在溶剂皿放进去之后刚好到达加热座内壁的四条凹槽上，防止溶剂溢出流到底部的加热电阻，引起短路。

8.设计溶剂皿有三个，分别是不同材料制作而成的，可以用来盛放不同的溶剂，避免造成腐蚀。

该CCD去盖预处理装置，改变了以往的加热去除CCD保护玻璃的方法，既可以是加热，又可以是溶剂浸泡，或者是加热和溶剂浸泡结合在了一起。该装置可以在安全、高效去除保护玻璃的同时，最大限度地减小去除过程中对CCD像素的损害，提高实验效率和准确率。

附图说明

图1为本实用新型的结构立体示意图

图2为本实用新型的支架台的结构立体示意图

主要符号说明如下：

1-底座；2-支撑杆；3-旋钮；4-移动端；5-横梁；

6-真空泵接口；7-螺旋调节器；8-空心管；9-真空吸头

图3为本实用新型的螺旋调节器的结构立体示意图

主要符号说明如下：

1-支座；2-空心管调节端；3-保护盖；4-调节旋钮

图4为本实用新型的加热台和溶剂皿的结构立体示意图

主要符号说明如下：

1-测温孔；2-排液孔；3-陶瓷溶剂皿；4-玻璃溶剂皿；

5-塑料溶剂皿；6-加热电阻；7-电源端口

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步说明。

CCD去盖预处理装置主要包括支架台、加热座和溶剂皿。所述的支架台是可拆卸的，支架台的底座上开有一个螺纹口，其特征在于，支撑杆通过螺纹接口与底座固定；支撑杆上套有一个移动端，它可以沿着支撑杆上下滑动，其上有一个旋钮，其特征在于，旋转它就可以将移动端固定在支撑杆上，通过移动端的滑动和调节旋钮可以大致确定CCD与溶剂皿之间的的距离；

支架台上分为粗调和微调两个调节CCD高度的旋钮，其特征在于，通过滑动套在支撑杆上的移动端，粗调其上的旋钮大致确定CCD与溶剂皿之间的高度；然后再通过螺旋调节器上的旋钮微调CCD与溶剂皿之间的距离，精准地使CCD完全浸泡在溶剂皿中，

该装置工作流程为：在进行CCD去盖预处理时，先将支架台组装好，放在实验台上；打开真空泵，用真空吸头将CCD吸住；将溶剂倒入对应的溶剂皿中放到加热台上，通过移动端大致确定CCD与溶剂面的高度并固定；然后微调螺旋调节器使得CCD精准完全的浸入到溶剂中；最后接通加热台电源进行加热，不同的CCD，加热的时间也会不一样。该CCD去盖预处理装置，操作上方便快捷，结构上精巧灵活，不仅提高了实验的效率和安全性，还降低了实验成本。