43为热传导系数介于0.5?20 (ff/mK)间且黏度为10000?60000 (cps)的散热膏，用于增加该高导磁薄片6的散热能力，避免热能累积于该高导磁薄片6而造成磁力的损耗，且利用散热膏的黏性同时达到固定的效果。
[0035]该金属薄板7设置于该革E材51及该磁座单元2间，该高导磁薄片6固接于该金属薄板7的底侧，并设置于该盖板42的该凹槽421，且该金属薄板7的底侧靠抵于该围绕壁22、该分隔壁23及该盖板42。
[0036]所述锁固件8分别将该靶材51锁固于该金属薄板7，且将该金属薄板7锁固于该围绕壁22。
[0037]在真空溅镀的过程中，该冷却流道41内通入一道冷却流体(图未示)，所述磁铁3在该靶材51附近形成磁场，使该靶材51表面形成高密度的电浆以提高溅镀率，再通过该高导磁薄片6修正该靶材51表面的磁通量，使该靶材51表面的磁通量变化较为平缓，进而提高该靶材51的利用率与寿命，此外，利用该冷却流道41及该导热介面材料43，该靶材51在溅镀过程中产生的热能能经由该金属薄板7、该盖板42及该导热介面材料43散热，并通过循环流动的该冷却流体带走热能，以避免热能累积于该高导磁薄片6而造成磁力削弱的问题。
[0038]值得一提的是，该高导磁薄片6通过该盖板42与该冷却流体接触，为一种间接冷却的方式。
[0039]参阅图3，为本实用新型真空镀膜系统的阴极装置的第二实施例，该第二实施例类似于该第一实施例，主要的差异在于:该靶材单元5还包括一片固定于该靶材51底侧且设置于该磁座单元2的背板52，所述锁固件8分别将该靶材51及该背板52锁固于该围绕壁22，且该背板52遮蔽该冷却流道41，该高导磁薄片6则焊接于该背板52的底侧且对应该冷却流道41，如此，也能达到与该第一实施例相同的功效。
[0040]此外，该第二实施例还包含两个设置于该背板52及该磁座单元2间的密封环9，用于增加该背板52与该磁座单元2间的密封程度。
[0041]值得一提的是，该高导磁薄片6与该冷却流体直接接触，为一种直接冷却的方式。
[0042]经由以上的说明，能将本实用新型的优点归纳如下:
[0043]一、通过设置该高导磁薄片6，改善该靶材51表面磁感应强度不均的问题，加宽该靶材51的溅镀区域与均匀性，进而提高该靶材51的利用率与寿命。
[0044]二、该高导磁薄片6固接于该金属薄板7的底侧，与现有的该干扰磁性片11内嵌于该金属板12(见图1)的方式相较之下，该靶材51的表面磁力较强，溅镀效果佳。
[0045]三、通过设置该冷却流道41及在该高导磁薄片6的两侧涂抹该导热介面材料43，增加散热能力，以避免该高导磁薄片6在高温时磁力削弱的问题，进而提升溅镀效果。
[0046] 综上所述，所以确实能达成本实用新型的目的。
【主权项】
1.一种真空镀膜系统的阴极装置，其特征在于其包含: 一个磁座单元，包括一个底壁、一个由该底壁的周缘向上延伸的围绕壁，及一个由该底壁向上延伸且受该围绕壁包围的分隔壁； 数个磁铁，分别包埋于该围绕壁及该分隔壁； 一个散热单元，包括一个由该底壁、该围绕壁及该分隔壁相配合界定出的冷却流道； 一个靶材单元，包括一片设置于该磁座单元及该冷却流道上方的靶材；及 一片高导磁薄片，设置于该靶材及该冷却流道间。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜系统的阴极装置，其特征在于:该磁座单元还包括两个分别由该底壁向上延伸且邻近该围绕壁及该分隔壁的肩壁，该散热单元还包括一片设置于所述肩壁且能遮蔽该冷却流道的盖板，该盖板具有一个形成于顶面且能供该高导磁薄片设置的凹槽。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜系统的阴极装置，其特征在于:该散热单元还包括一层涂抹于该高导磁薄片两侧的导热介面材料。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜系统的阴极装置，其特征在于:该真空镀膜系统的阴极装置还包含一片设置于该靶材及该磁座单元间的金属薄板，该高导磁薄片固接于该金属薄板的底侧，且该金属薄板的底侧靠抵于该围绕壁、该分隔壁，及该盖板。
5.根据权利要求4所述的真空镀膜系统的阴极装置，其特征在于:该真空镀膜系统的阴极装置还包含数个锁固件，所述锁固件分别将该靶材锁固于该金属薄板，且将该金属薄板锁固于该围绕壁。
6.根据权利要求1所述的真空镀膜系统的阴极装置，其特征在于:该靶材单元还包括一片固定于该靶材底侧且设置于该磁座单元的背板，该背板遮蔽该冷却流道，该高导磁薄片焊接于该背板的底侧且对应该冷却流道。
7.根据权利要求6所述的真空镀膜系统的阴极装置，其特征在于:该真空镀膜系统的阴极装置还包含数个分别将该靶材及该背板锁固于该围绕壁的锁固件。
8.根据权利要求6所述的真空镀膜系统的阴极装置，其特征在于:该真空镀膜系统的阴极装置还包含两个设置于该背板及该磁座单元间的密封环。
9.根据权利要求3至5中任一权利要求所述的真空镀膜系统的阴极装置，其特征在于:该导热介面材料为热传导系数介于0.5?20(W/mK)间的散热膏。
10.根据权利要求1至8中任一权利要求所述的真空镀膜系统的阴极装置，其特征在于:该高导磁薄片为相对导磁率大于1000的娃钢片。
【专利摘要】一种真空镀膜系统的阴极装置，包含一个磁座单元、数个磁铁、一个散热单元、一个靶材单元及一片高导磁薄片。该磁座单元包括一个底壁、一个由该底壁的周缘向上延伸的围绕壁，及一个由该底壁向上延伸且受该围绕壁包围的分隔壁。所述磁铁分别包埋于该围绕壁及该分隔壁。该散热单元包括一个由该底壁、该围绕壁及该分隔壁相配合界定出的冷却流道。该靶材单元包括一片设置于该磁座单元及该冷却流道上方的靶材。该高导磁薄片设置于该靶材及该冷却流道间。本实用新型通过设置该高导磁薄片改善该靶材表面的磁场不均问题，并通过该散热单元增加该高导磁薄片的散热能力。
【IPC分类】C23C14-35
【公开号】CN204570025
【申请号】CN201520127622
【发明人】叶崇宇, 苏晖家, 叶承朋, 张倧伟, 黄琬瑜, 屈陆舜, 卢木森, 黄一原
【申请人】凌嘉科技股份有限公司
【公开日】2015年8月19日
【申请日】2015年3月5日