1.一种掩膜框架组件，其特征在于，包括框架本体，所述框架本体包括第一表面，以及沿垂直于所述第一表面贯穿所述框架本体的蒸镀区；
位于所述框架本体上的至少一对凹槽，同一对凹槽中的两个凹槽分别位于所述蒸镀区相对的两侧，每个所述凹槽包括至少两个开口，一个开口贯穿所述第一表面，另一个开口贯穿所述框架本体围成所述蒸镀区的内侧面，且所述两个开口相连通；
至少一对焊接件，每对所述焊接件位于一对所述凹槽内，且每个所述焊接件位于一个所述凹槽内；
至少一条支撑条，每条所述支撑条的两端分别固定于一对所述焊接件朝向所述第一表面的上表面，所述另一个开口用于避让所述支撑条；其中，当所述焊接件与所述凹槽的底面接触时，所述支撑条背离所述焊接件的上表面低于所述第一表面或与所述第一表面齐平；
伸入所述凹槽内的锁紧件，所述锁紧件用于将所述焊接件固定于所述凹槽的不同深度位置处，以调整所述焊接件朝向所述第一表面的上表面与所述第一表面的高度差。
2.根据权利要求1所述的掩膜框架组件，其特征在于，所述框架本体还包括：远离所述蒸镀区的外侧面；
所述锁紧件自所述框架本体的所述内侧面或所述外侧面插入所述框架本体内，且将所述焊接件抵持于所述凹槽的侧壁上。
3.根据权利要求2所述的掩膜框架组件，其特征在于，所述掩膜框架组件包括：自所述框架本体的所述内侧面或所述外侧面贯穿、且与所述凹槽连通的第一通孔，所述第一通孔的内壁设置有内螺纹；
所述锁紧件的表面设置有外螺纹，所述锁紧件位于所述通孔内，所述内螺纹与所述外螺纹相互配合。
4.根据权利要求3所述的掩膜框架组件，其特征在于，所述框架本体还包括第一导流孔，以及与所述第一表面相对的第二表面；所述第一导流孔自所述第一表面和/或所述第二表面贯穿、且与所述第一通孔连通。
5.根据权利要求1所述的掩膜框架组件，其特征在于，所述框架本体还包括：与所述第一表面相对的第二表面；
所述锁紧件自所述框架本体的第二表面插入所述框架本体内，且部分伸入所述焊接件内。
6.根据权利要求5所述的掩膜框架组件，其特征在于，所述焊接件包括盲孔，所述盲孔的开口朝向所述第二表面，所述盲孔的内壁设置有内螺纹；
所述锁紧件表面设置有外螺纹，且所述内螺纹与所述外螺纹相互配合。
7.根据权利要求5所述的掩膜框架组件，其特征在于，所述焊接件包括：自所述框架本体的第二表面贯穿、且与所述凹槽连通的第二通孔；
所述锁紧件位于所述第二通孔内。
8.根据权利要求7所述的掩膜框架组件，其特征在于，所述框架本体还包括：远离所述蒸镀区的外侧面；
所述掩膜框架组件还包括第二导流孔，所述第二导流孔自所述框架本体的所述内侧面或所述外侧面贯穿、且与所述第二通孔连通。
9.根据权利要求2或5所述的掩膜框架组件，其特征在于，所述焊接件包括平坦部、以及自所述平坦部延伸出、且朝向所述第二表面延伸的定位部；
所述凹槽包括支撑槽、以及贯穿所述支撑槽的底面、且与所述支撑槽连通的定位槽，所述定位部至少部分位于所述定位槽内，所述平坦部位于所述支撑槽内。
10.根据权利要求9所述的掩膜框架组件，其特征在于，所述掩膜框架组件还包括垫片，所述垫片位于所述支撑槽的底面上，所述平坦部位于所述垫片上。