本发明更具体地涉及这种基材用于制造隔热和/或防晒窗玻璃的用途。这些窗玻璃可以用于装备建筑物和车辆，特别是为了减少空调负荷和/或防止过度过热（“太阳能控制”窗玻璃）和/或减少向外部消散的能量的量（“低辐射”窗玻璃），其由于建筑物和车辆隔间中玻璃表面的重要性日益增加所致。这些窗玻璃还可以结合到具有特定功能的窗玻璃中，例如，如加热的窗玻璃或电致变色窗玻璃。已知用于在基材上赋予这种特性的一类层叠层包括具有红外区域和/或太阳辐射区域中的反射特性的金属功能层，特别是基于银或含银金属合金的金属功能层。在这种类型的叠层中，功能层因此位于两个抗反射涂层之间，每个抗反射涂层通常包括多个层，每个层由氮化物类型的介电材料，特别是氮化硅或氮化铝，或氧化物类型的介电材料制成。从光学角度来看，构成金属功能层的这些涂层的目的是使该金属功能层“抗反射”。然而，阻挡涂层有时插入一个或每个抗反射涂层和金属功能层之间；在基材方向上位于功能层下方的阻挡涂层在可能的高温热处理（弯曲和/或回火类型）期间保护它，并且阻挡涂层位于功能层上与基材相对的一侧上，在上抗反射涂层的沉积期间和在可能的高温热处理（弯曲和/或回火类型）期间，保护该层免于可能的退化。例如从欧洲专利申请no.ep718250中已知，基于氧化锌的“润湿”介电层在载体基材的方向上直接定位在银基金属功能层下面，促进了实现金属功能层的适当结晶状态，同时具有能够承受高温弯曲或回火热处理的优点。此外，该文献公开了存在直接在银基功能层上和与银基功能层接触的金属形式沉积层的有利效果，用于在顶部沉积其它层期间和在高温热处理期间保护功能层。本领域技术人员在“阻挡层”或“阻断层”的通用术语下知道这种层的类型。从国际专利申请no.wo2010/142926中另外已知用于对包括一个或多个银基功能层的薄层叠层进行闪蒸加热的不同解决方案。通过闪蒸加热处理使得可以改善金属功能层的质量并因此降低发射率（其与薄层电阻直接相关），并且使用吸收性中间层使得可以增加在处理过程中叠层的吸收性，以使其短暂但有效。随着吸收中间层在处理期间变得透明，处理后的叠层的光学特性是有利的（尤其可以获得高透光率）。本发明的目的是通过开发一种新型的层功能性单层或功能性多层叠层来成功地克服现有技术的缺点，该叠层在一个（或两个或多个）弯曲和/或回火和/或退火和/或闪蒸加热类型的高温热处理之后表现出降低的薄层电阻（并因此降低的发射率）。已经发现令人惊讶的是，在这种氧化镍层不直接接触这种银基金属功能层的情况下，在靠近金属功能层的这种叠层中存在氧化镍层对降低叠层的薄层电阻具有非常有利的作用。因此，本发明的主题在最广泛的意义上是如权利要求1所述的透明基材。该基材在主面上设置有薄层叠层，其包括至少一个，实际上甚至仅一个金属功能层和两个抗反射涂层，所述金属功能层在红外区域和/或在太阳辐射区域中具有反射特性，特别地所述金属功能层基于银或含银金属合金，所述抗反射涂层各自包括至少一个介电层，所述功能层位于两个抗反射涂层之间，至少一个氧化镍nixo层在基材的方向上位于所述功能层下面和/或在所述功能层上方，不与功能层接触，在所述或每个氧化镍nixo层和所述功能层之间插入至少一层或仅一层由不同材料制成的层。介于金属功能层和nixo层之间的一层或多层既不是银-基金属功能层也不是氧化镍层;优选地，介于金属功能层和nixo层之间的这个（或这些）层不是氮化物，也就是说不包含氮。在本发明的含义内的“金属层”应理解为意指该层既不包含氧也不包含氮。在本发明的含义内的“涂层”应理解为意指在涂层内可存在不同材料的单层或多层。“接触”应理解为在本发明的含义内，在所考虑的两个层之间没有插入层。“基于”应理解为在本发明的含义内，所述元素或所述材料在所考虑的层中以大于50原子％存在。有利地，在红外区域和/或在太阳辐射区域中具有反射特性的单个（或所述）一个或多个金属功能层是一个（或两个或多个）连续层。事实上，根据本发明，氧化镍nixo层不包含除ni和o之外的任何其他元素。构成该层的材料可描述为：“纯氧化镍”。表述“nixo”是指可能是ni1o1，但该层的构成材料可能无法精确地表现出这种稳定的化学计量：-该层的材料的ni可略微超化学计量，例如0.8≤x<1，特别是0.8≤x≤0.95，或者-该层的材料的ni可以略微亚化学计量，例如1<x≤1.2，特别是1.05≤x≤1.2。在一种特定的替代形式中，单个氧化物-基层，特别是基于氧化锌的层，被插入在基材方向上所述功能层下方在所述氧化镍nixo层和所述功能层之间，以获得在氧化镍层的结晶状态方面甚至更有利的效果。在一种非常特定的替代形式中，单个金属层，特别是包含ni和/或cr的层或包含ge的层，被插入在所述氧化镍nixo层和所述功能层之间，在基材的方向上所述功能层下方和/或在与基材相对的一侧上的所述功能层上方，以便能够实现阻挡和/或润湿功能。在另一种替代形式中，金属层，特别是包含镍和铬的金属层，位于功能层下方并与之接触，所述金属层的物理厚度实际上为至少0.3nm，实际上甚至在0.6至8.0nm之间，实际上甚至在1.0至5.0nm之间，并且在所述金属层和所述氧化镍nixo层之间插入氧化物-基层，特别是基于氧化锌的层，所述氧化镍nixo层位于在基材方向上所述功能层下方。在非常特定的替代形式中，基于氧化锌的层位于在所述基材方向上氧化镍nixo层下方，并与所述氧化镍nixo层接触。这是因为已经发现氧化锌的结晶取向对氧化镍的结晶取向具有有利的影响。优选地，所述氧化镍nixo层的x为1.2至0.5，实际上甚至为0.9至0.6。所述氧化镍nixo层的物理厚度优选在0.3至10.0nm之间，实际上甚至在0.6至8.0nm之间，实际上甚至在1.0至5.0nm之间。相对薄的氧化镍nixo层可以限制光吸收效果;相对厚的氧化镍nixo层使得可以确保获得改善金属功能层质量的所需效果。该叠层可包括在沿所述基材的方向上所述功能层下面的氧化镍nixo层和与基材相对的一侧上位于所述功能层上方的氧化镍nixo层。对于这两个层，x优选是相同的，以便于沉积。在所述氧化镍nixo层（在功能层之下和/或之上）与所述功能层之间插入的层中的唯一（或所有）层（如果存在多层）的物理厚度优选在0.5至15.0nm，实际上甚至在0.7至8.0nm之间，甚至在1.0至6.0nm之间。还存在一种特定的替代形式，其中彼此接触的两个氧化镍层在基材方向上位于所述功能层下方和/或两个彼此接触的氧化镍层位于所述功能层上方，最靠近所述功能层的氧化镍niyo层比另一个更远的氧化镍nixo层氧化得更少。这是因为更多氧化的氧化镍层是更好的阻挡剂，更少氧化的氧化镍层是更好的光吸收剂。所述下抗反射和上抗反射涂层优选各自包含至少一个基于氮化硅的介电层，任选地使用至少一种其他元素如铝掺杂。因此，叠层可以包括最终层（外涂层），即保护层。该保护层优选具有0.5至10nm的物理厚度。根据本发明的窗玻璃包括至少承载根据本发明的叠层的基材，任选地与至少一个其他基材组合。每种基材可以是透明的或着色的。其中基材之一至少特别可以由本体着色玻璃制成。着色类型的选择将取决于一旦其制造完成后的窗玻璃所需的光透射率水平和/或比色外观水平。根据本发明的窗玻璃可以呈层压结构，特别是通过至少一片热塑性聚合物组合至少两个玻璃类型的刚性基材，以呈现玻璃/薄层叠层/片材/玻璃类型的结构。该聚合物尤其可以基于聚乙烯醇缩丁醛pvb，乙烯/乙酸乙烯酯eva，聚对苯二甲酸乙二醇酯pet或聚氯乙烯pvc。此外，窗玻璃可以呈现玻璃/薄层叠层/聚合物片材类型的结构。根据本发明的窗玻璃能够经受热处理而不会损坏薄层叠层。因此任选地是弯曲的和/或回火的。窗玻璃可以弯曲的和/或回火的，同时由单个基材构成，该基材设置有叠层。然后它是“单片”窗玻璃。在它们是弯曲的情况下，特别是为了形成用于车辆的窗玻璃的目的，优选地在至少部分非平面的面上具有薄层叠层。窗玻璃也可以是多层窗玻璃，特别是双层窗玻璃，至少承载叠层的基材可被弯曲和/或回火。在多层窗玻璃构造中，优选将叠层定位面向插入的充气腔。在层压结构中，叠层可以与聚合物片材接触。窗玻璃也可以是由三个玻璃片材组成的三层窗玻璃，这三个玻璃板通过成对的充气腔分开。在三层窗玻璃结构中，当认为太阳光的入射方向以其编号的递增顺序穿过面时，承载叠层的基材可以在面2和/或面5上。当窗玻璃是单片或多层时，在双层窗玻璃，三层窗玻璃或层压窗玻璃类型中，至少承载该叠层的基材可以由弯曲或回火的玻璃制成，该基材可以在叠层沉积之前或之后弯曲或回火。在独立的另一种替代形式中，透明基材在主面上设置有薄层叠层，其包括两个金属功能层和三个抗反射涂层，所述金属功能层（特别是基于银的或者基于含银金属合金）在红外区域和/或太阳辐射区域中具有反射特性，所述抗反射涂层各自包括至少一个介电层，每个功能层位于两个抗反射涂层之间，从基材开始，具有至少一个氧化镍nixo层（其位于第一功能层下面）和至少一个氧化镍nixo层（其位于第二功能层下面）并且在每个氧化镍nixo层和位于其上的每个功能层之间插入至少一层或仅一层由不同材料制成的层。有利地，本发明因此使得可以生产薄层金属功能单层或金属功能多层的叠层，其在热处理之后表现出较低的薄层电阻，而不会不利地影响叠层的光学参数。本发明的细节和有利特征从以下非限制性实施例中得出，所述实施例通过附图说明，所述附图说明：-在图1中，根据本发明的功能性单层叠层，功能层直接沉积在下阻挡涂层上并直接沉积在上阻挡涂层下，该叠层在处理期间使用产生辐射的源进行说明;-在图2中，双层窗玻璃方案包含功能性单层叠层;-在图3中，在氧气存在下从金属靶沉积的氧化镍的滞后曲线;-在图4中，基于实施例1、2和10的一系列实施例的热处理后的薄层电阻随金属功能层t140的厚度的变化;-在图5中，基于实施例2和10的一系列实施例的热处理后的薄层电阻随层128的厚度t128的变化;-在图6中，基于实施例1'和14的一系列实施例的热处理后的薄层电阻随金属功能层t140的厚度的变化;和-在图7中，根据本发明的功能性双层叠层，每个功能层直接沉积在下阻挡涂层上并直接沉积在上阻挡涂层下面。在图1、2和7中，未标示不同层或不同元件的厚度之间的比例，以使其更容易阅读。图1示出了沉积在透明玻璃基材30的面29上的根据本发明的功能单层叠层35的结构，其中单个功能层140，特别是基于银或含银金属合金，位于两个抗反射涂层之间，下抗反射涂层120位于沿基材30的方向上功能层140下方，和上抗反射涂层160位于与基材30相对的一侧的功能层140上方。这两个抗反射涂层120,160各自包括至少一个介电层122,126;162,168并且优选地每个包括至少两个介电层：在每个介电涂层中，介电层126,162，优选地基于氧化锌，更接近功能层140，以及介电层122,168，优选地基于氮化硅，较远离功能层140。任选地，一方面，功能层140可以直接沉积在位于下抗反射涂层120和功能层140之间的下阻挡涂层130上，另一方面，功能层140可以直接沉积在上阻挡涂层150下面，上阻挡涂层150位于功能层140和上抗反射涂层160之间。下阻挡层和/或上阻挡层尽管以金属形式沉积并呈现为金属层，但有时在实践中是氧化层，因为它们的功能之一（特别是对于上阻挡层）是在叠层沉积期间被氧化以保护功能层。根据本发明，至少一个氧化镍nixo层（下表1至3中的层127）位于沿基材30的方向所述功能层140下方和/或至少一个氧化镍nixo层（下面表1至3和表6中的层167）位于所述功能层140上方，在下述层之间插入至少一层或仅一层由不同材料制成的层：-所述氧化镍nixo层127,167和所述功能层140，-或每个氧化镍nixo层127,167和所述功能层140。当叠层用于双层窗玻璃结构的多层窗玻璃100中时，如图2所示，该窗玻璃包括两个基材60,30，它们通过框架结构90保持在一起并且通过插入的充气腔19彼此分开。每个基材30,60分别包括与插入的充气腔19接触的内表面29,61，基材30,60的另一个表面31,59分别与内部空间is、外部空间es接触。因此，窗玻璃提供外部空间es和内部空间is之间的分离。当考虑进入建筑物的太阳光的入射方向（在建筑物内最远的片材上）和面向充气腔的面时，叠层可以定位在面3上。图2示出了位于基材30的内表面29上的薄层叠层35的面3上的定位（进入建筑物的太阳光的入射方向由双箭头示出），该薄层35与插入的充气腔19接触，基材30的另一面31与内部空间is接触。然而，还可以设想，在该双层窗玻璃结构中，基材之一呈层压结构。对于下面的所有例子，层的沉积条件是：层使用的靶沉积压力气体si3n4si:al，92:8wt%1.5×10-3mbarar/(ar+n2)，22%znozn:o，50:50atom%2×10-3mbarar/(ar+o2)，90%snznozn:sn，55:45atom%2×10-3mbarar/(ar+o2)，30%nicrni:cr，80:20atom%8×10-3mbarar，100%nixoni5×10-3mbarar/(ar+o2)，87%niyoni5×10-3mbarar/(ar+o2)，81%agag8×10-3mbarar，100%因此，沉积的层可以分为四类：i-抗反射/介电材料层在可见区域的整个波长范围内表现出大于5：si3n4，zno的n/k比;ii-由在红外区域和/或太阳辐射区域具有反射特性的材料制成的金属功能层：ag;已经观察到银在可见光区的整个波长范围内显示出0<n/k<5的比率，并且其体电阻率小于10-6ω.cm;iii-下阻挡层和上阻挡层旨在保护功能层在叠层沉积期间不改变其性质;iv-氧化镍nixo和niyo层;图3说明了这两层沉积的条件。应该注意的是，ni1o1陶瓷靶也已经过测试，并且导致与以下实施例中发现的相似的结果。在下面的所有实施例中，薄层叠层沉积在由透明钠钙玻璃制成的基材上，该玻璃厚度为4mm的planiclear品牌，由saint-gobain出品。参考图1的配置，实施例的每层或涂层的物理厚度（以纳米表示）在下面的表1至3中列出，并且与这些实例有关的主要数据汇集在表4和5中。在表1至表3中，“no.”列显示了层的编号，第二列显示了涂层的编号，与图1的配置相关;第三列显示了第一列层的沉积材料。在这些表1至3中，基材30位于层122下方，并且实施例的层按照左侧列所示的顺序定位，从该基材30开始从底部向上；因此，在这些表中层编号未在图1中示出，以与表中所示相同的方式在实施例中定位。在表1的第一系列实施例中，对于实施例10至13，氧化镍nixo层127位于下抗反射涂层120中和通过基于氧化锌的介电层128与金属功能层140分离（实施例10和13），通过由锗制成的金属层129（实施例11）与金属功能层140分离，或通过两层（其中一层129是金属的并且由锗制成，另一层是层127'，其是氧化物，和更具体地是由氧化镍niyo制成的层（实施例12））与金属功能层140分离。层127'的该氧化镍niyo与层127的氧化镍nixo不同：参考图3，其示出了在氧化气氛中从金属靶沉积的氧化镍的滞后曲线（横坐标表示氧气流量，以sccm为单位，纵坐标显示靶端处的电压），nixo在标准条件下沉积，产生富氧氧化物（换句话说，氧超化学计量，或氧化学计量，实际上甚至氧略微低于亚化学计量），而niyo在导致富ni氧化物的条件下沉积（换句话说，氧明显低于化学计量）。niyo的使用导致获得更高的光吸收。在表2的第二系列实施例中，对于实施例20至23，氧化镍nixo层167位于上抗反射涂层160中并且通过由镍-铬合金制成的金属层150与金属功能层140分离（实施例21）或通过两层（其中一层150是金属的并由镍铬合金制成，另一层162，是基于氧化锌的氧化物（实施例20）或者是氧化镍niyo层167'（实施例23），它们按该顺序沉积在金属功能层上）与金属功能层140分离，或者通过三层（实施例22）（它们依次从金属功能层开始：由镍-铬合金制成的金属层150，然后是基于氧化锌的层162，和然后是介电层162'，它可以是混合的氧化锌锡，氧化锡或氧化钛）与金属功能层140分离。在表3的第三系列实施例中，对于实施例14至16，氧化镍nixo层127位于下抗反射涂层120中并且通过由镍-铬合金制成的金属层130与金属功能层140分离（实施例14和16），或通过两层（其中一层是由镍-铬合金制成的金属层150，另一层是由氧化物制成的介电层128，更特别是基于氧化锌（实施例15））与金属功能层140分离。对于实施例24至27，氧化镍nixo层167位于上抗反射涂层160中并且通过由镍-铬合金（实施例26）制成的金属层150与金属功能层140分离，或通过两层（其中一层是由镍铬合金制成的层150，其是金属的，另一层是氧化层并且基于氧化锌的层162（实施例24），或者是氧化镍niyo层167'（实施例27））与金属功能层140分离，或者通过从金属功能层开始依次的下述三层与金属功能层140分离（实施例25）：由镍-铬合金制成的金属层150，然后是基于氧化锌的层162，和然后是电介质层162'，其可以是混合的锌锡氧化物，氧化硅或氧化钛。实施例12102021r(ω/平方)4.74.5(-5%)3.5(-25%)3.8(-19%)4.1(-13%)abs(%)9.49.47.010.010.0表4实施例1’14r(ω/平方)6.64.5(-32%)abs(%)17.014.0表5。表4和表5中所示的涂有叠层的基材的特性包括在650℃回火热处理10分钟后测量，和然后进行冷却操作：-对于r，通常使用四点探针测量的薄层电阻，单位为欧姆/平方，和-对于abs，在可见区域中的光吸收率，以％表示，根据光源d652°测量，在与基材主面相对的一侧上，其上沉积有薄层叠层。对于表4，括号中的值表示薄层电阻相对于由实施例1组成的参考例的改进（降低），对于表5，括号中的值表示薄层电阻相对于由实施例1'组成参考例的改进（降低）。实施例16和实施例14之间的区别在于，在实施例14的背景下（对于其他实施例），氧化镍nixo层127直接沉积在基于氧化锌的层126上，而在实施例16的背景下，氧化镍nixo层127直接沉积在基于氮化硅的层122上。已经注意到，实施例16的薄层电阻高于实施例14的薄层电阻，因为该实施例16没有受益于当氧化镍层直接沉积在基于氧化锌的层上时获得的有利条件。在激光线8下，热处理能够以10m/min的速率向前使基材30前进。举例来说，这种激光线可以具有60μm的宽度和为25w/mm的功率，激光线垂直于面29定向并且在叠层的终端层方向上，其最远离面29，也就是说通过定位激光线（由直的黑色箭头示出），如图1所示，在叠层上方并通过将激光定向在叠层方向上。已经用厚度为1nm的氧化镍nixo层127和/或氧化镍nixo层167进行了其他测试，并给出了类似的结果。已经进行了其他测试。已经在实施例1,2和10的基础上进行了测试，其中金属功能层140由银制成，该金属功能层140的厚度被修改。图4示出了随金属功能层140的厚度t140（以纳米计）的变化，获得的薄层电阻（以欧姆每平方计）：-对于基于实施例1的参考叠层：非连续曲线，-对于基于实施例2的参考叠层，带有正方形的曲线，-对于根据本发明的基于实施例10的叠层：具有圆形的曲线，和-对于基于实施例10的根据本发明的叠层，但是作为另外的差异，具有不再是5nm而是2nm的层128：具有三角形的曲线。因此，该图4表明，当金属功能层的厚度在6至15nm之间时，薄层电阻总是得到改善（也就是说，降低）。图5显示了随层128的厚度t128（以纳米计）的变化，获得的薄层电阻（以欧姆每平方计）：-对于基于实施例10的叠层并具有10nm厚度的金属功能层140：方形点，-对于基于实施例10的叠层，但具有呈现15nm厚度的金属功能层140：圆点。该图5示出了当存在厚度在1至5nm之间的层128时，薄层电阻总是得到改善（也就是说，降低）。已经在表2的实施例20的基础上进行了测试：层167的厚度，最初为5nm，是-降低的，相对于实施例1的热处理后，以达到1nm的值，热处理后的叠层的薄层电阻降低18％;-增加的，相对于实施例1的热处理后，以达到15nm的值，并且热处理后的叠层的薄层电阻降低20％;完全出乎意料的是，无论层167的厚度如何，热处理后对薄层电阻的影响是相当的。已经在表3的实施例1'和14的基础上进行了测试，其中金属功能层140由银制成，该金属功能层140的厚度被修改。图6示出了随金属功能层140的厚度t140（以纳米计）的变化，获得的薄层电阻（以欧姆每平方计）：-对于基于实施例1'的参考叠层：非连续曲线，和-对于基于实施例14的参考叠层：带正方形的曲线。因此，该图6表明，当金属功能层的厚度在6至15nm之间时，薄层电阻总是得到改善（也就是说，降低）。此外，已经进行了测试以试图理解nixo层127和/或167的沉积方法是否会影响所获得的改进。这是因为可以获得nixo层：i.或者，通过在含氧的气氛（实际上甚至还包含中性气体，例如氩气）中溅射仅含ni的金属靶；ii.或者，通过在含有中性气体如氩气的气氛中，甚至还包含氧气的气氛中，溅射含有ni和氧的“陶瓷”靶。已经发现，根据<200>的金属功能层140的银的xrd衍射峰在情况i中更明显;然而，在nixo层127和/或137的相同厚度（5nm）下，相对于参考例的薄层电阻的改善（降低）是相同的。在实施例10的基础上，已经发现在情况i中沉积的19nm厚的nixo层127的薄层电阻改善甚至更多（降低甚至更多），降低-22％，相对于热处理后的实施例1；然而，热处理后，可见光区域的吸光率abs上升至22％。此外还发现，在热处理之前，根据上述情况i沉积的nixo的电阻率约为190μω.cm，即接近ito的值（约200μω.cm）和大大高于用于功能层140的银的电阻率，其大约为3μω.cm;在650℃下热处理10分钟后，根据上述情况i沉积的相同nixo的电阻率降至约30μω.cm.。已经测试了实施例10的机械强度并与实施例1的机械强度进行了比较：它对于低负载良好和对于高负载更好。图7示出了根据本发明的功能双层叠层35'的结构，其沉积在透明玻璃基材30的面29上，其中两个功能层140和180，特别是基于银或含银金属合金，各自位于两个抗反射涂层之间，下抗反射涂层120位于沿基材30的方向上第一功能层140下方，中间抗反射涂层160位于两个功能层之间，上抗反射涂层200位于第二和最终功能层180上方，离基材30最远。这三个抗反射涂层120,160和200各自包括至少一个介电层122,126;162,166,168;202,204并且优选地每个包括至少两个介电层：在每个介电涂层中，介电层126,162,168,202，优选地基于氧化锌，其更靠近功能层，以及介电层122,168，204，优选基于氮化硅。任选地，-一方面，至少一个，优选每个功能层140,180可以直接沉积在下阻挡涂层130,170上，下阻挡涂层130,170分别位于紧邻的下方的抗反射涂层120，160和功能层140，180之间，和-另一方面，至少一个，优选每个功能层140,180可以直接沉积在上阻挡涂层150,190下面，上阻挡涂层150,190位于功能层140,180和位于紧邻的上方的抗反射涂层160,200之间。已经进行了测试以测量本发明对包括多个功能层的叠层的影响。包括两个金属功能层140,180的叠层的结构在下面的表6中列出，该叠层使用类似于表1至3的表结构进行测试：“no.”列显示了层的编号，第二列显示了涂层的编号，与图7的配置相关；第三列显示了第一列层的沉积材料。在该表6中，基材30位于层122下方，并且实施例的层以左侧列所示的顺序定位，从该基材30开始从底部向上;因此，在该表中编号未在图7中示出，层以与表中所示相同的方式在实施例中定位。这一系列实施例使得可以测量使用氧化镍层对薄层电阻的影响：-实施例40：仅在功能性双层叠层的第一金属功能层140下面，-实施例41：仅在功能性双层叠层的第二金属功能层180下面，和-实施例42：在功能性双层叠层的第一金属功能层140下面和第二金属功能层180下面。在表7中示出了在650℃下回火热处理10分钟然后冷却操作之后，如上所述用四点探针测量的四个实施例的薄层电阻r，以欧姆/平方表示。实施例4404142r(ω/平方)2.121.98(-7%)1.84(-13%)1.70(-20%)表7。因此，使用nixo层127和/或167改善（降低）薄层电阻，并且在包括多个金属功能层的叠层的每个金属功能层下应用本发明具有累积效应。此外，在实施例42的基础上也观察到薄层电阻的这种改善，其中四个阻挡层130,150,170和190的厚度各自为0.7nm（对于一个实施例），然后降低至0.5nm（对于另一个实施例），每个与实施例40的类型的实施例进行比较，对于一个，四个阻挡层130,150,170和190为0.7nm，并且对于另一个，这四个层为0.5nm。另外，在实施例42的基础上也观察到薄层电阻的这种改进，其中两个nixo层127和167的厚度各自为2nm，并且还通过减小四个阻挡层130,150,170的厚度，对于一个实施例为各自0.7nm，然后对于另一个实施例为各自0.5nm，和通过将每个与实施例40的类型的实施例进行比较，其中，对于一个实施例，四个阻挡层130,150,170和190为0.7nm，对于另一个实施例，这些四层为0.5nm。由于获得了低的薄层电阻以及良好的光学性能（特别是可见光区域中的光透射率），还可以使用涂覆有根据本发明的叠层的基材来制造透明电极基材。通常，透明电极基材可适用于任何加热的窗玻璃，任何电致变色窗玻璃，任何显示屏，或者也适用于光伏电池（或面板），和特别是用于透明光伏电池背板。在前文中通过实施例描述了本发明。应当理解，本领域技术人员能够产生本发明的不同替代形式，而未脱离权利要求所限定的专利保护范围。当前第1页12