r>[0291]其次，进行了磁盘的滑行高度试验。该试验是使检查用磁头的浮起量逐渐地降低以确认产生检查用磁头与磁盘接触的浮起量的试验。其结果，在根据本实施例的磁盘中，从磁盘的内边缘部分到外边缘部分上，即使是浮起量是4nm也不会产生接触。在磁盘的外边缘部分中的滑行高度是3.7nm。
[0292]〈实施例2?3和比较例I〉
[0293]在实施例2?3中，将镜面研磨工序中的研磨液中的研磨砂粒的ζ电位调整为小于等于一 10mV。其它的条件与实施例1是同样的。另一方面，在比较例I中，将镜面研磨工序中的研磨液中的研磨砂粒的ζ电位调整为大于等于一 1mV且小于等于OmV。其它的条件与实施例1是同样的。
[0294]在图4中示出实施例1?3和比较例I中的研磨砂粒的ζ电位与上述的DubofT值的关系。根据图4，证实了在ζ电位小于等于一 1mV的范围内，Duboff值较小，且实施镜面研磨工序后的玻璃衬底I的端部形状是良好的。
[0295]再有，在镜面研磨处理后的清洗工序后使用电泳光散射法对上述Duboff值进行了测定。具体地说，测定了从玻璃衬底(制作Φ 65mm盘的情况)的中心起29.9?31.5mm的范围。
[0296]此外，在使用上述的玻璃衬底I制造垂直磁记录方式的磁盘并实施了与实施例1同样的磁头碰撞试验和滑行高度试验时，在实施例2?3中未发生因磁头的接触引起的碰撞。但是，比较例I发生了因磁头的接触引起的碰撞。根据这一点，可知磁盘用玻璃衬底的端部形状是重要的，证实了如果端部形状差则在制成了磁盘的情况下会发生磁头碰撞。
[0297]〔参考例〕
[0298]接着，说明既设研磨砂粒的ζ电位与实施例1同样又改变了研磨液的pH值等各种条件的情况下的实验例。再有，以下的参考例是相对地比较了各参考例的例子，充分地起到本发明的效果，不对本发明作任何的限定。
[0299]〈参考例I?6〉
[0300]在参考例I?4中，通过调整镜面研磨工序中的研磨液的组成，在大于等于1.0且小于等于3.0的范围内改变了研磨液的pH值。其它的条件与实施例1是同样的。
[0301]另一方面，在参考例5、6中，通过调整镜面研磨工序中的研磨液的组成，在不到
1.0或超过3.0的范围内改变了研磨液的pH值。其它的条件与实施例1是同样的。
[0302]在图5中示出参考例I?6中的研磨液的pH值与研磨加工速度的关系。根据图5，证实了只要研磨液的pH值大于等于1.0且小于等于3.0，就可实现有利的研磨加工速度。
[0303]〈参考例7〉
[0304]在参考例7中，在镜面研磨工序中的研磨液中未含有作为缓冲剂的酒石酸。通过调整在研磨液中含有的硫酸的量，将研磨液的PH值调整为2.0o此外，其它的条件与实施例1是同样的。
[0305]其结果，伴随镜面研磨工序的进行，研磨液的pH值上升，研磨加工速度下降。即，证实了通过在研磨液中混合缓冲剂，可提高磁盘用玻璃衬底和磁盘的生产性。
[0306]〈参考例8〉
[0307]在参考例8中，在预备研磨工序中使用了不含有氧化铈和氧化锆中的任一种的研磨垫。其它的条件与实施例1是同样的。
[0308]其结果，在预备研磨工序结束后的玻璃衬底I的表面上残存了若干缺陷。因而，为了对该玻璃衬底I实施镜面研磨工序以得到与实施例1同样的镜面品质，与需要比实施例1更长的研磨时间。即，证实了通过使用含有氧化铈或氧化锆等的研磨砂粒的研磨垫来实施预备研磨工序可提高磁盘用玻璃衬底和磁盘的生产性。
[0309]〈参考例9〉
[0310]在参考例9中，在预备研磨工序中未从在研磨液中含有的氧化铈研磨砂粒去除粗大粒子。在测定了研磨液时，在研磨液中含有的研磨砂粒的最大值是ΙΟμπι，平均值是
1.6 μ m，D50 值是 1.6 μ m。
[0311]其结果，在预备研磨工序结束后的玻璃衬底I的表面上残存了若干缺陷。因而，为了对该玻璃衬底I实施镜面研磨工序以得到与实施例1同样的镜面品质，需要比实施例1更长的研磨时间。即，证实了通过在实施预备研磨工序时预先从研磨液去除粗大粒子，可提高磁盘用玻璃衬底和磁盘的生产性。
【主权项】
1.一种磁盘用玻璃衬底的制造方法，具有镜面研磨工序，在该镜面研磨工序中，使研磨垫与玻璃衬底的表面接触，对上述玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的镜面研磨液， 其中上述镜面研磨液中含有的研磨砂粒由胶体状二氧化硅粒子制成，并且上述镜面研磨工序包括: 调整镜面研磨液中的上述胶体状二氧化硅粒子的ζ电位，以控制上述研磨液的凝集度或分散度；以及 通过使用包括被调整到ζ电位的胶体状二氧化硅粒子的镜面研磨液来进行镜面研磨，直到被定义为表示得到的玻璃衬底的边缘形状的Duboff值在±10nm的范围以内， 其中上述镜面研磨液呈酸性； 其中上述玻璃衬底含有网眼结构的玻璃骨架和修饰该网眼结构的修饰离子； 其中胶体状二氧化硅粒子的粒径不大于80nm ;并且 其中在上述镜面研磨工序中，隔着上述研磨垫地用上台面和下台面夹住上述玻璃衬底，对上述玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的上述镜面研磨液，通过使上述玻璃衬底与上述上台面和上述下台面相对地移动，对上述玻璃衬底的表面进行镜面研磨； 该方法还包括在上述镜面研磨工序之前预先研磨上述玻璃衬底的表面的预备研磨工序，在上述预备研磨工序中，使研磨垫与上述玻璃衬底的表面接触，对上述玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的预备研磨液，使上述玻璃衬底与上述研磨垫相对地移动以镜面研磨上述玻璃衬底的表面， 其中上述预备研磨工序中含有的上述研磨砂粒是与胶体状二氧化硅粒子不同的、粒径不到4 μ m的氧化钟粒子； 其中上述镜面研磨液含有用于使上述镜面研磨液的PH值保持为恒定的缓冲剂； 其中当被镜面研磨的玻璃衬底的表面粗糙度的算术平均粗糙度(Ra)小于等于0.3nm并且最大峰值(Rp)小于等于2nm时，结束镜面研磨工序； 其中当将从玻璃衬底的中心到端部为止的距离设为100%时，测定在距离玻璃衬底的中心的92.0?96.9%的范围内的、玻璃衬底的主表面中的外周端的区域，从而确定DubofT值，并且 其中在镜面研磨工序中镜面研磨液的pH值保持为I到3之间。
2.如权利要求1中所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于: 将上述镜面研磨液中含有的上述胶体状二氧化硅粒子的ζ电位设为小于等于一 1mV或大于等于+10mV。
3.如权利要求1中所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于: 在上述镜面研磨液的PH值是2.0的情况下，上述胶体状二氧化硅粒子的ζ电位小于等于一 1mV或大于等于+10mV。
4.如权利要求1中所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于: 在上述镜面研磨液的PH值是3.0的情况下，上述胶体状二氧化硅粒子的ζ电位小于等于一 30mV或大于等于+30mV。
5.如权利要求1中所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于: 上述玻璃衬底含有大于等于58重量％且小于等于75重量％的S12、大于等于5重量％且小于等于23重量％的Al2O3、大于等于3重量％且小于等于10重量％的Li2O和大于等于4重量％且小于等于13重量％的Na2O作为主要成分。
6.如权利要求1中所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于: 上述上台面和上述下台面分别由对于酸具有耐蚀性的材料构成。
7.如权利要求1中所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于: 上述预备研磨工序中的上述研磨垫含有氧化锆粒子或氧化铈粒子。
8.一种磁盘的制造方法，其特征在于: 在使用如权利要求1所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法制造的玻璃衬底上形成磁性层O
9.一种垂直磁记录盘的制造方法，其特征在于: 是如权利要求8中所述的磁盘的制造方法，且 在上述玻璃衬底上形成至少I层软磁性层。
10.如权利要求1中所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，还包括: 通过使用含有氧化铈粒子的另一预备研磨液来在镜面研磨工序之前对玻璃衬底进行预备研磨，以获得具有不同于被镜面研磨的玻璃衬底的上翘构造的边缘形状的得到的玻璃衬底， 其中，进行镜面研磨工序使得上翘构造的边缘形状被研磨以具有上述Duboff值。
11.如权利要求1中所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于: 镜面研磨工序的研磨垫为软质的抛光布。
12.如权利要求1中所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于: 以0.20 μ m/分钟?0.28 μ m/分钟之间的研磨加工速度进行镜面研磨工序。
13.如权利要求1中所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于: 磁盘用玻璃衬底被用于浮起高度不高于8nm的磁头。
14.如权利要求1中所述的磁盘用玻璃衬底的制造方法，其特征在于: 酸性镜面研磨液含有缓冲剂并且在镜面研磨中被循环再利用。
15.—种磁盘用玻璃衬底的制造方法，具有镜面研磨工序，在该镜面研磨工序中，使研磨垫与玻璃衬底的表面接触，对上述玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的镜面研磨液， 其中上述镜面研磨液中含有的研磨砂粒由粒径不大于80nm的胶体状二氧化硅粒子制成，并且上述镜面研磨工序包括: 考虑得到的玻璃衬底的边缘形状，调整镜面研磨液中的上述胶体状二氧化硅粒子的ζ电位，以控制上述镜面研磨液的凝集度或分散度；以及 通过使用包括被调整到ζ电位的胶体状二氧化硅粒子的镜面研磨液来进行镜面研磨，直到被定义为表示得到的玻璃衬底的边缘形状的Duboff值在±10nm的范围以内，而胶体状二氧化硅粒子不会凝集， 其中在上述镜面研磨工序中，隔着上述研磨垫地用上台面和下台面夹住上述玻璃衬底，对上述玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的上述镜面研磨液，通过使上述玻璃衬底与上述上台面和上述下台面相对地移动，对上述玻璃衬底的表面进行镜面研磨； 该方法还包括在上述镜面研磨工序之前预先研磨上述玻璃衬底的表面的预备研磨工序，在上述预备研磨工序中，使研磨垫与上述玻璃衬底的表面接触，对上述玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的预备研磨液，使上述玻璃衬底与上述研磨垫相对地移动以镜面研磨上述玻璃衬底的表面， 其中上述预备研磨工序中含有的上述研磨砂粒是与胶体状二氧化硅粒子不同的、粒径不到4 μ m的氧化钟粒子； 其中上述镜面研磨液含有用于使上述镜面研磨液的PH值保持为恒定的缓冲剂； 其中当被镜面研磨的玻璃衬底的表面粗糙度算术平均粗糙度(Ra)小于等于0.3nm并且最大峰值(Rp)小于等于2nm时，结束镜面研磨工序；并且 其中当将从玻璃衬底的中心到端部为止的距离设为100%的情况下，测定在距离玻璃衬底的中心的92.0?96.9%的范围内的、玻璃衬底的主表面中的外周端的区域，从而确定Duboff值，并且 其中在镜面研磨工序中镜面研磨液的pH值保持为I到3之间。
16.一种同时地大量制造数量不少于100的、多个各自用作磁盘的玻璃衬底的方法，该方法具有镜面研磨工序，在该镜面研磨工序中，使研磨垫与各玻璃衬底的表面接触，对上述各玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的镜面研磨液， 其中上述镜面研磨液中含有的研磨砂粒由胶体状二氧化硅粒子制成，并且上述镜面研磨工序包括: 调整镜面研磨液中的上述胶体状二氧化硅粒子的ζ电位，以控制上述研磨液的凝集度或分散度； 通过使用包括被调整到ζ电位的胶体状二氧化硅粒子的镜面研磨液来进行镜面研磨，直到被定义为获得各玻璃衬底的边缘形状的Duboff值在土 1nm的范围以内，在镜面研磨中镜面研磨液的pH值保持为I到3之间； 其中上述玻璃衬底含有网眼结构的玻璃骨架和修饰该网眼结构的修饰离子；并且 其中胶体状二氧化硅粒子的粒径不大于80nm。
【专利摘要】提供一种磁盘用玻璃衬底的制造方法和磁盘的制造方法，在使研磨垫与玻璃衬底的表面接触的同时对玻璃衬底的表面供给含有研磨砂粒的研磨液以进行玻璃衬底的镜面研磨时，在将研磨液的pH维持为既定的范围内的状态或控制了研磨液的凝集度或分散度的状态下进行。由此，可维持镜面研磨加工速度，同时可得到具有良好的端部形状的玻璃衬底。
【IPC分类】B24B7-24, G11B5-84
【公开号】CN104647156
【申请号】CN201510053574
【发明人】泷泽利雄, 舆水智, 丸茂吉典, 片桐诚宏
【申请人】Hoya株式会社
【公开日】2015年5月27日
【申请日】2007年3月16日
【公告号】CN101356574A, US8763428, US9038417, US20090158775, US20140248424, WO2007111167A1