一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃的制作方法
【专利摘要】本实用新型属于玻璃技术领域，具体涉及一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，其结构为：玻璃基片/第一复合介质层/第一银层/第一保护层/第二复合介质层/第二银层/第二保护层/第三复合介质层/第三银层/第三保护层/第四复合介质层/氧化锆膜；本实用新型的膜层能够经受700℃的高温钢化，钢化后颜色稳定，膜层钢化后无外观缺陷。
【专利说明】
一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃
技术领域
[0001]本实用新型属于玻璃技术领域，具体涉及一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃。
【背景技术】
[0002] 低辐射镀膜玻璃被证明是当今最好的建筑节能玻璃。通过在普通玻璃表面镀低辐 射膜而改善其性能，有效限制红外光透过，充分降低玻璃两侧的热交换，使其与普通玻璃和 传统镀膜玻璃相比，具有优良的节能性能、光学性能和环保性能。低辐射镀膜玻璃己被广泛 应用于世界各地的建筑中，特别是经济和科学技术比较发达的国家和地区。低辐射镀膜本 身随着研发的深入也在进行着更新换代，不仅满足建筑设计潮流审美的需要，而且节能性 也得到进一步提高。其中，三银低辐射镀膜玻璃因为其具有更低的红外线透过率、辐射率和 传热系数，使其更节能，从而被广泛应用。
[0003] 但是，三银低辐射镀膜玻璃因膜层结构复杂，在钢化过程中容易产生钢化后颜色 不稳定、有色道、膜层擦拭实验不合格等问题。 【实用新型内容】
[0004] 为了解决上述问题，本实用新型的目的在于提供一种可钢化的三银低辐射镀膜玻 璃，该玻璃膜层能够经受700°C的高温钢化，钢化后颜色稳定，膜层钢化后无外观缺陷。
[0005] -种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃的结构 为:玻璃基片/第一复合介质层/第一银层/第一保护层/第二复合介质层/第二银层/第二保 护层/第三复合介质层/第三银层/第三保护层/第四复合介质层/氧化锆膜。
[0006]较佳地，所述第一复合介质层的厚度为20~50nm、第一银层的厚度为5~15nm、第 一保护层的厚度为1~l-l〇nm、第二复合介质层的厚度为55~llOnm、第二银层的厚度为5~ 15nm、第二保护层的厚度为1~10nm、第三复合介质层的厚度为55~llOnm、第三银层的厚度 为5~15nm、第三保护层的厚度为1~10nm、第四复合介质层的厚度为35~70nm、氧化错膜的 厚度为3~10nm。厚度在一定的范围内，可起到减少摩擦，提升抗划伤性能。太厚的话，表面 就过于粗糙，反而起到相反的效果。此膜层能够有效增加膜系的抗划伤性能，提高产品的可 处理加工特性，减少膜面划伤等缺陷。
[0007] 较佳地，所述第一复合介质层包括氮化硅、氧化锌和ΑΖ0;所述氮化硅的厚度为10 ~25nm、所述氧化锌的厚度为5~15nm、所述ΑΖ0的厚度为5~10nm。较佳地，所述第一保护 层、第二保护层和第三保护层为镍铬层。
[0008] 较佳地，所述第二复合介质层包括氮化硅、氧化锌锡、氧化锌和ΑΖ0，所述氮化硅的 厚度为20~40nm、所述氧化锌锡的厚度为20~40nm、所述氧化锌的厚度为10~20nm、所述 ΑΖ0的厚度为5~10nm〇
[0009] 较佳地，所述第三复合介质层包括氮化硅、氧化锌锡、氧化锌、ΑΖ0,所述氮化硅的 厚度为20~40nm、所述氧化锌锡的厚度为20~40nm、所述氧化锌的厚度为10~20nm、所述 ΑΖ0的厚度为5~10nm〇
[0010] 较佳地，第四复合介质层包括ΑΖ0、氧化锌和氮化娃，所述ΑΖ0的厚度为5~10nm、所 述氧化锌的厚度为10~20nm、所述氮化娃的厚度为20~40nm。制备所述可钢化的三银低福 射镀膜玻璃，具体为:玻璃基片清洗一磁控溅射镀膜一切割一磨边一钢化；
[0011] 其中，
[0012] 1)、底部SiN的N2量要较少;例如，氮化硅的基础配比为，氩气:氮气=1000:900(单 位:SCCM)，底部氮化硅气氛配比则为，氩气:氮气=1000:700，以形成致密的结构，能够增加 跟玻璃基片的结合力。
[0013] 2)、中间层SiN与上下的氧化物介质层接触的介面处通入少量的〇2,形成SiOxNy 结构，与上下两层的氧化物介质层之间的结合力更好。例如，第二复合介质层中，氮化硅的 下一层是氧化锌锡，则在靠近氧化锌锡的那层氮化硅将气氛配比改为，氩气:氮气:氧气= 1000 :900 : 50(单位：SCCM)，这里指的是两层之间的介面处，形成SiOxNy的厚度一般为1~ 5nm〇
[0014] 3)、顶部Si_^N2量要多，形成应力小的稍疏松结构。例如，氮化硅的基础配比为， 氩气:氮气=1000:900(单位:SCCM)，底部氮化硅气氛配比则为，氩气:氮气=800:1100。
[0015] 4)、ZnSn0、ZnA10膜应按化学计量比或者过氧工艺溅射以减少应力。
[0016] 5)、顶部保护层Zr02高功率富02溅射，以形成纳米微晶粗糙的表面，表面粗糙则接 触面小，摩擦系数小，抗划伤性能强。Zr靶功率为60~100千瓦，富〇2溅射，例如Ar: 〇2 = 500: 1200,氧气较多。
[0017] 6)、对于Ag膜的种子层ΖηΑΙΟ等，用高功率60~100千瓦、低Ar、富02的气氛，容易得 到柱状的晶体结构，有利于Ag膜的生长。
[0018] 本实用新型的结构为:玻璃基片/第一复合介质层/第一银层/第一保护层/第二复 合介质层/第二银层/第二保护层/第三复合介质层/第三银层/第三保护层/第四复合介质 层/氧化锆膜;本实用新型不仅能有效提升膜层抗划伤性能，而且膜层能够经受700°C的高 温钢化，钢化后颜色稳定，膜层钢化后无外观缺陷，并通过钢化温度敏感性实验、钢化延时 实验、不同厚度玻璃基片钢化实验、不同厚度玻璃基片弯钢化实验。
【附图说明】
[0019] 图1为本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0020] 下面结合【具体实施方式】对本实用新型作进一步的详细说明，以助于本领域技术人 员理解本实用新型。
[0021] 实施例1
[0022] 见图1，一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，结构为:玻璃基片1/第一复合介质层 21 [氮化娃（厚度10nm)、氧化锌（5腦）、420(10腦）]/第一银层31(1511111)/镍络41(111111)/第二 复合介质层22 [氮化娃（20nm)、氧化锌锡(40nm)、氧化锌（10nm)、AZ0(5nm)]第二银层32 (15nm)/镍络42(lnm)/第三复合介质层23 [氮化娃(20nm)、氧化锌锡(20nm)、氧化锌（10nm)、 AZ0(10nm)]/第三银层33(5nm)/镍铬43(10nm)/第四复合介质层24[AZ0(5nm)、氧化锌 (20nm)、氮化娃（20nm) ]/Zr0x5( 10nm)。
[0023] 实施例2
[0024] 一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，结构为:玻璃基片/第一复合介质层[氮化硅 (厚度25nm)、氧化锌（15nm)、AZ0(5nm) ]/第一银层(5nm)/镍络（10nm)/第二复合介质层[氮 化娃（40nm)、氧化锌锡（20nm)、氧化锌（20nm)、AZ0(10nm)]第二银层（5nm)/镍络（10nm)/第 三复合介质层[氮化娃（40nm)、氧化锌锡（40nm)、氧化锌（20nm)、AZ0(5nm) ]/第三银层 (15nm)/镍铬（lnm)/第四复合介质层[AZO(lOnm)、氧化锌（10nm)、氮化硅（40nm)]/Zr0x (3nm)〇
[0025] 实施例3
[0026] 一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，结构为:玻璃基片/第一复合介质层[氮化硅 (厚度15nm)、氧化锌(8]1111)、420(811111)]/第一银层(811111)/镍络(311111)/第二复合介质层[氮化 娃(25nm)、氧化锌锡(30nm)、氧化锌（15nm)、AZ0(6nm)]第二银层(10nm)/镍络(3nm)/第三复 合介质层[氮化娃(35nm)、氧化锌锡(30nm)、氧化锌（15nm)、AZ0(6nm)]/第三银层（10nm)/镍 络（3nm)/第四复合介质层[AZ0(6nm)、氧化锌（15nm)、氮化娃（25nm) ]/Zr0x(5nm) 〇
[0027] 实施例4
[0028] 一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，结构为:玻璃基片/第一复合介质层[氮化硅 (厚度2011111)、氧化锌（1011111)、420(711111)]/第一银层（1〇11111)/镍络(511111)/第二复合介质层[氮 化娃（30nm)、氧化锌锡（25nm)、氧化锌（12nm)、420(7]1111)]第二银层（811111)/镍络（511111)/第三 复合介质层[氮化娃(30nm)、氧化锌锡(35nm)、氧化锌（13nm)、AZ0(7nm)]/第三银层(12nm)/ 镍络（ 5nm)/第四复合介质层[AZ0(7nm)、氧化锌（Πηπι)、氮化娃（30nm) ]/Zr0x(4nm) 〇
[0029] 实施例5
[0030] 一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，结构为:玻璃基片/第一复合介质层[氮化硅 (厚度 22nm)、氧化锌（12]1111)、420(611111)]/第一银层（1211111)/镍络(711111)/第二复合介质层[氮 化娃(35nm)、氧化锌锡(35nm)、氧化锌（18nm)、420(8]1111)]第二银层(611111)/镍络(811111)/第三 复合介质层[氮化娃(25nm)、氧化锌锡(25nm)、氧化锌（llnm)、AZ0(8nm)]/第三银层(13nm)/ 镍络（ 8nm)/第四复合介质层[AZ0(8nm)、氧化锌（Πηπι)、氮化娃（35nm) ]/Zr0x(8nm) 〇
[0031 ]上述实施例，只是本实用新型的较佳实施例，并非用来限制本实用新型实施范围， 故凡以本实用新型权利要求所述的特征及原理所做的等效变化或修饰，均应包括在本实用 新型权利要求范围之内。
[0032] 试验：
[0033] 1、钢化加工温度敏感性实验(结果见表1):检验膜层在钢化加工温度变化时是否 稳定。实验条件如下:在双室钢化炉加工。试样规格:6mm玻璃基片，规格1000mm*1000mm。
[0034] 表 1
[0035]
[0036] 结论:试样经过不同的炉温钢化后，无氧化、脱膜等外观缺陷。钢化后玻面最大色 差Δ L*g = 0.3，Δ a*g = 〇. 4，Δ b*g = 0.5，颜色变化极小，加工温度敏感性实验合格。
[0037] 2、钢化加热时间延时实验(结果见表2):检验膜层在钢化加工时间变化时膜层是 否稳定。在双室钢化炉加工，上部炉温695 °C，下部炉温685 °C。试样规格:6mm玻璃基片，规格 1000mm*1000mm。
[0038] 表 2
[0039]
[0040] 结论:试样经过不同的加热时间钢化后，无氧化、脱膜等外观缺陷。钢化后玻面最 大色差Δ L*g = 0.3，Δ a*g = 0.2，Δ b*g = 0.5，颜色变化极小，加热时间延时实验合格。
[0041] 3、不同厚度玻璃基片钢化实验(结果见表3):采用6、8、10、12111111试样，在双室钢化 炉加工，上部炉温695°C，下部炉温685°C，加热时间按相应的玻璃基片厚度作调整。
[0042] 表 3
[0044] 结论:不同厚度玻璃钢化后无外观缺陷，实验合格。
[0045] 4、弯钢化实验(结果见表4):检验不同厚度基片的弯钢化实验后，膜层是否完好、 稳定。采用6、8、10、12mm试样，在弯钢炉加工，上部炉温690°C，下部炉温685°C。
[0046] 表 4
[0047]
[0048] 结论:试样弯钢化无脱膜、边部无裂纹，外观良好，颜色稳定;不同厚度玻璃弯钢化 实验合格。
【主权项】
1. 一种可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述可钢化的三银低辐射镀膜玻 璃的结构为:玻璃基片/第一复合介质层/第一银层/第一保护层/第二复合介质层/第二银 层/第二保护层/第三复合介质层/第三银层/第三保护层/第四复合介质层/氧化锆膜。2. 如权利要求1所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一复合介质层 的厚度为20~50nm、第一银层的厚度为5~15nm、第一保护层的厚度为1~l-10nm、第二复合 介质层的厚度为55~llOnm、第二银层的厚度为5~15nm、第二保护层的厚度为1~10nm、第 三复合介质层的厚度为55~llOnm、第三银层的厚度为5~15nm、第三保护层的厚度为1~ 10nm、第四复合介质层的厚度为35~70nm、氧化错膜的厚度为3~IOnm 03. 如权利要求2所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一复合介质层 包括氮化娃、氧化锌和AZO;所述氮化娃的厚度为10~25nm、所述氧化锌的厚度为5~15nm、 所述AZO的厚度为5~IOnm。4. 如权利要求2所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层、第 二保护层和第三保护层为镍铬层。5. 如权利要求2所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二复合介质层 包括氮化硅、氧化锌锡、氧化锌和ΑΖ0,所述氮化硅的厚度为20~40nm、所述氧化锌锡的厚度 为20~40nm、所述氧化锌的厚度为10~20nm、所述AZO的厚度为5~10nm。6. 如权利要求2所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第三复合介质层 包括氮化硅、氧化锌锡、氧化锌、ΑΖ0,所述氮化硅的厚度为20~40nm、所述氧化锌锡的厚度 为20~40nm、所述氧化锌的厚度为10~20nm、所述AZO的厚度为5~10nm。7. 如权利要求2所述可钢化的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，第四复合介质层包括 ΑΖ0、氧化锌和氮化娃，所述AZO的厚度为5~10nm、所述氧化锌的厚度为10~20nm、所述氮化 娃的厚度为20~40nm〇
【文档编号】C03C17/36GK205501127SQ201620114585
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2016年2月4日
【发明人】余华骏, 黄颖, 梁瑞记, 叶光岱
【申请人】东莞南玻工程玻璃有限公司, 中国南玻集团股份有限公司