薄膜形成装置的制作方法

本发明涉及薄膜形成装置的技术领域，特别涉及高效地形成薄膜的薄膜形成装置。

背景技术：

在玻璃基板等大型的成膜对象物上形成成膜材料的薄膜时，广泛使用如下技术：将成膜对象物配置于真空室内，一边从成膜源释放成膜材料的蒸气等微小粒子，一边使其在与成膜对象物对置的位置移动，使微小粒子附着于成膜对象物的表面。

图6的附图标记110是该技术的薄膜形成装置，在输送室112的周围配置有两个成膜室111a、111b和多个真空室113，各室111a、111b、113连接于输送室112。

在两个成膜室111a、111b的内部分别配置有基板支架121，在基板支架121的上方配置有相机等拍摄装置135，在下方配置有成膜源122。

成膜源122安装于成膜源移动装置131，若成膜源移动装置131动作，则成膜源122在基板支架121的下方位置沿水平方向往复移动。

在输送室112的内部配置有由基板输送机器人构成的基板移动装置125。图6（b）的附图标记105a示出了被基板移动装置125搬入到成膜室111a的内部、并配置在基板支架121上的成膜对象物。

在该成膜对象物105a被搬入到成膜室111a内时，在被配置到基板支架121上之前，在成膜室111a的内部被配置于对准移动装置（未图示），在该状态下，由拍摄装置135对成膜对象物105a的对准标记与基板支架121的对准标记进行拍摄，拍摄结果被输出到控制装置136，成膜对象物105a与基板支架121之间的位置误差被检测出，成膜对象物105a利用控制装置136以使位置误差变小的方式移动，以位置误差变小的状态配置到基板支架121上。

在基板支架121上设有贯通孔，配置于基板支架121的成膜对象物105a的表面在贯通孔的底面露出。

在成膜源122的表面中的与成膜对象物105a相面对的部分设有多个释放孔123，若一边从释放孔123释放成膜材料的微小粒子一边利用成膜源移动装置131移动成膜源122，则微小粒子到达在成膜对象物105a的贯通孔底面露出的表面，附着而生长出薄膜。

在图6（b）中，在在一个成膜室111a的内部在成膜对象物105a的表面形成薄膜的期间，载置于基板移动装置125的成膜对象物105b被搬入到另一个成膜室111b的内部。

这样，在图6（a）、图6（b）的薄膜形成装置110中，在在一个成膜室111a的内部在成膜对象物105a的表面形成薄膜的期间，能够向另一个成膜室111b的内部搬入未成膜的成膜对象物105b，并进行成膜对象物105b的对位，因此能够不中断向成膜对象物105a、105b的成膜工序。

然而，在该薄膜形成装置110中，虽然两个成膜室111a、111b共用一个基板移动装置125，但在两个成膜室111a、111b的内部分别配置有成膜源122和成膜源移动装置131，不会实现低成本。

在图7（a）的薄膜形成装置210中，在输送室212的周围连接有一个成膜室211与多个真空室214，并在该一个成膜室211的内部配置有两个基板支架221a、221b。

成膜源移动装置231遍及一个基板支架221a的下方位置与另一个基板支架221b的下方位置地配置，若一个成膜源222利用成膜源移动装置231而移动，则能够一边与两个基板支架221a、221b中的任一个相面对一边移动。

因此，如图7（b）所示，在一个基板支架221a上配置成膜对象物205a，在该成膜对象物205a的下方位置，一边从释放孔223释放成膜材料的微小粒子，一边使成膜源222与成膜对象物205a相面对地移动，在正在生长出薄膜的过程中，能够在配置于输送室212内的基板移动装置225上载置未成膜的成膜对象物205b，向成膜室211内搬入，并进行与另一个基板支架221b的对准。

然而，在该薄膜形成装置210中，虽然能够设置一个成膜源222，但需要在各基板支架221a、221b上分别配置拍摄装置235、对准移动装置，要求进一步低成本的薄膜形成装置。

专利文献1：日本特开2012－174609号公报。

专利文献2：日本特许4510609号。

技术实现要素：

本发明是为了解决上述现有技术的不良情况而作出的，其目的在于提供一种低成本的薄膜形成装置。

为了解决上述问题，本发明是一种薄膜形成装置，该薄膜形成装置具有：成膜室；旋转装置，其配置于上述成膜室内，设有配置掩模与成膜对象物的多个基板支架，并在上述成膜室内旋转；主拍摄装置，其对在位于对准场所的上述基板支架上配置的上述掩模、以及与上述掩模相面对的上述成膜对象物进行拍摄；控制装置，其根据上述主拍摄装置的拍摄结果，求出上述掩模与上述成膜对象物之间的第一位置误差，使上述成膜对象物移动，以便减小上述第一位置误差，以进行了对位的状态将上述成膜对象物配置于上述掩模；成膜源，其配置于上述成膜室的内部，释放成膜材料的微小粒子；以及成膜源移动装置，其使上述成膜源在上述成膜室的内部移动并通过与成膜场所相面对的场所，借助上述旋转装置的旋转，使进行了对位的上述掩模与上述成膜对象物从上述对准场所移动到上述成膜场所，上述成膜源一边释放上述微小粒子一边通过与上述成膜场所相面对的场所，上述微小粒子通过上述基板支架的贯通孔与上述掩模的窗部而到达上述成膜对象物，形成薄膜。

本发明是如下所述的薄膜形成装置，其设有对位于上述成膜场所的上述掩模与上述成膜对象物进行拍摄的辅助拍摄装置，根据上述辅助拍摄装置所拍摄到的结果，求出上述成膜对象物与上述掩模之间的第二位置误差。

本发明是下述薄膜形成装置，其具有将上述掩模与配置在上述掩模上的上述成膜对象物固定于上述旋转装置的保持装置。

本发明是下述薄膜形成装置：上述第二位置误差被与第二基准值比较，在上述第二位置误差比上述第二基准值大的情况下，上述成膜对象物不形成上述薄膜，而是借助上述旋转装置的旋转，与上述掩模一起返回到上述对准场所。

本发明是一种薄膜形成装置，该薄膜形成装置具有：成膜室；旋转装置，其配置于上述成膜室内，设有供成膜对象物配置的多个基板支架，并在上述成膜室内旋转；主拍摄装置，其对位于对准场所的上述基板支架和与上述基板支架相面对的成膜对象物进行拍摄；控制装置，其根据上述主拍摄装置的拍摄结果，求出上述基板支架与上述成膜对象物之间的第一位置误差，使上述成膜对象物移动，以便减小上述第一位置误差，以进行了对位的状态将上述成膜对象物配置于上述基板支架；成膜源，其配置于上述成膜室的内部，释放成膜材料的微小粒子；以及成膜源移动装置，其使上述成膜源在上述成膜室的内部移动并通过与成膜场所相面对的场所，借助上述旋转装置的旋转，使进行了对位的上述基板支架与上述成膜对象物从上述对准场所移动到上述成膜场所，上述成膜源一边释放上述微小粒子一边通过与上述成膜场所相面对的场所，上述微小粒子通过上述基板支架的贯通孔而到达上述成膜对象物，形成薄膜。

本发明是下述薄膜形成装置，其设有对位于上述成膜场所的上述基板支架与上述成膜对象物进行拍摄的辅助拍摄装置，根据上述辅助拍摄装置所拍摄到的结果，求出上述成膜对象物与上述掩模之间的第二位置误差。

本发明是下述薄膜形成装置，其具有将上述基板支架与配置在上述基板支架上的上述成膜对象物固定于上述旋转装置的保持装置。

本发明是下述薄膜形成装置：上述第二位置误差被与第二基准值比较，在上述第二位置误差比上述第二基准值大的情况下，上述成膜对象物不形成上述薄膜，而是借助上述旋转装置的旋转返回到上述对准场所。

本发明是下述薄膜形成装置：设有两个上述基板支架，以上述旋转装置的旋转中心为中心，将两个上述基板支架设于彼此相反的一侧。

根据本发明，能够在不设置多个成膜源和对位所需的装置的情况下，一边在成膜对象物的表面形成薄膜，一边进行其它成膜对象物的对位。

借助保持装置，能够防止旋转移动中的位置误差的产生，在产生了位置误差的情况下，能利用辅助拍摄装置在成膜前进行检测，并再次进行对位，因此不再有由在旋转移动中产生的位置误差所导致的不良情况。

附图说明

图1是本发明的薄膜形成装置的内部俯视图。

图2（a1）是图1的a－a线剖切剖视图，图2（a2）是用于使用a－a线剖切剖视图说明配置有成膜对象物的状态的图，图2（b1）是图1的b－b线剖切剖视图，图2（b2）是用于使用b－b线剖切剖视图说明配置有成膜对象物的状态的图。

图3（a）~图3（c）是用于说明成膜工序的俯视图（1）。

图4（d）~图4（f）是用于说明成膜工序的俯视图（2）。

图5（g）~图5（i）是用于说明成膜工序的俯视图（3）。

图6（a）、图6（b）是现有技术的薄膜形成装置（1）。

图7（a）、图7（b）是现有技术的薄膜形成装置（2）。

具体实施方式

对本发明的薄膜形成装置进行说明。

参照图1，本发明的薄膜形成装置10具有输送室12。

在输送室12的周围配置有形成薄膜的成膜室11、进行薄膜形成的前处理及后处理的真空室14、以及进行成膜对象物的搬出搬入的搬出搬入室13，各室11、13、14连接于输送室12。

在各室11~14设有真空排气装置，分别构成为进行真空排气。图1的附图标记18是连接于成膜室11的真空排气装置，附图标记19是连接于输送室12的真空排气装置。各室11~14被设为进行真空排气，并形成有真空环境。各室11~14被能够开闭的真空阀分隔，但省略开闭的说明。

在输送室12的内部设有基板搬出搬入装置25。基板搬出搬入装置25具有臂38与机器手39，并构成为，若通过旋转轴37的旋转使臂38伸缩，则机器手39在水平面内移动。

在成膜室11形成薄膜的成膜对象物被载置于机器手39，在各室11、13、14与输送室12之间移动，配置于搬出搬入室13的成膜对象物被载置于机器手39而从搬出搬入室13取出，通过输送室12，向成膜室11或其它真空室14搬入。

在成膜室11的内部水平地设有圆板状的旋转装置21。

这里，图2（a1）是图1的a－a线剖切剖视图，图2（b1）是图1的b－b线剖切剖视图。图2（a1）的附图标记32示出了一端垂直地安装于旋转装置21的旋转轴。

在成膜室11的外部设有马达等驱动装置48，旋转轴32的另一端连接于驱动装置48，若驱动装置48动作，则旋转轴32绕旋转轴32的中心轴线旋转。

而且，若旋转轴32绕其中心轴线旋转，则旋转装置21以安装有旋转轴32的部分的中心即旋转中心33为中心，在同一平面内旋转。这里是在水平面内旋转。

在旋转装置21的两面中的一面侧（这里是成膜室11的底面侧）配置有成膜源移动装置31。旋转装置21被配置成分为位于成膜源移动装置31的正上方的部分、以及不位于成膜源移动装置31的正上方的部分的两部分，在以旋转中心33为中心旋转了180度时，之前位于成膜源移动装置31的正上方的部分移动到不位于正上方的场所，之前不位于成膜源移动装置31的正上方的部分移动到位于正上方的场所。

在旋转装置21的另一面侧（这里是顶棚侧）的位于成膜源移动装置31的正上方的部分的上方配置有辅助拍摄装置45，在不位于成膜源移动装置31的正上方的部分的上方配置有主拍摄装置35与基板移动装置27。

主拍摄装置35与辅助拍摄装置45分别连接于在成膜室11的外部配置的主控制装置36与辅助控制装置46，表示主拍摄装置35拍摄到的拍摄结果的信号与表示辅助拍摄装置45拍摄到的拍摄结果的信号，被分别向主控制装置36与辅助控制装置46输出。

在旋转装置21形成有多个贯通孔49a、49b，在各贯通孔49a、49b和各贯通孔49a、49b的边缘部分，构成有多个基板支架34a、34b。在该旋转装置21中，以旋转中心33为中心，在相互相反的一侧的位置各形成有一个基板支架34a、34b，在各基板支架34a、34b分别配置有掩模4a、4b。掩模4a、4b是薄板状的金属板，载置在基板支架34a、34b的贯通孔49a、49b的边缘上。在掩模4a、4b中，在规定的位置形成有窗部，基板支架34a、34b的贯通孔49a、49b位于掩模4a、4b的底面。

在借助旋转装置21的旋转使基板支架34a、34b旋转移动时，作为基板支架34a、34b与掩模4a、4b能够在成膜室11的内部静止的场所，若将靠近输送室12的场所设为对准场所16，将以旋转中心33为中心而与对准场所16相反的一侧的场所设为成膜场所15，则成膜源移动装置31与辅助拍摄装置45配置于能够与成膜场所15相面对的场所，主拍摄装置35与基板移动装置27配置于能够与对准场所16相面对的场所。

从输送室12搬入到成膜室11的内部的成膜对象物首先被配置于基板移动装置27。

图3（a）的附图标记5a表示配置于基板移动装置27的成膜对象物。

在成膜对象物5a与掩模4a、4b上分别设有对准标记，若利用主拍摄装置35，拍摄基板移动装置27上的成膜对象物5a的对准标记和掩模4a的对准标记，并将表示拍摄结果的信号输出到主控制装置36，则利用主控制装置36，根据拍摄结果中的对准标记的相对的位置关系，求出位于基板移动装置27上的成膜对象物5a和掩模4a之间的相对的位置、与理想的相对的位置之间的对准场所16上的误差即第一位置误差。

基板移动装置27由主控制装置36来控制。

在主控制装置36中存储有第一、第二基准值，利用主控制装置36，比较第一位置误差与第一基准值，在第一位置误差比第一基准值大的情况下，使成膜对象物5a与掩模4a相对地移动而减小位置误差，借助主拍摄装置35的拍摄再次求出第一位置误差。

这样，主控制装置36进行如下对位工序，该对位工序重复进行借助主拍摄装置35的拍摄求出第一位置误差、将第一位置误差与第一基准值比较、以及在第一位置误差比第一基准值大的情况下使成膜对象物5a与掩模4a相对地移动而减小位置误差，在第一位置误差达到第一基准值以下时，视为成膜对象物5a与掩模4a成为已完成对位的状态，使成膜对象物5a下降而将成膜对象物5a配置在掩模4a上。

在基板支架34a、34b上设有保持装置47a、47b，对准场所16上的掩模4a、4b、以及以相对于掩模4a、4b进行了对位的状态配置在掩模4a、4b上的成膜对象物5a、5b被保持装置47a、47b夹持，并利用保持装置47a、47b固定于基板支架34a、34b。将该状态表示在图2（a2）、图2（b2）、图3（b）中。

由于基板支架34a、34b被固定于旋转装置21，因此固定于基板支架34a、34b的成膜对象物5a、5b被固定于旋转装置21。

这里，保持装置47a、47b是将以对位后的状态配置在掩模4a、4b上的成膜对象物5a、5b与掩模4a、4b一同按压而保持于旋转装置21的装置，保持装置47a、47b可以是利用弹簧按压而固定的装置或也可以是利用粘合片而将掩模4a、4b和成膜对象物5a、5b粘合而固定于旋转装置21的装置。

另外，保持装置47a、47b也可以设成，预先将旋转装置21用被磁体吸引的磁性材料形成，将保持装置47a、47b所具有的磁体配置于在掩模4a、4b上配置的成膜对象物5a、5b上，通过在磁体与旋转装置21之间产生吸引力，从而将掩模4a、4b与配置在掩模4a、4b上的成膜对象物5a、5b固定于旋转装置21。

接下来，若旋转装置21以旋转中心33为中心旋转，则多个（这里是二个）基板支架34a、34b与基板支架34a、34b上的掩模4a、4b一同如图3（c）所示那样，以相同的旋转中心33为中心向相同的方向旋转相同的角度。

若旋转装置21旋转180度，则如图4（d）所示，之前位于对准场所16的基板支架34a移动到成膜场所15，之前位于成膜场所15的基板支架34b移动到对准场所16。

此时，由于掩模4a与配置在该掩模4a上的成膜对象物5a一同旋转，因此即使增大旋转装置21的旋转速度，也不会在掩模4a与配置在该掩模4a上的成膜对象物5a之间产生位置偏移，维持对位的状态。

成膜源移动装置31遍及与成膜场所15相面对的场所以及成膜场所15的两旁的场所地配置，成膜源22利用成膜源移动装置31，能够通过与成膜场所15相面对的场所。

在成膜源22的表面中的、能够与成膜场所15相面对的位置设有释放孔23，从释放孔23释放成膜材料的微小粒子。

成膜材料的微小粒子可以在成膜源22的内部生成，也可以将利用另一装置生成的微小粒子移动到成膜源22而从成膜源22的释放孔23释放。

位于成膜场所15上的掩模4a的单面在基板支架34a的贯通孔49a的底面下露出。

在旋转装置21旋转180度之后，成为静止时，在成膜场所15静止的掩模4a的对准标记与该掩模4a上的成膜对象物5a的对准标记被辅助拍摄装置45拍摄，拍摄结果被输出到辅助控制装置46。

辅助控制装置46根据位于成膜场所15的掩模4a与成膜对象物5a之间的相对的位置关系，求出作为成膜场所15上的位置误差的第二位置误差，将第二位置误差与第二基准值比较，将比较结果输出到主控制装置36。

主控制装置36在第二位置误差为第二基准值以下的情况下，一边使成膜源22释放微小粒子，一边开始借助成膜源移动装置31进行的移动。

在与第一位置误差比较的第一基准值、和与第二位置误差比较的第二基准值为相同的值的情况下，若第二位置误差比第二基准值大，则由于旋转装置21的高速旋转与紧急停止，导致被旋转的掩模4a与成膜对象物5a的相对位置变化，位置误差变大。

若第二位置误差比第二基准值大，则主控制装置36不开始成膜源22的移动而使旋转装置21旋转，使位于成膜场所15的掩模4a与成膜对象物5a返回到对准场所16。

然后，解除由保持装置47a进行的保持，使成膜对象物5a成为相对于掩模4a、旋转装置21能够移动的状态，接着，主控制装置36使基板移动装置27动作，使成膜对象物5a离开掩模4a，进行上述对位工序，在第一位置误差达到第一基准值以下时，视为成膜对象物5a与掩模4a成为完成了对位的状态，使成膜对象物5a下降而配置到掩模4a上，使旋转装置21旋转，从对准场所16移动到成膜场所15。

然后，利用辅助拍摄装置46拍摄位于成膜场所15的成膜对象物5a与掩模4a，求出第二位置误差，与第二基准值比较，在比第二基准值大的情况下，不进行成膜工序而使成膜对象物5a与掩模4a返回对准场所16，在第二基准值以下的情况下，开始成膜工序。

这样，在再次进行了对位的情况下和未进行对位的情况下，从对准场所16旋转移动到成膜场所15的掩模4a与成膜对象物5a之间的位置误差都被作为第二位置误差而检测出，并与第二基准值进行比较。

图4（e）示出了一边释放微小粒子一边开始移动的成膜源22与成膜对象物5a相面对之前的状态。

若成膜源22一边从释放孔23释放成膜材料的微小粒子，一边到达与成膜场所15相面对的场所，则释放出的微小粒子到达成膜场所15。

在成膜场所15，在基板支架34a的贯通孔49a中露出掩模4a的表面，到达成膜场所15的微小粒子通过基板支架34a的贯通孔49a和掩模4a的窗部，微小粒子到达并附着于成膜对象物5a中的在窗部露出的表面，生长出成膜材料的薄膜。

成膜对象物5a为相对于掩模4a对位后的状态，以相对于掩模4a的位置误差已被减小的状态形成薄膜，因此成膜源22一边与成膜场所15相面对，一边通过与成膜场所15相面对的场所，微小粒子无遗漏地到达掩模4a的露出的部分，在成膜对象物5a上的应形成薄膜的位置准确地形成薄膜。

到成膜源22通过与成膜场所15相面对的场所之前，利用基板搬出搬入装置25向成膜室11的内部搬入未成膜的成膜对象物5b，并配置到基板移动装置27上，当在位于成膜场所15的成膜对象物5a上形成薄膜时，在对准场所16处，利用主拍摄装置35拍摄未成膜的成膜对象物5b的对准标记与位于对准场所16的掩模4b的对准标记，利用主控制装置36检测出第一位置误差，进行对位工序，在成膜源22通过与成膜场所15相面对的场所之前，使对准场所16的掩模4b与成膜对象物5b之间的位置误差变小。

接下来，在维持对位后的状态的同时，将成膜对象物5b配置到位于对准场所16的掩模4b上，并利用保持装置47b固定于旋转装置21，完成了对位的成膜对象物5b与掩模4b被固定于旋转装置21。

图4（f）示出，在对准场所16处，成膜对象物5b被配置在位于对准场所16的掩模4b上，并为被保持装置47b固定的状态，在成膜场所15处，成膜源22为通过了与成膜场所15相面对的场所的状态。

此外，成膜源22不会与对准场所16相面对，成膜源22所释放的微小粒子不会到达位于对准场所16的基板支架34b。因此，不会在被配置于基板移动装置27、对准场所16上的成膜对象物5b上生长出薄膜。

若成膜源22通过与成膜场所15相面对的场所，则在位于成膜场所15上的成膜对象物5a上形成规定膜厚的薄膜。接着，如图5（g）所示，使旋转装置21旋转，如图5（h）所示，将掩模4b和相对于掩模4b完成了对位的未成膜的成膜对象物5b固定而旋转移动到成膜场所15，并且使形成有薄膜的成膜对象物5a与掩模5a一起移动到对准场所16，解除保持装置47a，利用基板移动装置27使形成有薄膜的成膜对象物5a与掩模4a分离之后，利用基板搬出搬入装置25使成膜对象物5a移动到输送室12，然后从输送室12的内部搬出。

图5（i）示出了搬出后的状态。搬出的成膜对象物5a被搬入其它真空室14内。与成膜对象物5a分离的掩模4a未被搬出，而是留在基板支架34a上。

如以上说明那样，在未成膜的成膜对象物5a、5b从对准场所16上旋转移动到成膜场所15上时，预先使成膜源22位于与成膜场所15相面对的场所以外的场所，在成膜对象物5a、5b在成膜场所15上静止之后，若成膜源22一边释放微小粒子一边开始移动，则在成膜场所15上的成膜对象物5a、5b的掩模4a、4b的窗部所在的部分形成薄膜。

当在成膜场所15在成膜对象物5a（或者5b）上形成薄膜时，能够在对准场所16将未成膜的成膜对象物5b（或者5a）配置在基板移动装置27上，并进行相对于掩模4b（或者4a）的对位。

此外，能够设置遮挡微小粒子的防着板，以便在旋转装置21旋转时从成膜源22释放的微小粒子不会到达旋转的成膜对象物5a、5b的表面，或者微小粒子不会到达旋转装置21的位于成膜场所15的部分以外的部分。

另外，在上述例中，虽然进行了对准场所16上的掩模4a、4b和成膜对象物5a、5b之间的对位，但能够在不将掩模4a、4b配置于基板支架34a、34b的情况下将成膜对象物5a、5b配置于基板支架34a、34b而进行成膜工序，在该情况下可以是，预先在基板支架34a、34b形成对准标记，在对位工序中，取代掩模的对准标记，使用基板支架34a、34b的对准标记，利用主拍摄装置35与主控制装置36求出基板支架34a、34b和与基板支架34a、34b相面对的成膜对象物5a、5b之间的第一位置误差，进行成膜对象物5a、5b与基板支架34a、34b之间的对位工序，在第一位置误差为第一基准值以下时，将成膜对象物5a、5b配置在基板支架34a、34b上，利用保持装置47a、47b将成膜对象物5a、5b固定于基板支架34a、34b，使旋转装置21旋转而从对准场所16旋转移动到成膜场所15，在成膜场所15静止，并利用辅助拍摄装置45拍摄成膜对象物5a、5b的对准标记与基板支架34a、34b的对准标记，求出第二位置误差，与第二基准值比较，在第二位置误差为第二基准值以下的情况下开始成膜工序，在比第二基准值大的情况下，使成膜对象物5a、5b从成膜场所15返回到对准场所16，并再次进行对位工序。

另外，在上述各例中，相对于位于对准场所16的掩模4a、4b或者旋转装置21使载置于基板移动装置27的成膜对象物5a、5b移动，然后使第一位置误差减小，但也可以以在基板搬出搬入装置25上载置有成膜对象物5a、5b的状态，使基板搬出搬入装置25移动而减小与位于对准场所16的掩模4a、4b或者旋转装置21之间的第一位置误差，之后将成膜对象物5a、5b配置在对准场所16上的掩模4a、4b上或者基板支架34a、34b上。

如以上说明那样，在成膜场所15成膜并在对准场所16进行对位的情况下，能够在对准场所16配置主拍摄装置35，对成膜对象物5a、5b与掩模4a、4b的对准标记进行拍摄，以该结果利用主控制装置36进行对准作业，并且利用辅助拍摄装置45确认旋转而移动到成膜场所15的成膜对象物5a、5b与掩模4a、4b或者旋转装置21之间的第二位置误差，在第二位置误差比第二基准值大的情况下，重新进行对位。

另外，在第一位置误差较大的情况下，能够由主控制装置36进行减小旋转装置21的旋转速度等调整，减小旋转时产生的成膜对象物5a、5b与掩模4a、4b之间的相对位置的变化。

另外，在成膜对象物5a、5b的第二位置误差较大的情况下，也能够开始成膜工序，并在接下来使进行了对位的成膜对象物5a、5b移动到成膜场所15时，减小旋转速度，从而减小从对准场所16旋转移动到成膜场所15的成膜对象物5a、5b与掩模4a、4b之间的相对位置的变化。

此外，在成膜场所15，设为不能变更成膜对象物5a、5b与掩模4a、4b之间、或者成膜对象物5a、5b与旋转装置21之间的相对位置，以便减小第二位置误差。

此外，在上述实施例中，独立于主控制装置36地设置了辅助控制装置46，但也可以由一个控制装置进行主控制装置36的动作与辅助控制装置46的动作，另外，也可以将主控制装置36与辅助控制装置46视为一个控制装置。

虽然上述成膜材料是有机化合物，但成膜源22也可以释放无机化合物的粒子。

此外，在上述例中，第一、第二位置误差是正数，设为在第一位置误差为第一基准值以下时完成了对位，但也可以设为在第一位置误差比第一基准值小时完成了对位。

另外，在上述例中，在第二位置误差为第二基准值以下时开始成膜工序，但也可以在第二位置误差小于第二基准值时开始成膜工序。

另外，虽然将第一基准值与第二基准值设为相同的数，但在允许因旋转而产生的微小的位置误差的情况下，也可以使第二基准值大于第一基准值。

另外，本发明也包含不具有辅助拍摄装置的发明。

附图标记说明

4a、4b……掩模

5a、5b……成膜对象物

10……薄膜形成装置

15……成膜场所

16……对准场所

21……旋转装置（转台）

22……成膜源

25……基板搬出搬入装置

27……基板移动装置

31……成膜源移动装置

33……旋转中心

34a、34b……基板支架

35……主拍摄装置

36……主控制装置

45……辅助拍摄装置

46……辅助控制装置

48……驱动装置。