专利名称：多元素填充式组合靶的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及金属材料的镀覆设备，特别是真空镀膜设备。
在真空镀膜技术中，无论是溅射法或离子镀法，都需要靶材，用什么靶材，就获得什么材料的薄膜或这种材料的化合物薄膜，因此，若获得合金薄膜或该合金化合物薄膜，就需要用合金靶材。目前，对于多元成分靶材，包括金属与非金属靶材，有以下几种组成方式1.多元成分共熔一体，但有时很难熔炼；2.多元成分的粉末冶金，但使用中容易热裂；3.机械拼靶，此种靶的组成方式多以扇形组合为主，即把不同组元的材料，以扇形面积组合，用扇形面积比控制各组元材料成分比，此种靶加工难度大，而且不易控制成分，并只能采用间接冷却，由于每组元单体面积较大，在某些镀膜工艺中，成分不均匀，都影响了成膜质量，故在应用上有很大局限性。
本实用新型的目的在于避免上述现有技术的不足之处而提供一种易加工、组分比例的组成方式灵活、成膜质量较高的一种新型组合靶。
该实用新型的目的可通过如下的措施达到用主要组元为基材制备靶块，在此靶块上可灵活地填充一种或多种其他组元而形成填充式组合靶。
下面通过附图及实施例作进一步详述
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为
图1的俯视图。
图3为按扇形面积组成的机械拼靶示意图。
图1、2给出了该组合靶的结构示意图。由图可见，在基材(1)上有填充元素(2)，该填充元素可为一种或多种，填充元素可均匀分布或非均匀分布，也可区域分布，因此组成方式较为灵活，组分比例好控制，且好加工，由于可直接冷却，因此成膜质量也较高。图3给出按扇形面积组成的机械拼靶，(1)为A组元，(2)为B组元，由图可见，这种各扇形组元，即不好加工又难以对接，且只能间接冷却，都影响了成膜质量。
本实用新型具有如下优点1.加工容易；2.组分比例组成方式灵活；3.靶可以直接冷却；4.可以拼成较厚的靶；5.长期使用镀膜成分基本保持稳定。
权利要求1.一种用于金属材料镀覆设备的多元素填充式组合靶，其特征在于在主要组元为基材(1)制备的靶块上，有填充元素(2)，该填充元素(2)可为一种或多种其他组元材料，填充元素可均匀分布或非均匀分布，也可区域分布。
专利摘要多元素填充式组合靶属于金属镀覆设备，该靶的特点在于用一种主要组元作为基材制备靶块上填充一种或多种其他组元材料，以获得各类不同组分的合金薄膜或该合金化合物薄膜，该种靶易加工，各组分比例组成方式较为灵活，且可直接冷却，成膜质量较高。
文档编号C23C14/34GK2112637SQ9121720
公开日1992年8月12日 申请日期1991年7月4日 优先权日1991年7月4日
发明者吴北新, 王仁, 杨光耀, 张云汉, 王福柱 申请人:北京钢铁学院分院, 航空航天工业部第五研究院第五一一研究所