本发明属于镀膜再生技术领域，具体涉及一种干刻机台内壁板再生方法。
背景技术：
目前国内平板显示行业和半导体行业蓬勃发展，但是给平板显示行业和半导体行业提供相配套的核心电子零部件制造的企业很少，尤其是国内本土行业更是少之又少，平板显示行业和半导体行业一直面对国外厂商的竞争，尤其是价格的竞争，所以各厂商急需寻找到服务能力强且价格又有竞争力的供应商。当前少有的几家供应商都是日资、韩资、台资企业，而没有国产化的中资公司。液晶面板行业的零部件清洗再生主要在国外完成，国内与之相配套的清洗再生产能仅有一家，且只能配套部件尺寸较小的半导体行业，完全无法满足日益增长的国内需求。半导体及液晶显示屏等制造工序中使用到干法刻蚀工艺，干刻机台的内壁板在工作期间处于高温高真空环境中，并且历经等离子体溅射，气氛的腐蚀和侵害。内壁板是由铝合金材料制成，为了提高其使用寿命和满足工作性能，以往通过铝阳极氧化，形成几个到几百微米的氧化铝薄膜，使其绝缘性、耐蚀性、耐磨性和耐环境腐蚀性能等得提高和改善。但是al的阳极氧化效果并不理想，产生膜厚不均匀多孔性膜氧化铝膜，氧化铝膜的性能并不能满足当前液晶面板和半导体产品生产的环境苛刻的要求。
技术实现要素：
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提供一种干刻机台内壁板再生方法，目的是提高干刻机台内壁板的使用寿命和工作性能。
为了实现上述目的，本发明采取的技术方案为：
一种干刻机台内壁板再生方法，所述再生方法是将内壁板依次经喷砂、阳极氧化镀膜和等离子喷涂氧化钇镀膜后，再经过超声清洗、烘干后得到镀膜再生的内壁板。
所述再生方法还包括在喷砂之前对内壁板依次进行酸洗、水洗和干燥的步骤。
所述酸洗的时间为8～12s。
所述喷砂的压力为0.1～0.2mpa，喷砂高度为一米。
所述阳极氧化镀膜是对内壁板工件镀40～45μm厚的三氧化二铝薄膜。
所述等离子喷涂氧化钇镀膜的膜厚度为200～250μm。
所述等离子喷涂氧化钇镀膜的工艺参数为：喷涂功率为28～30kw，主气为氩，辅气为氦，载气为氩，主气、辅气与载气的压力分别为0.344～0.448mpa、0.345～0.379mpa和0.137～0.276mpa，喷涂距离为125～130mm，喷涂扫描间距设为2mm，喷涂速度设为900～1100mm/sec。
所述内壁板工件的非喷涂面采用胶带包敷。
本发明的有益效果：本发明通过al2o3膜层作为喷涂层和内壁板基体之间的过渡层，使得涂层的结合强度更大，更为致密，通过各再生步骤中的协同配合，显著提高了干刻工艺陶瓷壁板的使用寿命和工作性能，硬度更高，耐磨、耐热、耐腐蚀性、绝缘性能更为优异，制造工艺更为安全环保，薄膜性能优异，降低了生产成本，提高了效率。
具体实施方式
下面通过对实施例的描述，对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明，目的是帮助本领域的技术人员对本发明的构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解，并有助于其实施。
一种干刻机台内壁板再生方法，该再生方法是将内壁板先进行酸洗、水洗和干燥，之后依次经喷砂、阳极氧化镀膜和等离子喷涂氧化钇镀膜后，再经过超声清洗、烘干后得到镀膜再生的内壁板。
下面通过具体的优选实施例进行详细说明：
实施例1
首先，对干刻机台内壁板部件进行简单清洗，采用浓度(体积分数)为19％的混合酸液(hno3为12％，hf为7％)短暂(10s左右)浸渍去除表面脏污，用纯水进行二次清洗，用气枪吹干清洗好的工件。然后，对内壁板工件非喷涂面用喷涂专用胶带包敷，然后采用人造刚玉对内壁板喷砂，喷砂压力调至0.1mpa，喷砂高度(出砂的枪头至工件表面的垂直距离)为1米，先喷一遍，粗糙度大于3.0um即可。喷砂完毕后，用纯水清洗内壁板工件，之后用气枪将其吹干。接着采用阳极氧化工艺对内壁板工件镀膜面镀41μm厚的al2o3薄膜。最后用喷涂专用胶带包敷，使其不需要喷涂的面全部用胶带遮挡。贴好膜将内壁板工件固定在喷涂室，用y2o3粉末进行等离子喷涂，喷涂的工艺参数为：喷涂功率设为30kw，主气(ar)、辅气(he)、载气(ar)分别设为0.448mpa，0.345mpa，0.276mpa，喷涂距离设为130mm，喷涂扫描间距设为2mm,喷涂速度设为1000mm/sec，喷涂次数因喷涂膜厚而定，当预期膜厚为200～250um时，大约需要喷涂16次左右，膜厚沉积速率大约为12～16μm/次，前期沉积速率低，膜厚超过100μm时，沉积速率接近稳定。喷涂完毕，轻轻拆除喷涂胶带。重复以上步骤，喷涂其余需要喷涂的面。待所有需要喷涂的面喷涂完毕后，将内壁板工件进行超声波清洗，最后，烘干即可。
实施例2
首先，对干刻机台内壁板部件进行简单清洗，采用浓度(体积分数)为19％的混合酸液(hno3为12％，hf为7％)短暂(10s左右)浸渍去除表面脏污，用纯水进行二次清洗，用气枪吹干清洗好的工件。然后，对内壁板工件非喷涂面用喷涂专用胶带包敷，然后采用人造刚玉对内壁板喷砂，喷砂压力调至0.2mpa，喷砂高度(出砂的枪头至工件表面的垂直距离)为1米，先喷一遍，粗糙度大于3.0um即可。喷砂完毕后，用纯水清洗内壁板工件，之后用气枪将其吹干。接着采用阳极氧化工艺对内壁板工件镀膜面镀45μm厚的al2o3薄膜。最后用喷涂专用胶带包敷，使其不需要喷涂的面全部用胶带遮挡。贴好膜将内壁板工件固定在喷涂室，用y2o3粉末进行等离子喷涂，喷涂的工艺参数为：喷涂功率设为29kw，主气(ar)、辅气(he)、载气(ar)分别设为0.414mpa，0.379mpa，0.193mpa，喷涂距离设为125mm，喷涂扫描间距设为2mm,喷涂速度设为1100mm/sec，喷涂次数因喷涂膜厚而定，当预期膜厚为200～250um时，大约需要喷涂16次左右，膜厚沉积速率大约为12～16μm/次，前期沉积速率低，膜厚超过100μm时，沉积速率接近稳定。喷涂完毕，轻轻拆除喷涂胶带。重复以上步骤，喷涂其余需要喷涂的面。待所有需要喷涂的面喷涂完毕后，将内壁板工件进行超声波清洗，最后，烘干即可。
上述两个实施例经检测，涂层与基体(内壁板)之间的粘合力高达10～15mpa，气孔率为5～6％，致密性，耐腐蚀性良好。
以上对本发明进行了示例性描述。显然，本发明具体实现并不受上述方式的限制。只要是采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进；或未经改进，将本发明的上述构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本发明的保护范围之内。