高强度耐磨高透光聚碳酸酯薄膜的制作方法

文档序号:3700096阅读:457来源:国知局
专利名称:高强度耐磨高透光聚碳酸酯薄膜的制作方法
技术领域
本发明涉及聚碳酸酯树脂领域,尤其涉及一种高强度耐磨聚碳酸酯树脂。
背景技术
聚碳酸酯PC是应用广泛的五大工程塑料之一,具有综合均衡的力学、电气及耐热性能,特别以优异的冲击强度和耐蠕变性著称,透光率高,力学性能好,特别是冲击韧性在工程塑料中最佳。由于PC的优良性能,其制品及其共混材料在电子、电器、机械、汽车、纺织、轻工及建筑等行业获得了广泛的应用。普通的聚碳酸酯薄膜耐水解稳定性不够高,对缺口敏感,耐有机化学品性,耐刮痕性较差,限制了其应用范围。现在通常会向薄膜加入各种添加剂和改性的方法来提高薄膜的以上性能,这样虽然能够一定程度上提高薄膜的耐水解稳定性、耐刮痕性,但是往往会降低薄膜的光学性能,使得薄膜的透光率很低,影响到了薄膜的正常使用。日本旭硝子公司设计出了一种玻璃纤维配合的薄膜,该薄膜具有透明性与高强度性两者兼备的特点,但是这种薄膜因为实际工艺技术和成本上的原因,至今还没有大规模生产;同时具有高强度、耐水解稳定性、耐磨与透明性的聚碳酸酯薄膜至今未在国内外实际应用。

发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种高强度耐磨高透光聚碳酸酯薄膜,通过在聚碳酸酯的表面增设一层纳米二氧化硅,在不影响到薄膜的透光性的前提下,提高了薄膜的强度和拉伸延展性,并 使得耐磨性和光洁度得到改善。本发明是这样实现的:一种高强度耐磨高透光聚碳酸酯薄膜,包括聚碳酸酯制成的基材,所述基材为厚度0.025mm 0.25mm的片或薄膜,所述片或薄膜的上、下两个表面中至少有一面喷涂一层由紫外线干燥固化的纳米二氧化硅,单面平均喷涂厚度为广100 μ m,所述纳米二氧化硅的粘度为18 38 MPa.S,粒径分布为0.1 μ m "0.5 μ m的分体粒子大于99%,比表面积25 100m2/g。所述的纳米二氧化硅涂层的单面平均喷涂厚度为1(Γ30μπι。所述基材的原料选自双酚A型聚碳酸酯、聚酯聚碳酸酯、有机硅聚碳酸酯、环己烷双酚型聚碳酸酯的共聚、聚碳酸酯/聚乙烯、聚碳酸酯/丙烯腈-丁二烯-苯乙烯、聚碳酸酯/聚甲醛的共混。所述的聚碳酸酯的重均分子量为10000 200000。本发明高强度耐磨高透光聚碳酸酯薄膜在聚碳酸酯的表面喷涂并用紫外线干燥固化了一层纳米二氧化硅,在不影响到薄膜的透光性的前提下,提高了薄膜的强度和拉伸延展性,并使得耐磨性和光洁度得到改善,使得该薄膜的用途更加广泛,是一种新型的环保多功能薄膜。
具体实施例方式下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。应理解,这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解,在阅读了本发明表述的内容之后,本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。实施例1
一种高强度耐磨高透光聚碳酸酯薄膜,包括聚碳酸酯制成的基材,所述基材为厚度
0.025mm 0.25mm的片或薄膜,所述片或薄膜的上、下两个表面中至少有一面喷涂一层由紫外线干燥固化的纳米二氧化硅,单面平均喷涂厚度为Γ100 μ m,作为优选在本发明中,所述的纳米二氧化硅涂层的单面平均喷涂厚度为10 μ m 30 μ m ;本发明中用作涂料的纳米二氧化硅的粘度为18 38 MPa.S,粒径分布为0.1 μ m5 μ m的分体粒子大于99%,比表面积 25 100m2/g。本发明中所使用的基材的原料选自双酚A型聚碳酸酯、聚酯聚碳酸酯、有机硅聚碳酸酯、环己烷双酚型聚碳酸酯的共聚、聚碳酸酯/聚乙烯、聚碳酸酯/丙烯腈-丁二烯-苯乙烯、聚碳酸酯/聚甲醛的共混;聚碳酸酯的重均分子量Mw为10000 200000,优选 15000 80000。以芳香族聚碳酸酯为例,由界面缩聚法、熔融酯交换法、碳酸酯预聚物的固相酯交换法及环状碳酸酯化合物的开环聚合法等反应方法制备而成
聚碳酸酯树脂是通过下式(I)代表的双酚与光气,卤素甲酸酯或羧酸二酯反应而制备,
权利要求
1.一种高强度耐磨高透光聚碳酸酯薄膜,包括聚碳酸酯制成的基材,其特征是:所述基材为厚度0.025mm 0.25mm的片或薄膜,所述片或薄膜的上、下两个表面中至少有一面喷涂一层由紫外线干燥固化的纳米二氧化硅,单面平均喷涂厚度为Γ100 μ m,所述纳米二氧化硅的粘度为18 38 MPa.S,粒径分布为0.1 μ m5 μ m的分体粒子大于99%,比表面积 25 100m2/g。
2.如权利要求1所述的高强度耐磨高透光聚碳酸酯薄膜,其特征是:所述的纳米二氧化硅涂层的单面平均喷涂厚度为1(Γ30μπι。
3.如权利要求1所述的高强度耐磨高透光聚碳酸酯薄膜,其特征是:所述基材的原料选自双酚A型聚碳酸酯、聚酯聚碳酸酯、有机硅聚碳酸酯、环己烷双酚型聚碳酸酯的共聚、聚碳酸酯/聚乙烯、聚碳酸酯/丙烯腈-丁二烯-苯乙烯、聚碳酸酯/聚甲醛的共混。
4.如权利要求1所述的 高强度耐磨高透光聚碳酸酯薄膜,其特征是:所述的聚碳酸酯的重均分子量为10000 200000。
全文摘要
本发明涉及聚碳酸酯树脂领域,尤其涉及一种高强度耐磨聚碳酸酯树脂。一种高强度耐磨高透光聚碳酸酯薄膜,包括聚碳酸酯制成的基材,所述基材为厚度0.025mm~0.25mm的片或薄膜,所述片或薄膜的上、下两个表面中至少有一面喷涂一层由紫外线干燥固化的纳米二氧化硅,单面平均喷涂厚度为1~100μm,所述纳米二氧化硅的粘度为18~38MPa·s,粒径分布为0.1μm~0.5μm的分体粒子大于99%,比表面积25~100m2/g。本发明高强度耐磨高透光聚碳酸酯薄膜在聚碳酸酯的表面喷涂并用紫外线干燥固化了一层纳米二氧化硅,在不影响到薄膜的透光性的前提下,提高了薄膜的强度和拉伸延展性,并使得耐磨性和光洁度得到改善,使得该薄膜的用途更加广泛,是一种新型的环保多功能薄膜。
文档编号C08L69/00GK103214687SQ20131017928
公开日2013年7月24日 申请日期2013年5月15日 优先权日2013年5月15日
发明者林峰, 徐浩, 林楚越 申请人:上海冠旗电子新材料股份有限公司
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