一种降低CZ法制备单晶的杂质含量的方法与流程

文档序号:17327931发布日期:2019-04-05 21:54阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明涉及一种降低CZ法制备单晶的杂质含量的方法,在一个坩埚中同时生长多于一颗单晶,一般可同时生长2‑4颗单晶,各个单晶到坩埚轴心距离相同,均匀分布在坩埚同心圆轨道上,坩埚旋转方向与各个单晶自转方向相反,使得多个单晶能够均匀稳定的成晶,并保持一致的均一质地。本发明的有益效果是:拉制单晶时成晶界面的氧化物挥发的更加充分,单晶体内杂质含量会更低,产品品质更好;每个坩埚同时能生长2‑4颗单晶,产能更高,成本更低。

技术研发人员:高鹏;郝勇;赵存凤;武皓洋;郭志荣;李娜
受保护的技术使用者:内蒙古中环光伏材料有限公司
技术研发日:2018.12.25
技术公布日:2019.04.05
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