蒸镀设备的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开一种蒸镀设备，属于蒸镀技术领域。蒸镀设备包括：设备本体和抽气扩散组件，设备本体设置有蒸镀腔室和抽气孔，抽气扩散组件设置在蒸镀腔室内，且抽气扩散组件上设置有抽气扩散孔，抽气扩散孔能够对经过抽气扩散组件的气体进行扩散。本实用新型解决了蒸镀薄膜的均一性较差的问题，达到了提高蒸镀薄膜的均一性的效果。本实用新型用于蒸镀。
【专利说明】
蒸镀设备
技术领域
[0001 ]本实用新型涉及蒸镀技术领域，特别涉及一种蒸镀设备。
【背景技术】
[0002]在显示基板的制造过程中，通常可以采用蒸镀设备在基板上形成蒸镀薄膜，并采用构图工艺对该蒸镀薄膜进行处理以得到相应的图形。其中，该蒸镀设备可以是等离子体增强化学气相沉积法(英文:Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposit1n;简称:PECVD)蒸镀设备。
[0003]相关技术中，蒸镀设备包括设备本体和两个电极，两个电极和待蒸镀器件(通常为基板)都位于设备本体的蒸镀腔室内，且待蒸镀器件位于该两个电极之间，设备本体的上底面上设置有充气孔，下底面上靠近设备本体的侧面的位置设置有一个抽气孔。使用时分别向两个电极施加电压使该两个电极之间形成电场，通过充气孔向蒸镀腔室内充入气体，气体到达两个电极之间时，在电场的作用下，气体沉积在待蒸镀器件上形成蒸镀薄膜。在向蒸镀腔室内充入气体的同时，可以通过抽气孔对蒸镀腔室抽真空，以控制蒸镀腔室内的真空度、压力、气体流速，从而蒸镀薄膜的均一性。
[0004]但是，受抽气孔设置位置的限制，蒸镀腔室内不同位置的气体流速差异较大，导致形成的蒸镀薄膜的均一性较差。
【实用新型内容】
[0005]为了解决蒸镀薄膜的均一性较差的问题，本实用新型提供一种蒸镀设备。所述技术方案如下:
[0006]本实用新型提供一种蒸镀设备，用于对待蒸镀器件进行蒸镀，所述蒸镀设备包括:设备本体和抽气扩散组件，
[0007]所述设备本体设置有蒸镀腔室和抽气孔，所述抽气扩散组件设置在所述蒸镀腔室内，且所述抽气扩散组件上设置有抽气扩散孔，所述抽气扩散孔能够对经过所述抽气扩散组件的气体进行扩散。
[0008]可选地，所述抽气扩散组件为板状结构，所述抽气扩散孔均匀分布在所述抽气扩散组件上。
[0009]可选地，所述抽气扩散组件的个数为N，N为大于或者等于2的整数，N个所述抽气扩散组件位于所述蒸镀腔室内的待蒸镀器件的同一侧;或者，N个所述抽气扩散组件位于所述待蒸镀器件的不同侧。
[0010]可选地，所述设备本体包括:壳体，
[0011]所述壳体的顶面设置有开口，N个所述抽气扩散组件都设置在所述壳体内，且每个所述抽气扩散组件的板面与所述壳体的底面平行；
[0012]在N个所述抽气扩散组件中:
[0013]任意相邻的两个所述抽气扩散组件与所述壳体的内壁围成抽气缓冲室；
[0014]距离所述壳体的底面最近的所述抽气扩散组件与所述壳体的底面和所述壳体的内壁围成抽气缓冲室；
[0015]其中，每个所述抽气缓冲室用于对所述蒸镀腔室内的气体进行缓冲。
[0016]可选地，所述蒸镀设备还包括:驱动组件，
[0017]所述驱动组件与每个所述抽气扩散组件连接，用于驱动每个所述抽气扩散组件沿所述壳体的高度方向移动，调整包括每个所述抽气扩散组件的抽气缓冲室的体积。
[0018]可选地，所述驱动组件包括:与所述N个抽气扩散组件一一对应的N个驱动件，每个所述驱动件包括:驱动源和驱动杆，
[0019]所述壳体的底面上设置有与每个所述驱动杆一一对应的第一插孔，所述N个抽气扩散组件中，除距离所述壳体的底面最远的抽气扩散组件之外的每个抽气扩散组件上设置有第二插孔，
[0020]所述N个驱动件中:
[0021]距离所述壳体的底面最近的抽气扩散组件对应的驱动杆穿过相应的第一插孔插入所述蒸镀腔室，与距离所述壳体的底面最近的抽气扩散组件连接；
[0022]除距离所述壳体的底面最近的抽气扩散组件对应的驱动杆之外的每个驱动杆依次穿过相应的第一插孔和第二插孔，与相应的抽气扩散组件连接；
[0023]其中，每个所述驱动源都设置在所述壳体的底面上，并与一个所述驱动杆连接，每个所述驱动源用于驱动一个所述驱动杆移动，带动相应的抽气扩散组件沿所述壳体的高度方向移动。
[0024]可选地，所述壳体的底面设置有M个所述抽气孔，M为大于或者等于2的整数，M个所述抽气孔在所述壳体的底面上形成以所述壳体的底面的中心为对称中心的中心对称图形。
[0025]可选地，所述M大于或者等于4且小于或者等于8。
[0026]可选地，所述设备本体还包括:盖体，
[0027]所述盖体上设置有凹槽，所述盖体设置在所述壳体的顶面上，且所述凹槽的开口面与所述壳体的顶面共面，所述凹槽与所述壳体的内腔形成所述蒸镀腔室。
[0028]可选地，所述蒸镀设备还包括:第一电极和第二电极，
[0029]所述第一电极设置在所述壳体内，每个所述抽气扩散组件位于所述第一电极与所述壳体的底面之间；
[0030]所述第二电极设置在所述盖体的凹槽内。
[0031]可选地，所述盖体上设置有充气孔。
[0032]可选地，所述抽气扩散孔包括:圆形孔和方形孔中的至少一种。
[0033]本实用新型提供的技术方案带来的有益效果是:
[0034]本实用新型提供的蒸镀设备包括:设备本体和抽气扩散组件，设备本体设置有蒸镀腔室和抽气孔，抽气扩散组件设置在蒸镀腔室内，且抽气扩散组件上设置有抽气扩散孔，抽气扩散孔能够对经过抽气扩散组件的气体进行扩散。由于抽气扩散组件上的抽气扩散孔能够对蒸镀腔室内的气体进行扩散，减小蒸镀腔室内不同位置的气体流速的差异，使蒸镀腔室内不同位置的气体流速趋于相同，提高形成的蒸镀薄膜的均一性，因此，解决了相关技术中蒸镀薄膜的均一性较差的问题，达到了提高蒸镀薄膜的均一性的效果。
[0035]应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本实用新型。
【附图说明】
[0036]为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0037]图1是相关技术提供的一种蒸镀设备的使用场景图；
[0038]图2是本实用新型实施例提供的一种蒸镀设备的结构示意图；
[0039]图3是本实用新型实施例提供的一种抽气扩散组件的结构示意图；
[0040]图4是本实用新型实施例提供的另一种抽气扩散组件的结构示意图；
[0041]图5是本实用新型实施例提供的另一种蒸镀设备的结构示意图；
[0042]图6是本实用新型实施例提供的再一种蒸镀设备的结构示意图；
[0043]图7是本实用新型实施例提供的一种蒸镀设备的仰视图；
[0044]图8是本实用新型实施例提供的一种蒸镀设备的使用场景图。
[0045]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本实用新型的实施例，并与说明书一起用于解释本实用新型的原理。
【具体实施方式】
[0046]为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部份实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0047]请参考图1，其示出了相关技术提供的一种蒸镀设备02的使用场景图，参见图1，该蒸镀设备02包括:壳体021、盖体022、第一电极023和第二电极024，盖体022设置有凹槽和充气孔B，第一电极023设置在壳体021内，第二电极024设置在盖体022的凹槽内，盖体022设置在壳体021上，壳体021与盖体022之间形成蒸镀腔室(图1中未标出)，壳体021的底面上靠近该壳体021的侧面的位置设置有一个抽气孔A。该蒸镀设备02在使用时，将待蒸镀器件01设置在第一电极023远离壳体021的底面的一侧，将盖体022设置在壳体021上，壳体021的内腔与盖体002的凹槽形成蒸镀腔室，待蒸镀器件01位于第一电极023与第二电极024之间，然后分别向第一电极023和第二电极024施加电压，使第一电极023与第二电极024之间形成电场，通过充气孔B向蒸镀腔室内充入气体，该气体到达第一电极023与第二电极024之间时，在电场的作用下，该气体沉积在待蒸镀器件OI上形成蒸镀薄膜。在向蒸镀腔室内充入气体的同时，可以通过抽气孔A对蒸镀腔室抽真空，以控制蒸镀腔室内的真空度、压力、气体流速，从而控制在待蒸镀器件OI上形成的蒸镀薄膜的均一性。
[0048]但是，由于壳体021的底面设置了一个抽气孔A，且该抽气孔A位于壳体021的底面上靠近该壳体021的侧面的位置，导致蒸镀腔室内靠近该抽气孔一侧的气体流速较大，蒸镀腔室内不同位置的气体流速差异较大，因此，形成的蒸镀薄膜均一性较差。
[0049]请参考图2，其示出了本实用新型实施例提供的一种蒸镀设备00的结构示意图，该蒸镀设备OO用于对待蒸镀器件进行蒸镀，参见图2，该蒸镀设备OO包括:设备本体OOl和抽气扩散组件002。
[0050]设备本体001设置有蒸镀腔室O和抽气孔C，抽气扩散组件002设置在蒸镀腔室O内，且抽气扩散组件002上设置有抽气扩散孔K，抽气扩散孔K能够对经过抽气扩散组件002的气体进行扩散。
[0051]综上所述，本实用新型实施例提供的蒸镀设备，由于抽气扩散组件上的抽气扩散孔能够对蒸镀腔室内的气体进行扩散，减小蒸镀腔室内不同位置的气体流速的差异，使蒸镀腔室内不同位置的气体流速趋于相同，提高形成的蒸镀薄膜的均一性，因此，解决了相关技术中蒸镀薄膜的均一性较差的问题，达到了提高蒸镀薄膜的均一性的效果。
[0052]优选地，抽气扩散组件002为板状结构，抽气扩散孔K均匀分布在抽气扩散组件002上，且抽气扩散孔K可以为圆形孔和方形孔中的至少一种。示例地，如图3和图4所示，其分别示出了本实用新型实施例提供的两种抽气扩散组件002的俯视图，参见图3和图4，抽气扩散组件002为板状结构，抽气扩散孔K均匀分布在抽气扩散组件002上，且在图3中抽气扩散孔K为圆形孔，在图4中抽气扩散孔K为方形孔。
[0053]需要说明的是，本实用新型实施例是以抽气扩散孔K为圆形孔和方形孔中的至少一种为例进行说明的，实际应用中，抽气扩散孔K的形状还可以为其他形状，比如，五边形、六边形以及其他不规则形状，本实用新型实施例对此不做限定。
[0054]还需要说明的是，本实用新型实施例是以抽气扩散组件002上的所有抽气扩散孔K的形状相同为例进行说明的，实际应用中，抽气扩散组件002上的抽气扩散孔K的形状也可以不同，也即是，对于一个抽气扩散组件002，其可以包括圆形抽气扩散孔和方形抽气扩散孔等不同形状的抽气扩散孔，本实用新型实施例在此不再赘述。
[0055]请继续参考图2，抽气扩散组件002的个数为N，N为大于或者等于2的整数，N个抽气扩散组件002位于蒸镀腔室O内的待蒸镀器件(图2中未示出)的同一侧;或者，N个抽气扩散组件002位于待蒸镀器件的不同侧。其中，待蒸镀器件可以为基板，N的具体取值以及抽气扩散组件002的具体设置位置可以根据实际需要设置，可选地，抽气扩散组件002的个数为2，2个抽气扩散组件002包括抽气扩散组件0021和抽气扩散组件0022，抽气扩散组件0021和抽气扩散组件0022位于蒸镀腔室O内的待蒸镀器件的同一侧。
[0056]进一步地，请继续参考图2，设备本体001包括:壳体0011，壳体0011的顶面(图2中未示出)设置有开口(图2中未标出)，N个抽气扩散组件002都设置在壳体0011内，且每个抽气扩散组件002的板面与壳体0011的底面平行，示例地，抽气扩散组件0021和抽气扩散组件0022都设置在壳体0011内，且抽气扩散组件0021的板面与壳体0011的底面平行，抽气扩散组件0022的板面与壳体0011的底面平行。可选地，壳体0011可以为四棱柱状结构，壳体0011的顶面可以为四棱柱状结构的上底面，壳体0011的底面可以为四棱柱状结构的下底面，本实用新型实施例对此不作限定。
[0057]在N个抽气扩散组件002中:任意相邻的两个抽气扩散组件与壳体0011的内壁围成抽气缓冲室;距离壳体0011的底面最近的抽气扩散组件与壳体0011的底面和壳体0011的内壁围成抽气缓冲室;其中，每个抽气缓冲室用于对蒸镀腔室O内的气体进行缓冲。示例地，如图2所示，抽气扩散组件0021和抽气扩散组件0022与壳体0011的内壁围成抽气缓冲室Zl，抽气扩散组件0021为距离壳体0011的底面最近的抽气扩散组件，该抽气扩散组件0021与壳体OOl I的底面和壳体OOl I的内壁围成抽气缓冲室Z2。
[0058]进一步地，请继续参考图2，该蒸镀设备00还包括:驱动组件003。驱动组件003与每个抽气扩散组件002连接，驱动组件003用于驱动每个抽气扩散组件002沿壳体0011的高度方向h移动，调整包括每个抽气扩散组件002的抽气缓冲室的体积。
[0059]其中，壳体0011的高度方向h为从壳体0011的底面指向壳体0011的顶面的方向。示例地，如图2所示，当抽气扩散组件0021沿壳体0011的高度方向h移动时，可以调整抽气缓冲室Zl和抽气缓冲室Z2的体积。可选地，请参考图5，其示出了图2所示实施例提供的一种抽气扩散组件0021沿壳体0011的高度方向h向下移动后蒸镀设备00的结构示意图。参见图5，抽气扩散组件0021沿壳体0011的高度方向h向下移动后，抽气缓冲室Zl的体积增大，抽气缓冲室Z2的体积减小。需要说明的是，本实用新型实施例通过改变抽气缓冲室的体积，可以调整镀膜速率，进而提高蒸镀薄膜的均一性。
[0060]可选地，请参考图6，其示出了本实用新型实施例提供的另一种蒸镀设备00的结构示意图，参见图6，驱动组件003包括:与N个抽气扩散组件002——对应的N个驱动件0031，每个驱动件0031包括:驱动源00311和驱动杆00312，壳体0011的底面上设置有与每个驱动杆00312——对应的第一插孔(图6中未示出)，N个抽气扩散组件002中，除距离壳体0011的底面最远的抽气扩散组件002之外的每个抽气扩散组件002上设置有第二插孔(图6中未示出)，N个驱动件0031中:距离壳体0011的底面最近的抽气扩散组件002对应的驱动杆00312穿过相应的第一插孔插入蒸镀腔室0，与距离壳体0011的底面最近的抽气扩散组件002连接;除距离壳体0011的底面最近的抽气扩散组件002对应的驱动杆00312之外的每个驱动杆00312依次穿过相应的第一插孔和第二插孔，与相应的抽气扩散组件002连接;每个驱动源00311都设置在壳体0011的底面上，并与一个驱动杆00312连接，每个驱动源00311用于驱动一个驱动杆00312移动，带动相应的抽气扩散组件002沿壳体0011的高度方向h移动。示例地，抽气扩散组件0021对应的驱动杆00312穿过相应的第一插孔插入蒸镀腔室0，与抽气扩散组件0021连接;抽气扩散组件0022对应的驱动杆00312依次穿过相应的第一插孔和第二插孔，与抽气扩散组件0022连接。需要说明的是，在本实用新型实施例中，N个驱动源00311可以设置在壳体0011的底面的中心位置，实际应用中，驱动源00311可以为电机，马达等，本实用新型实施例对此不做限定。
[0061 ]进一步地，请参考图2、图5或图6，壳体0011的底面设置有M个抽气孔C，M为大于或者等于2的整数，M个抽气孔C在壳体0011的底面上形成以壳体0011的底面的中心为对称中心的中心对称图形。其中，M的具体取值可以根据实际需要设置，优选地，M大于或者等于4且小于或者等于8。请参考图7，其示出了本实用新型实施例提供的一种蒸镀设备00的仰视图，参见图7，壳体的底面G上设置有4个抽气孔C，该4个抽气孔C在该壳体的底面G上形成以该壳体的底面G的中心g为对称中心的中心对称图形。
[0062]进一步地，请参考图2、图5或图6，该设备本体001还包括:盖体0012，盖体0012上设置有凹槽(图2、图5和图6中均未标出)和充气孔D，盖体0012设置在壳体0011上，且盖体0012上的凹槽的开口面与壳体0011的顶面(图2、图5和图6中均未示出)共面，盖体0012上的凹槽与壳体0011的内腔形成蒸镀腔室O，可以通过充气孔D向蒸镀腔室O内充气。
[0063]进一步地，该蒸镀设备00还包括:第一电极004和第二电极005，第一电极004设置在壳体0011内，每个抽气扩散组件002位于第一电极004与壳体0011的底面之间；第二电极005设置在盖体0012的凹槽内。可选地，第一电极004和第二电极005可以为板状结构，第一电极004设置在壳体0011内且与壳体0011不接触，该第一电极004在壳体0011内的位置能够调节，第二电极005固定设置在盖体0012的凹槽内，且第二电极005的侧面与盖体0012的侧面接触，第二电极005上设置有多个过气孔Q，通过充气孔D充入蒸镀腔室O内的气体可以通过第二电极005上的过气孔Q到达第一电极004与第二电极005之间。其中，第一电极004和第二电极005的具体设置位置和固定方式可以参考相关技术，本实用新型实施例在此不再赘述。
[0064]综上所述，本实用新型实施例提供的蒸镀设备，由于抽气扩散组件上的抽气扩散孔能够对蒸镀腔室内的气体进行扩散，减小蒸镀腔室内不同位置的气体流速的差异，使蒸镀腔室内不同位置的气体流速趋于相同，提高形成的蒸镀薄膜的均一性，因此，解决了相关技术中蒸镀薄膜的均一性较差的问题，达到了提高蒸镀薄膜的均一性的效果。
[0065]本实用新型实施例提供的蒸镀设备可以提高蒸镀腔室内气体流速的均一性以及等离子体的均一性，提高蒸镀薄膜的均一性，进而提高包括该蒸镀薄膜的显示装置的显示良率。
[0066]请参考图8，其示出了本实用新型实施例提供的一种蒸镀设备的使用场景图，参见图8，该蒸镀设备在使用时，将待蒸镀器件01(比如基板)设置在第一电极004远离壳体0011的底面的一侧，将盖体0012设置在壳体0011上使盖体0012的凹槽的开口面与壳体0011的顶面共面，盖体0012和壳体0011形成设备本体001，盖体0012和壳体0011之间形成蒸镀腔室0，待蒸镀器件01位于第一电极004与第二电极005之间，然后分别向第一电极004和第二电极005施加电压，使第一电极004和第二电极005放电产生电子，第一电极004与第二电极005之间形成放电区，通过充气孔向蒸镀腔室O内充入气体，该气体通过第二电极005上的过气孔Q到达放电区，放电区的电子与该气体的分子或原子碰撞产生等离子体，等离子体之间发生化学反应形成新粒子，在第一电极004与第二电极005之间的磁场的作用下，该新粒子按照一定规律运动(比如向待蒸镀器件01移动)，最终沉积在待蒸镀器件01上形成蒸镀薄膜。其中，在向蒸镀腔室O内充入气体的同时，可以通过壳体0011底部的M个抽气孔同时对蒸镀腔室O抽真空，这样在控制蒸镀腔室O的真空度、压力、气体的通气量的同时，可以使蒸镀腔室O内不同位置的气体流速差异较小，进而使形成的蒸镀薄膜的均一性较好，且由于蒸镀腔室O内还设置有两个抽气扩散组件002，在对蒸镀腔室O抽真空的过程中，每个抽气扩散组件002可以对气体进行扩散，进一步减小了蒸镀腔室O内不同位置的气体流速差异，提高蒸镀薄膜的均一性。
[0067]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种蒸镀设备，用于对待蒸镀器件进行蒸镀，其特征在于，所述蒸镀设备包括:设备本体和抽气扩散组件， 所述设备本体设置有蒸镀腔室和抽气孔，所述抽气扩散组件设置在所述蒸镀腔室内，且所述抽气扩散组件上设置有抽气扩散孔，所述抽气扩散孔能够对经过所述抽气扩散组件的气体进行扩散。2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述抽气扩散组件为板状结构，所述抽气扩散孔均匀分布在所述抽气扩散组件上。3.根据权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于， 所述抽气扩散组件的个数为N，N为大于或者等于2的整数，N个所述抽气扩散组件位于所述蒸镀腔室内的待蒸镀器件的同一侧;或者，N个所述抽气扩散组件位于所述待蒸镀器件的不同侧。4.根据权利要求3所述的蒸镀设备，其特征在于，所述设备本体包括:壳体， 所述壳体的顶面设置有开口，N个所述抽气扩散组件都设置在所述壳体内，且每个所述抽气扩散组件的板面与所述壳体的底面平行； 在N个所述抽气扩散组件中: 任意相邻的两个所述抽气扩散组件与所述壳体的内壁围成抽气缓冲室； 距离所述壳体的底面最近的所述抽气扩散组件与所述壳体的底面和所述壳体的内壁围成抽气缓冲室； 其中，每个所述抽气缓冲室用于对所述蒸镀腔室内的气体进行缓冲。5.根据权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备还包括:驱动组件， 所述驱动组件与每个所述抽气扩散组件连接，用于驱动每个所述抽气扩散组件沿所述壳体的高度方向移动，调整包括每个所述抽气扩散组件的抽气缓冲室的体积。6.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述驱动组件包括:与所述N个抽气扩散组件一一对应的N个驱动件，每个所述驱动件包括:驱动源和驱动杆， 所述壳体的底面上设置有与每个所述驱动杆一一对应的第一插孔，所述N个抽气扩散组件中，除距离所述壳体的底面最远的抽气扩散组件之外的每个抽气扩散组件上设置有第二插孔， 所述N个驱动件中: 距离所述壳体的底面最近的抽气扩散组件对应的驱动杆穿过相应的第一插孔插入所述蒸镀腔室，与距离所述壳体的底面最近的抽气扩散组件连接； 除距离所述壳体的底面最近的抽气扩散组件对应的驱动杆之外的每个驱动杆依次穿过相应的第一插孔和第二插孔，与相应的抽气扩散组件连接； 其中，每个所述驱动源都设置在所述壳体的底面上，并与一个所述驱动杆连接，每个所述驱动源用于驱动一个所述驱动杆移动，带动相应的抽气扩散组件沿所述壳体的高度方向移动。7.根据权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于， 所述壳体的底面设置有M个所述抽气孔，M为大于或者等于2的整数，M个所述抽气孔在所述壳体的底面上形成以所述壳体的底面的中心为对称中心的中心对称图形。8.根据权利要求7所述的蒸镀设备，其特征在于，所述M大于或者等于4且小于或者等于8。9.根据权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，所述设备本体还包括:盖体， 所述盖体上设置有凹槽，所述盖体设置在所述壳体的顶面上，且所述凹槽的开口面与所述壳体的顶面共面，所述凹槽与所述壳体的内腔形成所述蒸镀腔室。10.根据权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备还包括:第一电极和第二电极， 所述第一电极设置在所述壳体内，每个所述抽气扩散组件位于所述第一电极与所述壳体的底面之间； 所述第二电极设置在所述盖体的凹槽内。11.根据权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于， 所述盖体上设置有充气孔。12.根据权利要求1至11任一所述的蒸镀设备，其特征在于，所述抽气扩散孔包括:圆形孔和方形孔中的至少一种。
【文档编号】C23C16/455GK205556775SQ201620424292
【公开日】2016年9月7日
【申请日】2016年5月10日
【发明人】王文龙, 林亮, 姜涛, 马骏, 韩领, 钱海蛟, 万云海
【申请人】合肥鑫晟光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司