本实用新型涉及石材磨具领域,尤其涉及一种石材细磨研磨盘。
背景技术:
磨具是用以磨削、研磨和抛光的工具,大部分的磨具是用磨料加上结合剂制成的人造磨具,也有用天然矿岩直接加工成的天然磨具。在使用时通常将磨具安装于喷水转头上,随后对带有磨料的石材进行打磨加工。
然而,在对石料进行打磨加工时,时常由于磨块黏贴的不够牢固导致磨块受到冲击时掉落,当磨块使用到末端时,由于排料空间减小使磨料、石粉与水堆积,导致磨块无法与石料紧密贴合,使磨削效果变差。
技术实现要素:
(一)要解决的技术问题
为了解决现有技术的上述问题,本实用新型提供一种石材细磨研磨盘。
(二)技术方案
一种石材细磨研磨盘,其结构包括基体盘、磨块、凸块、安装加水孔、导槽、识别块、固定孔、防脱层,所述基体盘正表面向外延伸形成凸块,所述凸块正表面与磨块底部表面相连接,所述基体盘内部设有安装加水孔,所述导槽设于基体盘背部表面,所述基体盘背部表面设有识别块,所述固定孔与导槽相连接,所述防脱层设于凸块正表面。
进一步地,所述凸块正表面形成有防脱层,所述防脱层外表面安装有磨块并且采用粘合连接。
进一步地,所述安装加水孔与基体盘位于同一轴心。
进一步地,所述磨块通过凸块与基体盘相连接并且相互垂直。
进一步地,所述基体盘为圆柱体结构。
进一步地,所述固定孔内表面设有内螺纹。
(三)有益效果
本实用新型的有益效果是:结构简单,通过防脱层对磨块有效的加固,防止在加工石材时出现磨块脱落的现象,当磨块使用到末端时排料空间减小,可以通过凸块与磨块所形成的空间对磨料、石粉与水进行排屑处理,有效的防止磨料、石粉与水将基体盘顶起,避免了磨块无法与石料紧密贴合的现象发生。
附图说明
图1为本实用新型结构立体结构视图;
图2为本实用新型结构正视图;
图3为本实用新型结构后视图;
图4为本实用新型结构拆分状态视图。
【附图标记说明】
1:基体盘;
2:磨块;
3:凸块;
4:安装加水孔;
5:导槽;
6:识别块;
7:固定孔;
8:防脱层。
具体实施方式
为使本实用新型实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施方式中的附图,对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施方式是本实用新型一部分实施方式,而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式,都属于本实用新型保护的范围。因此,以下对在附图中提供的本实用新型的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围,而是仅仅表示本实用新型的选定实施方式。基于本实用新型中的实施方式,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式,都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设有”、“连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
实施例:
一种石材细磨研磨盘,如图1、图2、图3、图4所示,其结构包括基体盘1、磨块2、凸块3、安装加水孔4、导槽5、识别块6、固定孔7、防脱层8,所述基体盘1正表面向外延伸形成凸块3,所述凸块3正表面与磨块2底部表面相连接,所述基体盘1内部设有安装加水孔4,所述导槽5设于基体盘1背部表面,所述基体盘1背部表面设有识别块6,所述固定孔7与导槽5相连接,所述防脱层8设于凸块3正表面,所述凸块3正表面形成有防脱层8,所述防脱层8外表面安装有磨块2并且采用粘合连接,所述安装加水孔4与基体盘1位于同一轴心,所述磨块2通过凸块3与基体盘1相连接并且相互垂直,所述基体盘1为圆柱体结构,所述固定孔7内表面设有内螺纹。
实施时,将基体盘1通过安装加水孔4安装于喷水转头上,并通过固定孔7进行加固,随后通过磨块2对石材进行打磨,通过防脱层8对磨块2进行加固,防止磨块2脱落,当磨块2使用到末端时排料空间减小,通过凸块3与磨块2所形成的空间对磨料、石粉与水进行排屑处理,防止磨料、石粉与水将基体盘1顶起,导致磨块2无法与石料紧密贴合的现象发生。
上述实施例只用来说明本实用新型的具体实施原理和功效,而非用来限制本实用新型。任何熟悉本行业技术的人士都可以在本实用新型阐述的方法的基础上加以修改或修饰,因此凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变,仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。