技术特征：
技术总结
本发明涉及薄膜制造技术领域，尤其涉及一种薄膜沉积工艺控制系统及方法，用于薄膜沉积装置对薄膜沉积速率进行测试以及工艺控制，所述薄膜沉积装置包括激光器、真空腔，靶材模块以及基片加热组件，所述测试系统包括：厚度测试模块以及与所述厚度测试模块信号连接的计算机设备；所述厚度测试模块包括设置在所述真空腔内的晶振测试组件以及与所述晶振测试组件传动连接的水平驱动装置，所述水平驱动装置用于驱动所述晶振测试组件在所述真空腔内预设的测试网格中水平移动，所述晶振测试组件用于测试每个网格点的薄膜生长厚度，所述测试网格位于薄膜生长平面上。本发明能提高薄膜生长效率，使得大面积薄膜沉积的可控性和重复性提供保障。
技术研发人员：张晓军
受保护的技术使用者：张晓军
技术研发日：2018.12.26
技术公布日：2019.06.14