技术总结
本实用新型公开了一种纳米抗污抛光机，包括机架，所述机架上设有输送机构，所述机架包括有工作平台，所述工作平台上设有输送带，所述机架上还设有支撑架，所述支撑架的横梁上安装有抛光系统，所述抛光系统包括旋转平台，所述旋转平台相对于横梁做旋转运动；所述旋转平台上安装有多个抛刷装置，多个抛刷装置分布在旋转平台的端面上，所述抛刷装置包括有公转盘，所述公转盘上安装有多个的抛光机构，所述抛光机构包括安装基板与磨轮。本实用新型通过利用旋转平台以及公转盘带动磨轮做两级的回旋运动，而磨轮本身又做高速的自转运动，由于取消了导致停留时间不均的摆动机构，且磨轮执行的是较为复杂的公转与自转的运动，从而使得抛刷更加均匀。
技术研发人员：杨扬;李松
受保护的技术使用者：广东赛因迪科技股份有限公司
技术研发日：2017.11.22
技术公布日：2018.07.13