技术总结
本实用新型公开了一种在腔室内将化学反应气体水解产生二氧化硅粒子在晶圆片上沉积形成硅膜的可消除火焰水解缺陷的沉积装置，包括：装配晶圆片使其旋转的转台，以隔板为准形成于隔板两旁的多个腔室，位于多个腔室内部中心上部并包括使含氧气和氢气的燃气反应产生火焰的喷炬，喷炬被装配在喷炬臂上，喷炬臂被电机驱动旋转，将通过燃气反应产生并未沉积在晶圆片上的硅粒子吸入排出的吸入排出装置，配备于腔室一侧，利用激光组测定晶圆片沉积厚度的激光测定装置部；本实用新型具备多个腔室，喷炬在持续火焰的状态下在各个腔室的转台之间相互交替作业，给位于转台上部的晶圆片连续涂覆，从而使生产工艺稳定化，并提升了产品的产量。
技术研发人员：金正焕
受保护的技术使用者：金正焕
文档号码：201720144914
技术研发日：2017.02.17
技术公布日：2017.10.20