br>[0080]2、用挡板遮住衬底，在锌靶材的直流溅射功率为100W和III族元素靶材的直流射频溅射功率为50W的条件下进行等离子体预溅射lOmin，打开衬底挡板，在锌靶材的直流溅射功率为100W和III族元素靶材的直流射频溅射功率为50W的条件下进行薄膜沉积至薄膜厚度为1 μπι，得到Ζη3Ν2:ΙΙΙ族元素薄膜；
[0081]三、热氧化Ζη3Ν2:ΙΙΙ族元素薄膜:将步骤二得到的Ζη3Ν2:ΙΙΙ族元素薄膜在压强为0.1MPa的氧气保护的条件下进行热退火处理得到ZnO ;
[0082]所述的将步骤二得到的Zn3N2:1II族元素薄膜在压强为0.1MPa的氧气保护的条件下进行热退火处理得到ZnO的步骤为:将步骤二得到的Zn3N2:1II族元素薄膜在压强为0.1MPa的氧气保护和温度为700°C的条件下热退火60min，然后在0.1MPa的氧气保护条件下自然冷却至室温，得到ZnO。
[0083]步骤一中清洗三氧化二铝衬底的方法为:依次用乙醇超声清洗5分钟、丙酮超声清洗5分钟、去离子水清洗5分钟、质量分数为1%的稀盐酸溶液超声清洗3分钟。
[0084]步骤二所述的III族元素为铝元素。
[0085]试验六:本试验为热氧化Zn3N2:1II族元素制备氧化锌的方法，具体是按以下步骤进行的:
[0086]—、清洗衬底；所述的衬底为三氧化二铝衬底；
[0087]二、磁控溅射沉积制备Zn3N2:1II族元素薄膜:
[0088]1、把锌靶材和III族元素靶材分别安装在两个磁控溅射靶上，然后把步骤一清洗好的衬底放到真空室的控制台上，开始抽真空至真空室的真空度为5X10 5Pa，加热衬底至温度为300°C，通入溅射气体Ar和反应气体N2使得真空室的压力保持在3Pa ;所述的Ar和队的气体流速比为1:1 ;
[0089]2、用挡板遮住衬底，在锌靶材的直流溅射功率为100W和III族元素靶材的直流射频溅射功率为50W的条件下进行等离子体预溅射lOmin，打开衬底挡板，在锌靶材的直流溅射功率为100W和III族元素靶材的直流射频溅射功率为50W的条件下进行薄膜沉积至薄膜厚度为1 μπι，得到Ζη3Ν2:ΙΙΙ族元素薄膜；
[0090]三、热氧化Ζη3Ν2:ΙΙΙ族元素薄膜:将步骤二得到的Zn 3N2:III族元素薄膜在压强为0.1MPa的氧气保护的条件下进行热退火处理得到ZnO ;
[0091]所述的将步骤二得到的Zn3N2:1II族元素薄膜在压强为0.1MPa的氧气保护的条件下进行热退火处理得到ZnO的步骤为:将步骤二得到的Zn3N2:1II族元素薄膜在压强为
0.1MPa的氧气保护和温度为800°C的条件下热退火60min，然后在0.1MPa的氧气保护条件下自然冷却至室温，得到ZnO。
[0092]步骤一中清洗三氧化二铝衬底的方法为:依次用乙醇超声清洗5分钟、丙酮超声清洗5分钟、去离子水清洗5分钟、质量分数为1%的稀盐酸溶液超声清洗3分钟。
[0093]步骤二所述的III族元素为铝元素。
[0094]试验七:本试验为热氧化Zn3N2:1II族元素制备氧化锌的方法，具体是按以下步骤进行的:
[0095]一、清洗衬底；所述的衬底为三氧化二铝衬底；
[0096]二、磁控溅射沉积制备Zn3N2:1II族元素薄膜:
[0097]1、把锌靶材和III族元素靶材分别安装在两个磁控溅射靶上，然后把步骤一清洗好的衬底放到真空室的控制台上，开始抽真空至真空室的真空度为5X10 5Pa，加热衬底至温度为300°C，通入溅射气体Ar和反应气体N2使得真空室的压力保持在3Pa ;所述的Ar和队的气体流速比为1:1 ;
[0098]2、用挡板遮住衬底，在锌靶材的直流溅射功率为100W和III族元素靶材的直流射频溅射功率为50W的条件下进行等离子体预溅射lOmin，打开衬底挡板，在锌靶材的直流溅射功率为100W和III族元素靶材的直流射频溅射功率为50W的条件下进行薄膜沉积至薄膜厚度为1 μπι，得到Ζη3Ν2:ΙΙΙ族元素薄膜；
[0099]三、热氧化Ζη3Ν2:ΙΙΙ族元素薄膜:将步骤二得到的Zn 3N2:III族元素薄膜在压强为0.1MPa的氧气保护的条件下进行热退火处理得到ZnO ;
[0100]所述的将步骤二得到的Zn3N2:1II族元素薄膜在压强为0.1MPa的氧气保护的条件下进行热退火处理得到ZnO的步骤为:将步骤二得到的Zn3N2:1II族元素薄膜在压强为
0.1MPa的氧气保护和温度为900°C的条件下热退火60min，然后在0.1MPa的氧气保护条件下自然冷却至室温，得到ZnO。
[0101]步骤一中清洗三氧化二铝衬底的方法为:依次用乙醇超声清洗5分钟、丙酮超声清洗5分钟、去离子水清洗5分钟、质量分数为1%的稀盐酸溶液超声清洗3分钟。
[0102]步骤二所述的III族元素为铝元素。
[0103]试验八:本试验为热氧化Zn3N2制备氧化锌的方法，具体是按以下步骤进行的:
[0104]一、清洗衬底；所述的衬底为三氧化二铝衬底；
[0105]二、磁控溅射沉积制备Zn3N2薄膜:
[0106]1、把锌靶材安装在磁控溅射靶上，然后把步骤一清洗好的衬底放到真空室的控制台上，开始抽真空至真空室的真空度为5X10 5Pa，加热衬底至温度为300°C，通入溅射气体Ar和反应气体N2使得真空室的压力保持在3Pa ;所述的Ar和N 2的气体流速比为1:1;
[0107]2、用挡板遮住衬底，在锌靶材的直流溅射功率为100W的条件下进行等离子体预溅射lOmin，打开衬底挡板，在锌靶材的直流溅射功率为100W的条件下进行薄膜沉积至薄膜厚度为1 μπι，得到Ζη3Ν2薄膜；
[0108]三、热氧化Ζη3Ν2薄膜:将步骤二得到的Zn 3N2薄膜在压强为0.1MPa的氧气保护的条件下进行热退火处理，得到ZnO ;
[0109]所述的在压强为0.1MPa的氧气保护的条件下进行热退火处理得到ZnO的步骤为:将步骤二得到的Zn3N2薄膜在压强为0.1MPa的氧气保护和温度为400°C的条件下热退火60min，然后在0.1MPa的氧气保护条件下自然冷却至室温，得到ZnO。
[0110]步骤一中清洗三氧化二铝衬底的方法为:依次用乙醇超声清洗5分钟、丙酮超声清洗5分钟、去离子水清洗5分钟、质量分数为1%的稀盐酸溶液超声清洗3分钟。
[0111]试验九:本试验为热氧化Zn3N2制备氧化锌的方法，具体是按以下步骤进行的:
[0112]一、清洗衬底；所述的衬底为三氧化二铝衬底；
[0113]二、磁控溅射沉积制备Zn3N2薄膜:
[0114]1、把锌靶材安装在磁控溅射靶上，然后把步骤一清洗好的衬底放到真空室的控制台上，开始抽真空至真空室的真空度为5X10 5Pa，加热衬底至温度为300°C，通入溅射气体Ar和反应气体N2使得真空室的压力保持在3Pa ;所述的Ar和N 2的气体流速比为1:1;
[0115]2、用挡板遮住衬底，在锌靶材的直流溅射功率为100W的条件下进行等离子体预溅射lOmin，打开衬底挡板，在锌靶材的直流溅射功率为100W的条件下进行薄膜沉积至薄膜厚度为1 μπι，得到Ζη3Ν2薄膜；
[0116]三、热氧化Ζη3Ν2薄膜:将步骤二得到的Ζη3Ν2薄膜在压强为0.1MPa的氧气保护的条件下进行热退火处理，得到ZnO ;
[0117]所述的在压强为0.1MPa的氧气保护的条件下进行热退火处理得到ZnO的步骤为:将步骤二得到的Zn3N2薄膜在压强为0.1MPa的氧气保护和温度为500°C的条件下热退火60min，然后在0.1MPa的氧气保护条件下自然冷却至室温，得到ZnO。
[0118]步骤一中清洗三氧化二铝衬底的方法为:依次用乙醇超声清洗5分钟、丙酮超声清洗5分钟、去离子水清洗5分钟、质量分数为1%的稀盐酸溶液超声清洗3分钟。
[0119]试验十:本试验为热氧化Zn3N2制备氧化锌的方法，具体是按以下步骤进行的:
[0120]一、清洗衬底；所述的衬底为三氧化二铝衬底；
[0121]二、磁控溅射沉积制备Zn3N2薄膜:
[0122]1、把锌靶材安装在磁控溅射靶上，然后把步骤一清洗好的衬底放到真空室的控制台上，开始抽真空至真空室的真空度为5X10 5Pa，加热衬底至温度为300°C，通入溅射气体Ar和反应气体N2使得真空室的压力保持在3Pa ;所述的Ar和N 2的气体流速比为1:1;
[0123]2、用挡板遮住衬底，在锌靶材的直流溅射功率为100W的条件下进行等离子体预溅射lOmin，打开衬底挡板，在锌靶材的直流溅射功率为100W的条件下进行薄膜沉积至薄膜厚度为1 μπι，得到Ζη3Ν2薄膜；
[0124]三、热氧化Ζη3Ν2薄膜:将步骤二得到的Zn 3N2薄膜在压强为0.1MPa的氧气保护的条件下进行热退火处理，得到ZnO ;
[0125]所述的在压强为0.1MPa的氧气保护