上述的超声波纠偏系统或光电纠偏系统的纠偏原理为现有技术，在此就不再赘述。如图3所示，本实施例中的阴极小室10上还设有冷却板1003、补气机构1002和气氛隔离板1001，主要用于提供阴极小室10在镀膜加工时的工艺条件，降低镀膜产生的高温影响。具体地，气氛隔离板1001设置于阴极小室10的两侧，冷却板1003设置于阴极小室10的外壁上，且冷却板1003上分布有冷却水管1004，补气机构1002设于阴极小室10内，且与外部的补气单元相连通，阴极小室10内还设有抽真空机构，且该抽真空机构与外部的抽真空机相连通。
[0037]此外，本实施例的一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，在开卷机构201与冷辊8之间还设置有前处理装置5，该前处理装置5包括离子源预处理机构和冷井盘管深冷机构，离子源预处理机构和冷井盘管深冷机构均设置于真空室I内，离子源预处理机构用于清洗基带6表面的污物，冷井盘管深冷机构用于冷凝对基带6前处理过程中释放的大量水汽，并配合抽真空系统提高真空度，前处理装置5对基带6表面处理干净整洁，保证了镀膜加工质量。另外，为了便于观察真空室I内的工作状态，在真空室I上还开设有观察窗口。
[0038]本实施例的一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，加工时，将成卷的基带6套装于开卷机构201上，引出基带6的一端分别如图1所示绕过换向辊7和冷辊8，并固定于收卷机构901上；将镀制膜层所需的靶芯12安装于对应的极靶座板1105上；封闭真空室1，利用外设泵组对真空室I进行抽真空，实现镀膜所需工艺条件，同时开卷室2和收卷室9也一并进行粗抽真空；镀膜时，开卷机构201和收卷机构901同步放卷和收卷，同时冷辊8同步联动，实现卷绕镀膜；当开卷机构201放卷完成后(即三层膜层已经镀完)，各组回转换靶装置11根据设定程序进行换靶动作:径向伸缩机构1104收缩，极靶座板1105从阴极小室10内退出，回转机构根据预先设好的程序控制回转盘1103转动一定角度，更换另一个靶芯12，并利用径向伸缩机构1104将固定该靶芯12的极靶座板1105顶出嵌入阴极小室10内，完成一次换靶；换靶完成后，开卷机构201和收卷机构901开始反向转动，即开卷机构201和收卷机构901的功能互换，冷辊8也同步联动，实现第二次六层膜的镀制；重复上述步骤，以具有四组靶芯12的回转换靶装置11、和设置三组回转换靶装置11的镀膜机为例，至少可以在基带6的单面上连续镀制12层膜层，加之四组靶芯12与三组回转换靶装置11的自由组合，可以实现更多膜层的镀制，大大提高了镀多层功能膜的效率；当回转换靶装置11上的靶材全部镀制完成后，停机，利用轴向伸缩机构1102将回转盘1103推出真空室丨，在真空室！外部进行更换靶芯12。由于开卷机构201和收卷机构901处各设有一组纠偏装置3，因此可以实现基带6的往复连续运动，达到镀多层膜的加工目的；利用回转换靶装置11实现在真空室I内快速换靶，节省了换靶时间和省去了反复换靶所需的重复抽真空操作，省时节能；此外，采用本发明的结构，磁控溅射卷绕镀膜机的结构得到明显简化，无需复杂的电气控制系统和程序，大大减少了设备占地面积，降低了设备制造成本，尤其适合于大批量生产。
[0039]以上示意性地对本发明及其实施方式进行了描述，该描述没有限制性，附图中所示的也只是本发明的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。所以，如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本发明创造宗旨的情况下，不经创造性地设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室(1)、开卷室(2)、设于开卷室(2)内的开卷机构(201)、收卷室(9)、设于收卷室(9)内的收卷机构(901)和设于真空室(I)内的冷辊(8)，其特征在于:还包括纠偏装置(3)、两个或两个以上的回转换靶装置(11)、以及与每个回转换靶装置(11)位置相对应的上下两面开口的阴极小室(10)，所述的开卷室⑵与真空室⑴之间、收卷室(9)与真空室⑴之间均设有闸板阀⑷，所述的真空室(I)内还设有两组用于改变基带(6)方向的换向辊(7)，所述的开卷机构(201)与换向辊(7)之间、收卷机构(901)与换向辊(7)之间各设有一组纠偏装置(3)，且所述的纠偏装置(3)位于开卷室(2)和收卷室(9)内；所述的阴极小室(10)分布于冷辊(8)包覆有基带(6)的圆周面上，且每组回转换靶装置(11)及与其对应的阴极小室(10)均与冷辊(8)设于同一轴线上；所述的回转换靶装置(11)包括机座(1101)、通过回转机构连接于机座(1101)上的回转盘(1103)、通过径向伸缩机构(1104)均匀分布于回转盘(1103)上的两个或两个以上的用于安装靶芯(12)的极靶座板(1105);所述的极靶座板(1105)旋转到对应的阴极小室(10)下方，并向外伸出将靶芯(12)嵌入阴极小室(10)内，所述的开卷机构(201)和收卷机构(901)带动基带(6)实现往复运动。
2.根据权利要求1所述的一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于:所述的机座(1101)上还设有沿回转盘(1103)轴向伸缩的轴向伸缩机构(1102)，用于将回转盘(1103)向外伸出并移至真空室(I)外部。
3.根据权利要求2所述的一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于:所述的轴向伸缩机构(1102)上设有三节筒式导轨。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于:所述的回转换靶装置(11)及与其对应设置的阴极小室(10)设有3组。
5.根据权利要求4所述的一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于:所述的纠偏装置(3)为超声波纠偏系统或光电纠偏系统。
6.根据权利要求5所述的一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于:所述的开卷机构(201)与冷辊(8)之间还设置有前处理装置(5)，所述的前处理装置(5)包括离子源预处理机构和冷井盘管深冷机构，所述的离子源预处理机构和冷井盘管深冷机构均设置于真空室(I)内，所述的离子源预处理机构用于清洗基带(6)表面的污物，所述的冷井盘管深冷机构用于冷凝对基带(6)前处理过程中释放的大量水汽。
7.根据权利要求6所述的一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于:所述的阴极小室(10)上设有冷却板(1003)、补气机构(1002)和气氛隔离板(1001)，所述的气氛隔离板(1001)设置于阴极小室(10)的两侧，所述的冷却板(1003)设置于阴极小室(10)的侧壁上，且冷却板(1003)上分布有冷却水管(1004)，所述的补气机构(1002)设于阴极小室(10)内，且与真空室(I)外部的补气单元相连通，所述的阴极小室(10)内还设有抽真空机构，且该抽真空机构与真空室(I)外部的抽真空机相连通。
【专利摘要】本发明公开了一种高效率单面往复连续镀膜磁控溅射卷绕镀膜机，属于真空镀膜设备领域。本发明包括真空室、开卷机构、收卷机构、设于真空室内的冷辊、纠偏装置、两个或两个以上的回转换靶装置、以及与每个回转换靶装置位置相对应的上下两面开口的阴极小室，开卷机构与换向辊之间、收卷机构与换向辊之间各设有一组纠偏装置；阴极小室分布于冷辊包覆有基带的圆周面上；极靶座板旋转到对应的阴极小室下方，并向外伸出将靶芯嵌入阴极小室内，开卷机构和收卷机构带动基带往复运动。本发明在不打开镀膜真空室的情况下即可及时更换阴极靶，并利用基材往复运动实现多层膜层的镀制，大大提高了镀膜机镀多层功能膜的效率；同时，设备结构紧凑，占地空间小。
【IPC分类】C23C14-56, C23C14-35
【公开号】CN104674175
【申请号】CN201510067746
【发明人】朱锡芳, 许清泉, 杨辉, 徐安成, 陈功
【申请人】常州工学院
【公开日】2015年6月3日
【申请日】2015年2月9日