一种贵金属首饰表面清洗工艺和清洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001 ]本发明涉及一种贵金属首饰表面清洗工艺和清洗装置。
【背景技术】
[0002]贵金属首饰等饰被物越来越多的生产和佩戴，但戴用一段时间后，很易被汗水、油渍及灰尘等沾污而变得不光洁干净，所以需定期清洗，而现有的清洗方式一般采用清洗液擦洗浸泡的手工方式进行，不仅清洗效果一般，而且很费力费时。
[0003]超声波加湿器中的超声振荡部分除了具有超声波加湿作用外，还具有振荡清洗的作用，但目前超声波加湿器的这一振荡清洗作用并未被利用，因而，其只具有单一的加湿作用，且一般的清洗技术会对首饰存在损坏，也清洗不干净。
[0004]鉴于此，本发明人为此研制出一种贵金属首饰表面清洗工艺，有效的解决了上述问题，本案由此产生。
【发明内容】
[0005]本发明提供的一种贵金属首饰表面清洗工艺和清洗装置，直接使用超声波设备，将液相等离子清洗技术与超声波清洗技术相结合，不用将首饰作为电极，不损伤首饰，能够更加有效快速地去除首饰表面的污物，人工成本低，清洗过程简单、效率高。
[0006]为了实现上述目的，本发明的技术方案如下:
一种贵金属首饰表面清洗工艺，包括以下步骤:
(I)将贵金属首饰放入首饰装置盒中，在首饰装置盒中加入可导电的中性清洗液，并将装置盒作为第一电极放置在超声波清洗槽的氢氧化钠溶液中；
(2 )将导电板作为第二电极浸入到超声波清洗槽的氢氧化钠溶液中；
(3)将上述两电极分别与电源的正负级相接，通入一定的功率后在首饰表面产生等离子体；
(4)通入超声波震荡；
(5)保持一段时间，待首饰表面的杂质在等离子体和超声波震荡的作用下被清洗干净后，停止通电和超声波震荡。
[0007 ]所述的首饰装置盒中中性清洗液的浓度为5%-10% ；清洗槽中的氢氧化钠溶液的浓度为3%-5%。
[0008]所述首饰装置盒接入电源的正极，导电板接入电源的负极。
[0009]所述第一电极和第二电极之间的输入电压为10-120V，电流为1-20A，通电时间为10_60mino
[0010]所述的超声波震荡持续时间为5-60min。
[0011]所述杂质为油污、油脂、锈迹和/或氧化皮。
[0012]所述第(4)步中加以超声放大装置。
[0013]—种贵金属首饰表面清洗装置，包括超声波清洗装置、首饰装置盒、导电板和液相等离子发生装置，首饰置于首饰装置盒内，首饰装置盒和导电板放置于超声波清洗装置的清洗槽内，清洗槽内具有氢氧化钠溶液，首饰装置盒内具有可导电的中性清洗液，首饰装置盒和导电板与液相等离子发生装置的正负极相连。
[0014]采用上述方案后，本发明直接使用现有的超声波设备，将液相等离子清洗技术与超声波清洗技术相结合，从而更加有效快速的去除首饰表面的污物。通过将首饰装置盒作为电极，而不是首饰作为电极，因此不会损伤首饰，并且将首饰放置在中性清洗液中，同样对首饰无损伤。整个清洗过程简单，无需手工清洗，降低了人工成本，提高了清洗效率。
【附图说明】
[0015]图1是本实施例的结构示意图。
[0016]标号说明超声波清洗装置I，清洗槽11，首饰装置盒2，导电板3，液相等离子发生装置4，首饰5。
【具体实施方式】
[0017]为了进一步解释本发明的技术方案，下面通过具体实施例来对本发明进行详细阐述。
[0018]如图1所示，是本发明揭示的一种贵金属首饰表面清洗装置，包括超声波清洗装置
1、首饰装置盒2、导电板3和液相等离子发生装置4，首饰5置于首饰装置盒2内，首饰装置盒2和导电板3放置于超声波清洗装置I的清洗槽11内，
清洗槽11内具有氢氧化钠溶液，首饰装置盒2内具有可导电的中性清洗液，首饰装置盒2和导电板3与液相等离子发生装置4的正负极相连。
[0019]采用本发明揭示的一种贵金属首饰表面清洗工艺所做的试验如下:
试验一
本实施例提供一种贵金属首饰表面清洗工艺，包括下述步骤:
将一件金耳钉首饰放入首饰装置盒中。
[0020]在首饰装置盒中加入浓度为5%的中性清洗液，并将装置盒作为第一电极放置在超声波清洗槽的氢氧化钠溶液中。将导电板作为第二电极浸入到清洗槽的氢氧化钠溶液中，氢氧化钠溶液浓度为3% ο第一电极和第二电极接电源，电极电路和氢氧化钠溶液一起连接成一个电流通路，在电流的作用下，氢氧化钠溶液正负离子产生自由移动，并使中性清洗液也在通电的情况下产生正负离子，在首饰表面并产生等离子，对零件表面的油污等进行机械冲击作用和热耦合作用，达到表面清洗和整平的目的。
[0021]将第一电极和第二电极分别与电源的正负级相接，输入电压为10V，电流为1A，首饰表面产生等离子体，首饰进行液相等离子清洗。
[0022]再通入超声波震荡，并加以超声放大装置。
[0023]本实施例，液相等离子清洗时间为lOmin，超声波震荡持续时间为5min，即可将首饰表面的油污、油脂、氧化皮等杂质清洗干净。
[0024]试验二
本实施例提供一种贵金属首饰表面清洗工艺，包括下述步骤:
将一件金戒指首饰放入首饰装置盒中。
[0025]在首饰装置盒中加入浓度为6%的中性清洗液，并将装置盒作为第一电极放置在超声波清洗槽的氢氧化钠溶液中。将导电板作为第二电极浸入到清洗槽的氢氧化钠溶液中，氢氧化钠溶液浓度为3.5%。
[0026]将第一电极和第二电极分别与电源的正负级相接，输入电压为20V，电流为1.5A，首饰表面产生等离子体，首饰进行液相等离子清洗。
[0027]再通入超声波震荡，并加以超声放大装置。
[0028]本实施例，液相等离子清洗时间为13min，超声波震荡持续时间为8min，即可将首饰表面的油污、油脂、氧化皮等杂质清洗干净。
[0029]试验三
本实施例提供一种贵金属首饰表面清洗工艺，包括下述步骤:
将一件金手镯首饰放入首饰装置盒中。
[0030]在首饰装置盒中加入浓度为8%的中性清洗液，并将装置盒作为第一电极放置在超声波清洗槽的氢氧化钠溶液中。将导电板作为第二电极浸入到清洗槽的氢氧化钠溶液中，氢氧化钠溶液浓度为5%。
[0031]将第一电极和第二电极分别与电源的正负级相接，输入电压为30V，电流为3A，首饰表面产生等离子体，首饰进行液相等离子清洗。
[0032]再通入超声波震荡，并加以超声放大装置。
[0033]本实施例，液相等离子清洗时间为20min，超声波震荡持续时间为lOmin，即可将首饰表面的油污、油脂、氧化皮等杂质清洗干净。
[0034]以上仅为本发明的较佳实施例，并非对本发明的保护范围的限定。凡依本案的设计思路所做的等同变化，均落入本案的保护范围。
【主权项】
1.一种贵金属首饰表面清洗工艺，其特征在于，包括以下步骤: (I)将贵金属首饰放入首饰装置盒中，在首饰装置盒中加入可导电的中性清洗液，并将装置盒作为第一电极放置在超声波清洗槽的氢氧化钠溶液中； (2 )将导电板作为第二电极浸入到超声波清洗槽的氢氧化钠溶液中； (3)将上述两电极分别与电源的正负级相接，通入一定的功率后在首饰表面产生等离子体； (4)通入超声波震荡； (5)保持一段时间，待首饰表面的杂质在等离子体和超声波震荡的作用下被清洗干净后，停止通电和超声波震荡。2.如权利要求1所述的一种贵金属首饰表面清洗工艺，其特征在于:所述的首饰装置盒中中性清洗液的浓度为5%_10%;清洗槽中的氢氧化钠溶液的浓度为3%-5%。3.如权利要求1所述的一种贵金属首饰表面清洗工艺，其特征在于:所述首饰装置盒接入电源的正极，导电板接入电源的负极。4.如权利要求1所述的一种贵金属首饰表面清洗工艺，其特征在于:所述第一电极和第二电极之间的输入电压为10-120V，电流为1-20A，通电时间为10-60min。5.如权利要求1所述的一种贵金属首饰表面清洗工艺，其特征在于:所述的超声波震荡持续时间为5-60min。6.如权利要求1所述的一种贵金属首饰表面清洗工艺，其特征在于:所述杂质为油污、油脂、锈迹和/或氧化皮。7.如权利要求1所述的一种贵金属首饰表面清洗工艺，其特征在于:所述第(4)步中加以超声放大装置。8.一种贵金属首饰表面清洗装置，其特征在于:包括超声波清洗装置、首饰装置盒、导电板和液相等离子发生装置，首饰置于首饰装置盒内，首饰装置盒和导电板放置于超声波清洗装置的清洗槽内，清洗槽内具有氢氧化钠溶液，首饰装置盒内具有可导电的中性清洗液，首饰装置盒和导电板与液相等离子发生装置的正负极相连。
【专利摘要】本发明公开了一种贵金属首饰表面清洗工艺和清洗装置，包括超声波清洗装置、首饰装置盒、导电板和液相等离子发生装置。使用时，先将贵金属首饰放入首饰装置盒中，在首饰装置盒中加入可导电的中性清洗液，并将装置盒作为第一电极放置在超声波清洗槽的氢氧化钠溶液中。再将导电板作为第二电极浸入氢氧化钠溶液中；然后将上述两电极分别与电源的正负级相接，在首饰表面产生等离子体。再通入超声波震荡，待首饰表面的杂质在等离子体和超声波震荡的作用下被清洗干净后，停止通电和超声波震荡。本发明将液相等离子清洗技术与超声波清洗技术相结合，不用将首饰作为电极，不损伤首饰，能够更加有效快速地去除首饰表面的污物，人工成本低，清洗过程简单、效率高。
【IPC分类】C23G1/20, C23G5/00
【公开号】CN105603443
【申请号】CN201610019962
【发明人】刘志光, 王开阳, 韩珩, 陈海霞
【申请人】龙岩紫荆创新研究院
【公开日】2016年5月25日
【申请日】2016年1月13日