新型砂带磨抛光机的制作方法

文档序号:16624453发布日期:2019-01-16 00:15阅读:371来源:国知局
新型砂带磨抛光机的制作方法

本实用新型属于抛光机械领域,具体涉及一种新型砂带磨抛光机。



背景技术:

在汽轮机和发电机的转子及主轴的加工过程中,需要对转子及主轴的表面进行一定的抛光。抛光机是用于抛光的专用机械,旧有的抛磨是采用电机控制砂布轮的方式进行抛磨。这样的方式,砂布轮与工件之间靠离心力进行软接触,抛磨出的产品粗糙度高,平整度差,抛磨的质量也不高。



技术实现要素:

本实用新型所要解决的技术问题便是针对上述现有技术的不足,提供一种新型砂带磨抛光机,提高抛磨后产品的粗糙度和平整度。

本实用新型所采用的技术方案是:一种新型砂带磨抛光机,包括长方体形的底板,所述底板上表面平行设置有两组输送组件,两组所述输送组件均包括通过输送支架设置的输送主动辊和通过输送支架设置的输送从动辊,所述输送主动辊和输送从动辊之间通过传送皮带连接,所述输送主动辊和输送从动辊上设有输送带,所述输送主动辊侧面设有驱动其旋转的输送电动机,所述底板上表面位于中部的位置设有与输送带垂直设置的抛光支架,所述抛光支架其中一端靠近顶部的位置设有滑轨,所述抛光支架上位于滑轨其中一端的位置设有与滑块连接的移动气缸,所述移动气缸侧面设有驱动其活塞杆端伸缩的移动电动机,所述滑轨内通过滑块滑动连接有抛光组件,所述抛光组件包括与滑块连接的安装架,所述安装架其中一端设有抛光电动机,所述安装架另一端设有主动胶轮、被动轮和张紧轮,所述主动胶轮、被动轮和张紧轮之间设有砂带,所述主动胶轮和被动轮平行设置,所述张紧轮设置于主动胶轮和被动轮上方的位置,所述主动胶轮与抛光电动机连接。

其中一个实施例中,所述输送主动辊和输送从动辊形状和尺寸一致。

其中一个实施例中,所述滑轨通过螺栓组件与抛光支架连接。

其中一个实施例中,所述滑轨两端设有限位块。

本实用新型的有益效果在于:

1、将砂布轮改为砂带,提高抛磨的粗糙度和平整度;

2、增加张紧轮,对砂带起到传动与支撑作用,保障砂带与工件之间的接触力度,以确保抛磨的平整度;

3、主动胶轮提供动力和摩擦力,确保砂带的运行稳定。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图;

图2为本实用新型主动胶轮、被动轮、张紧轮和砂带连接示意图。

图中:1、底板;2、限位块;3、输送主动辊;4、输送从动辊;5、传送皮带;6、输送带;7、输送电动机;8、抛光支架;9、滑轨;10、移动气缸;11、移动电动机;12、滑块;13、安装架;14、抛光电动机;15、主动胶轮;16、被动轮;17、张紧轮;18、砂带。

具体实施方式

下面将结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。

如图1和图2所示,一种新型砂带18磨抛光机,包括长方体形的底板1,所述底板1上表面平行设置有两组输送组件,两组所述输送组件均包括通过输送支架设置的输送主动辊3和通过输送支架设置的输送从动辊4,所述输送主动辊3和输送从动辊4之间通过传送皮带5连接,所述输送主动辊3和输送从动辊4上设有输送带6,所述输送主动辊3侧面设有驱动其旋转的输送电动机7,所述底板1上表面位于中部的位置设有与输送带6垂直设置的抛光支架8,所述抛光支架8其中一端靠近顶部的位置设有滑轨9,所述抛光支架8上位于滑轨9其中一端的位置设有与滑块12连接的移动气缸10,所述移动气缸10侧面设有驱动其活塞杆端伸缩的移动电动机11,所述滑轨9内通过滑块12滑动连接有抛光组件,所述抛光组件包括与滑块12连接的安装架13,所述安装架13其中一端设有抛光电动机14,所述安装架13另一端设有主动胶轮15、被动轮16和张紧轮17,所述主动胶轮15、被动轮16和张紧轮17之间设有砂带18,所述主动胶轮15和被动轮16平行设置,所述张紧轮17设置于主动胶轮15和被动轮16上方的位置,所述主动胶轮15与抛光电动机14连接。

本实施例中,所述输送主动辊3和输送从动辊4形状和尺寸一致。

本实施例中,所述滑轨9通过螺栓组件与抛光支架8连接。

本实施例中,所述滑轨9两端设有限位块2。

本装置设置有两组输送组件,可根据需求选择其中一条为抛光用的主输送组件,另一条备用。通过移动电动机11驱动移动气缸10,从而带动抛光组件移动到合适的位置。抛光开始,输送电动机7驱动输送主动辊3运转,传送皮带5带动输送从动辊4运转,从而带动传送皮带5运转,将需要抛光的转子及主轴输送带6抛光组件下方。抛光电动机14驱动主动胶轮15旋转,从而带动被动轮16旋转。由于在主动胶轮15和被动轮16之间设有张紧轮17,且张紧轮17位置高于主动胶轮15和被动轮16,会对砂带18起到传动与支撑作用,保障砂带18与工件之间的接触力度,以确保抛磨的平整度。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的具体实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。

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