一种预熔化的高折射率光学镀膜材料及其制备方法和应用与流程

文档序号:26138109发布日期:2021-08-03 14:21阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种预熔化的高折射率光学镀膜材料,其特征在于,所述高折射率光学镀膜材料为钛酸镨,化学式为pr5ti5o17;

其中,所述钛酸镨是以tio2、pr6o11和ti粉体为原料,通过固相合成反应制备得到的。

2.根据权利要求1所述的高折射率光学镀膜材料,其特征在于,所述高折射率光学镀膜材料的密度为5.3-5.5g/cm3,材料熔点为1900℃,在500nm的折射率为2.10。

3.一种制备上述权利要求1或2所述的钛酸镨的方法,其特征在于,所述方法包括:

以tio2、pr6o11和ti粉体为原料,按一定比例进行机械混合,得到混合均匀的粉体;

对所述粉体进行压块或造粒,得到块体或颗粒;

在高温真空下,对所述块体或颗粒进行固相合成反应并融化,得到熔融体系;

在真空下,将所述熔融体系冷却至室温并破碎,得到钛酸镨,所述钛酸镨的化学式为pr5ti5o17。

4.根据权利要求3所述方法,其特征在于,所述原料中各组分的配比为:tio2含量23~27wt.%,pr6o11含量68~72wt.%,ti粉含量2~6wt.%。

5.根据权利要求3所述方法,其特征在于,所述原料中各组分的配比为:tio2含量为25~26wt.%,pr6o11含量为70~72wt.%,ti粉含量为2~5wt.%。

6.根据权利要求3所述方法,其特征在于,所述机械混合的时间为4~10h;所述压块或造粒所采用的压力为300~800n/cm2

7.根据权利要求3所述方法,其特征在于,所述机械混合的时间为6~8h;所述压块或造粒所采用的压力为500~600n/cm2

8.根据权利要求3所述方法,其特征在于,所述固相合成反应的真空度为10~1×10-3pa;所述固相合成反应的反应温度为1500~2200℃,反应时间为3~20h,升温速度为5~15℃/分。

9.根据权利要求3所述方法,其特征在于,所述固相合成反应的真空度为2×10-1pa~5×10-2pa;所述固相合成反应的反应温度为1700~2000℃,反应时间为8~12h,升温速度为7~12℃/分。

10.一种预熔化的高折射率光学镀膜材料的应用,其特征在于,将上述权利要求1或2所述的高折射率光学镀膜材料应用于制备光学涂层。


技术总结
本发明提供了一种预熔化的高折射率光学镀膜材料及其制备方法和应用,属于光学薄膜材料领域。该高折射率光学镀膜材料为钛酸镨,化学式为Pr5Ti5O17;并且,该钛酸镨是以TiO2、Pr6O11和Ti粉体为原料,通过固相合成反应制备得到的。采用本发明提供的制备方法所制备的该钛酸镨,在蒸发过程中保持稳定的化学组成,在预熔时可形成非常平整的蒸发表面,有利于镀膜过程的工艺控制。并且,采用本发明的钛酸镨镀制的光学膜层,在近紫外到近红外波段均有较高的透过率,同时,膜层致密、牢固,化学性质稳定,可作为优质的高折射率材料应用于光学膜系设计和批量的镀膜生产中。

技术研发人员:张碧田;石志霞;彭程;孙静;段华英;张恒;王星明
受保护的技术使用者:有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
技术研发日:2021.04.15
技术公布日:2021.08.03
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