1.一种纳米抗污抛光机，包括机架(1)，所述机架(1)上设有输送机构(2)，所述机架(1)包括有工作平台，所述工作平台上设有输送带，所述输送机构(2)驱动输送带循环往复运动，所述机架(1)上还设有支撑架(11)，所述支撑架(11)横跨在工作台的两端，所述支撑架(11)的横梁上安装有抛光系统(3)，其特征在于：所述抛光系统(3)包括旋转平台(31)，所述旋转平台(31)相对于横梁做旋转运动；所述旋转平台(31)上安装有多个抛刷装置(32)，多个抛刷装置(32)分布在旋转平台(31)的端面上，所述抛刷装置(32)包括有公转盘(321)，所述公转盘(321)上安装有多个的抛光机构(33)，所述抛光机构(33)包括安装基板(331)与磨轮(332)。
2.根据权利要求1所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：所述抛刷装置(32)还包括升降机构(322)，所述升降机构(322)安装在旋转平台(31)上，所述公转盘(321)安装在升降机构(322)上。
3.根据权利要求2所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：所述升降机构(322)包括滑动套、主轴与驱动气缸，所述驱动气缸带动主轴沿着滑动套上下移动，所述公转盘(321)与主轴的下端固定连接。
4.根据权利要求3所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：所述升降机构(322)还包括限位块，所述限位块设置在滑动套上。
5.根据权利要求1所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：所述安装基板(331)与磨轮(332)之间通过搭扣方式安装。
6.根据权利要求5所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：所述安装基板(331)与磨轮(332)之间还设有减震垫片。
7.根据权利要求1-6任意一项所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：所述支撑架(11)与抛光系统(3)均有两个，两个抛光系统(3)沿着输送带的前进方向前后分布，两个抛光系统(3)的旋转平台(31)的转动方向相反。
8.根据权利要求7所述的纳米抗污抛光机，其特征在于：位于前方的抛光系统(3)的磨轮(332)的颗粒度大于后方的抛光系统的磨轮(332)的颗粒度。