技术总结
本发明涉及改性聚硅氮烷、含有该改性聚硅氮烷的涂布液及使用该涂布液而制造的气体阻隔性膜。本发明提供保存稳定性、特别是严酷的条件(高温高湿条件)下的保存稳定性优异的气体阻隔性膜的制造方法。本发明的改性聚硅氮烷用29Si‑NMR测定的SiH3与SiH和SiH2的合计之比[(SiH3):(SiH+SiH2)]为1:10～30。
技术研发人员：伊东宏明;
受保护的技术使用者：柯尼卡美能达株式会社;
文档号码：201580006849
技术研发日：2015.02.06
技术公布日：2016.09.14