本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种用于镀制防指纹膜的钼舟。
背景技术：
现有技术中，钼舟主要用于涂层技术、电子工业、电力工程，如电容器烧结、核燃料烧结及热电偶外壳等。通常情况下，钼舟都是由相应的钼板折弯后再焊接和铆接制成。当前光学蒸镀设备镀制防指纹膜时，常采用的是电阻加热蒸发方式，采用变压器供电于真空墙体内部的电极铜杆上，电极杆两端通过金属钼舟连接，钼舟中间有凹槽用于放置盛放防指纹膜药丸的坩埚，该坩埚一般为红铜或不锈钢材质，防指纹膜药丸浸入坩埚内的丝网内，电极杆通电后，钼舟发热热量传入坩埚中，使得坩埚内的药丸蒸发附着在产品上成膜。
在生产过程中，由于盛放防指纹膜药丸的坩埚是与钼舟直接接触的，加热时间过长或放置的位置不合理时，容易使坩埚融化粘连在钼舟上，造成生产产品的不良，钼舟报废、防指纹膜药丸浪费的严重问题。
技术实现要素：
针对现有技术中的问题，本实用新型的目的在于提供一种用于镀制防指纹膜的钼舟，避免坩埚直接受热后与钼舟粘连带来的一系列问题。
为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案予以实现：一种用于镀制防指纹膜的钼舟，包括钼板向一侧凹陷成型的凹槽，所述的凹槽内平置有环形陶瓷片，环形陶瓷片的外缘与凹槽的槽壁相抵靠，且所述的环形陶瓷片的内径小于盛放防指纹膜药丸的坩埚的外径。
优选的，所述的环形陶瓷片自其与凹槽槽壁的接触侧向凹槽的中心处斜向布置。
优选的，所述的环形陶瓷片上设有间隔布置的通孔。
优选的，所述的环形陶瓷片的厚度为1～2mm。
与现有技术相比，本实用新型提供的钼舟中设置有环形陶瓷片，钼舟不与盛放防指纹膜药丸的坩埚相接触，既能正常镀制防指纹膜，又可避免钼舟温度过高导致坩埚融化变形，避免了钼舟与坩埚粘连后导致其报废，延长了钼舟的使用寿命。
附图说明
图1为本实用新型提供的用于镀制防指纹膜的钼舟的示意图；
图2为图1中钼舟的侧向剖视图；
图3为本实用新型提供的另一种用于镀制防指纹膜的钼舟的示意图；
图4为图3中A位置的示意图；
图中标号说明：1-坩埚，10-钼板，11-凹槽，20-环形陶瓷片，21-通孔。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐明本实用新型。
如图1、2所示，本实用新型提供了一种用于镀制防指纹膜的钼舟，包括钼板10向一侧凹陷成型的凹槽11，所述的凹槽11内平置有环形陶瓷片20，环形陶瓷片20的外缘与凹槽11的槽壁相抵靠，且所述的环形陶瓷片20的内径小于盛放防指纹膜药丸的坩埚1的外径。
现有技术中，用于盛放防指纹膜药丸的坩埚1的材质一般为红铜或者不锈钢，在钼舟高温的持续作用下会发生变形，甚至是熔融粘连到钼舟上，不仅导致镀制的防指纹膜的产品不良，严重的还会导致钼舟中的坩埚残留无法清理，使得钼舟报废，不得不更换钼舟造成设备的维护成本上升。同样的，在镀制过程中发生坩埚1的变形还会导致防指纹膜药丸的浪费。
本实用新型提供的用于镀制防指纹膜的钼舟，在钼舟的凹槽11中放置环形陶瓷片20，然后将盛放防指纹膜药丸的坩埚1放置到环形陶瓷片20上，在通电加热后，通过钼舟中心与周围的热辐射加热防指纹膜药丸，由于环形陶瓷片20的中心为空心，因此热辐射的热量足够用于蒸发防指纹膜药丸，避免了镀膜的过程中，坩埚1与钼舟的直接接触，从而防止了温度过高引起的坩埚1与钼舟的粘连现象。
进一步的，结合图3、4所示的本实用新型中另一种用于镀制防指纹膜的钼舟，所述的环形陶瓷片20自其与凹槽11槽壁的接触侧向凹槽11的中心处斜向布置。如此，环形陶瓷片20在凹槽11内放置的更加稳定，并且易于被夹持以方便放置及拿出操作。
进一步的，所述的环形陶瓷片20上设有间隔布置的通孔21。该通孔21的设置使得环形陶瓷片20与凹槽11围设的钼舟腔体与外界相通，使得腔体内外的热量均匀，更利于防指纹药丸的蒸镀。
进一步的，所述的环形陶瓷片20的厚度为1～2mm。环形陶瓷片的厚度过厚时，不利于热量的传递，而厚度过薄时，强度过低而易碎。
本实用新型提供的钼舟，结构简单，环形陶瓷片20与钼舟本体是分体式设计，通过该环形陶瓷片20的设置，有效的防止了传统的钼舟与坩埚1直接接触导致的温度太高而引起坩埚1融化变形的现象，延长了钼舟的使用寿命。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的特点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型的范围内。本实用新型要求保护的范围由所附的权利要求书及其等效物界定。