一种单层釉面窑变砖及其制备方法_3

文档序号:9927369阅读:来源:国知局
厚度为0.7_,产品颜色一致但花纹各不相同的,具有红色釉面晶花图案的正六角形单层釉面窑变砖。
[0023]实施例6
(1)坯体泥浆的制备:将叶腊石35%、硅灰石15%、石灰石15%、余江泥20%、镁质泥15%按重量百分比称重投入球磨机内,并按上述料:球:水比例为1: 1.5:0.7球磨13小时,细度为250目筛余0.8%;
(2)釉面料的制备:将长石20%、氧化锌20%、白云石8%、高岭土7%、石英20%、熔块23%、二氧化锰1%、氧化铅1%按重量百分比称重入高铝衬球磨机内,并按照组合物料:球:水为I:1.6:0.5的比例,加入球和水一起进行球磨16小时,球磨细度控制在过350目,筛余量0.8%,将球磨好的釉面料放入釉浆桶中,经搅拌、过筛、除铁,釉浆比重为1.65kg/L;
(3)坯体成型与素烧:将坯体泥浆放入泥浆池中,经搅拌,用双缸隔膜栗抽取过筛、除铁、脱水、泥饼烘干、造粒、过筛、陈腐、成型、素烧,坯体用辊道窑素烧,素烧移动速度控制在30m/h,烧成温度控制在1020°C,素烧合格率为87%;
(4)坯体施釉:在施釉线上将坯体先经过喷水箱,再经过淋釉箱进行施釉;
(5)窑变砖烧制:施釉后的坯体经干燥后在梭式电窑内烧制,经过二次变温升降使其发生窑变反应,经过常温——5小时内升至1240 °C---决速降至1080 °C——再升至1100
0C一一保温80分钟一一降至室温后出窑,烧制时间控制在9小时以内,得到坯体厚度为7mm,釉面厚度为0.7_,产品颜色一致但花纹各不相同的,具有黑色釉面晶花图案的长方形单层釉面窑变砖。
[0024]实施例7
(1)坯体泥浆的制备:将叶腊石35%、硅灰石15%、石灰石10%、余江泥15%、镁质泥10%、吉安白泥15%按重量百分比称重投入球磨机内,并按上述料:球:水比例为1: 1.5:0.7球磨13小时,细度为250目筛余0.6%;
(2)釉面料的制备:将长石20%、氧化锌20%、白云石8%、高岭土7%、石英20%、熔块23%、氧化铜1.8%、钴兰0.2%按重量百分比称重入高铝衬球磨机内,并按照组合物料:球:水为1:1.6:0.5的比例,加入球和水一起进行球磨16小时,球磨细度控制在过350目,筛余量0.6%,将球磨好的釉面料放入釉浆桶中,经搅拌、过筛、除铁,釉浆比重为1.62kg/L;
(3)坯体成型与素烧:将坯体泥浆放入泥浆池中,经搅拌,用双缸隔膜栗抽取过筛、除铁、脱水、泥饼烘干、造粒、过筛、陈腐、成型、素烧,坯体用辊道窑素烧,素烧移动速度控制在35m/h,烧成温度控制在1020°C,素烧合格率为89.5%;
(4)坯体施釉:在施釉线上将坯体先经过喷水箱,再经过淋釉箱进行施釉;
(5)窑变砖烧制:施釉后的坯体经干燥后在梭式电窑内烧制,经过二次变温升降使其发生窑变反应,经过常温——5小时内升至1240 °C---决速降至1080 °C——再升至1100
0C一一保温80分钟一一降至室温后出窑,烧制时间控制在9小时以内,得到坯体厚度为7mm,釉面厚度为0.5_,产品颜色一致但花纹各不相同的,具有深兰色釉面晶花图案的长方形单层釉面窑变砖。
【主权项】
1.一种单层釉面窑变砖的制备方法,包括以下步骤: (1)坯体泥浆的制备:将叶腊石、硅灰石、石灰石、混合泥、按坯体配方称重入球磨机内,并按照重量比,组合物料:球:水为1: 1.5:0.7的比例,加入球和水一起进行球磨12—15小时,球磨细度控制在250目,筛余量0.6—0.8% ; (2)釉面料的制备:将长石、氧化锌、白云石、高岭土、石英、熔块、氧化物着色剂按釉面配方称重入球磨机内,并按照重量比,组合物料:球:水为1: 1.6:0.5的比例,加入球和水一起进行球磨16—17小时,球磨细度控制在过350目,筛余量0.7-1%,将球磨好的釉面料放入釉浆桶中,经搅拌、过筛、除铁,釉浆比重控制在1.6—1.65kg/L; (3)坯体成型与素烧:将步骤(I)中的坯体泥浆放入泥浆池中,经搅拌,用栗抽取过筛、除铁、脱水、泥饼烘干、造粒、过筛、陈腐、成型、素烧,坯体用窑素烧,素烧移动速度控制在25-35m/h,烧成温度控制在1010-1030°C ; (4)坯体施釉:在施釉线上将坯体先经过喷水箱,再经过淋釉箱进行施釉; (5)窑变砖烧制:施釉后的坯体经干燥后在窑内烧制,烧制时间控制在9小时,烧成温度控制在1250度,并经过二次变温升降使其发生窑变反应,得到单层釉面窑变砖。2.根据权利要求1所述的一种单层釉面窑变砖的制备方法,其特征在于:步骤(I)所述的还体配方为叶腊石25—45%wt、娃灰石10—25%wt、石灰石5—20%wt、混合泥10_60%wt;步骤(2)所述的釉面配方为长石10—30%wt、氧化锌10—30%wt、白云石2—20%wt、高岭土2—20%wt、石英 1一30%wt、恪块 1—40%wt、氧化物着色剂0-5%wt。3.根据权利要求1所述的一种单层釉面窑变砖的制备方法,其特征在于:步骤(I)所述的还体配方为叶腊石33—37。/_1:、娃灰石13—17%wt、石灰石8—12%wt、混合泥30_50%wt;步骤(2)所述的釉面配方为长石18—22%wt、氧化锌18—22%wt、白云石6—10%wt、高岭土5—9%wt、石英18一22%wt、恪块21 一25%wt、氧化物着色剂1-2%wt。4.根据权利要求3所述的一种单层釉面窑变砖的制备方法,其特征在于:所述的混合泥选自余江泥、苏州土、镁质泥、吉安白泥的一种或几种;所述的氧化物着色剂选自二氧化锰、氧化铜、三氧化二铁、氧化钴、氧化锂、氧化钡、氧化铅、氧化铬、钴兰中的一种或几种。5.根据权利要求1所述的一种单层釉面窑变砖的制备方法,其特征在于:步骤(2)所述的球磨机为高铝内衬球磨机;步骤(3)所述的用栗抽取为用双缸隔膜栗抽取;步骤(3)所述的用窑素烧为用辊道窑素烧;步骤(5)所述的窑内烧制为梭式电窑内烧制。6.根据权利要求1所述的一种单层釉面窑变砖的制备方法,其特征在于:步骤(3)所述的坯体成型,其坯体成型水份控制在6—7%之间。7.根据权利要求1所述的一种单层釉面窑变砖的制备方法,其特征在于:步骤(3)所述的用窑素烧,其素坯要比坯体成熟温度低5—10°C。8.根据权利要求1所述的一种单层釉面窑变砖的制备方法,其特征在于:步骤(5)所述的二次变温升降为:常温-升至1240 土 5 °C -快速降至1080 ± 5 °C _再升至1100 ± 5 °C -保温80±5分钟-降至室温。9.根据权利要求1所述的一种单层釉面窑变砖的制备方法,其特征在于:所述的单层釉面窑变砖其吸水率< 0.1%,坯体厚度为6-8mm,釉面厚度为0.5—0.9mm。10.根据权利要求1-9任一所述的一种单层釉面窑变砖的制备方法制备的单层釉面窑变砖;其单层釉面窑变砖外形为三角形、方形、菱形、五角形、六角形中的一种。
【专利摘要】一种单层釉面窑变砖及其制备方法,涉及一种建筑陶瓷釉面砖生产,该方法包括以下步骤:(1)坯体泥浆的制备;(2)釉面料的制备;(3)坯体成型与素烧;(4)坯体施釉;(5)窑变砖烧制等几个步骤。施釉后的坯体经干燥后在窑内烧制,并经过二次变温升降使其发生窑变反应,得到单层釉面窑变砖。该方法一是解决了坯釉结合问题,提高了产品合格率,适应于规模化生产;二是将底釉、面釉二合为一成为单层釉面,既简化施釉工艺,又避免底釉、面釉两者厚薄不一而产生色差,能适应建筑装饰大面积铺贴;三是降低窑变釉烧成温度和减少烧成时间,节能降耗;四是通过坯体配方优化和烧制工艺优化,使之既磁化又不致于太硬化,便于施工切割。
【IPC分类】C03C8/14, C04B33/24, C04B33/34
【公开号】CN105712701
【申请号】CN201610229608
【发明人】徐明光, 曾小勇, 罗青, 彭平香, 周根生
【申请人】江西赣鑫工艺陶瓷有限公司
【公开日】2016年6月29日
【申请日】2016年4月14日
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