多通道测序反应小室及多通道测序反应装置的制作方法

本发明涉及生化设备领域，更具体地说，本发明涉及一种多通道测序反应小室及多通道测序反应装置。

背景技术：

基因测序技术近年来发展非常迅猛。与第一代测序技术“毛细管电泳测序”不同，当前的基因测序技术是通过基因测序仪来检测核酸，通过数据处理得到核酸序列。而在基因测序仪中包含一个重要设备-- 测序反应小室。

测序反应小室用于进行测序反应。在现有技术的基因测序仪中，测序反应小室具有一个中间宽、两端窄的反应通道，在进行测序时，首先将处理好的待测样品固定在测序反应小室内，然后注入测序反应试剂，该试剂通过反应通道流经测序反应小室，与待测样品发生测序反应。在测序反应结束后，通过信号采集装置采集测序信号，通过后期的数据处理从而得到基因序列。

由于基因测序是在纳米数量级的操作，对于仪器加工精度及各种生化材料的制备精度要求都非常高，对生化反应的温度、试剂剂量、时间控制等的要求也非常严格。而正是由于上述限制，在现有技术的基因测序仪中，所设计的测序反应小室为单个通道。当需要对多个待测样品进行测序时，只能分别进行多次测序反应，这使得对多样品测序的效率非常低。

鉴于单个通道的测序反应小室对多样品测序效率低，因此设计出多通道的测序反应小室。现有技术中的多通道测序反应小室，具有多个反应通道，可同时在多个反应通道内同时进行测序反应。由于每一个反应通道均需要通入试剂，因此每一个反应腔单独具有试剂进口和试剂出口，并且在试剂进口和试剂出口上连接有管道，供试剂的进入和流出。现有技术中的多通道测序反应小室的结构非常繁琐与复杂，并且在清洗时需要将多根管道进行拆卸，非常的不方便，在拆卸与组装过程中还容易出现密封不良，造成测序反应过程中出现漏液的情况。

因此需要一种新的多通道测序反应小室及度通道测序反应装置，能够简化多通道测序反应小室的结构，方便测序反应小室的拆卸与清洗。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种多通道测序反应小室，旨在解决现有技术中测序反应小室结构复杂、不便于进行拆卸和清洗的问题。

为了实现发明目的，多通道测序反应小室包括：包括相贴合的第一玻片和第二玻片，所述第一玻片用于与第二玻片形成多条中空的反应通道，所述反应通道的两端分别设有用于容纳试剂的试剂缓冲区，所述第一玻片或第二玻片上设置有与试剂缓冲区连通的试剂入口，所述第一玻片或第二玻片上还设置有与试剂缓冲区连通的试剂出口。

其中，所述第一玻片位于第二玻片上方，所述反应通道和试剂缓冲区均设置在第一玻片的下表面，所述试剂入口为设置于第一玻片或第二玻片上的通孔，所述试剂出口为设置于第一玻片或第二玻片上的通孔。

其中，所述第一玻片位于第二玻片上方，所述反应通道和试剂缓冲区均设置在第二玻片的上表面，所述试剂入口为设置于第一玻片或第二玻片上的通孔，所述试剂出口为设置于第一玻片或第二玻片上的通孔。

其中，所述第一玻片位于第二玻片上方，所述第一玻片的下表面设置有多个长条形的凹槽，第二玻片贴合在第一玻片下表面上后，与所述的长条形凹槽构成了中空的反应通道；所述试剂缓冲区设置在第一玻片的下表面和第二玻片的上表面，且设置于第一玻片上的试剂缓冲区的形状与设置于第二玻片上的试剂缓冲区的形状相同，当第一玻片贴合在第二玻片上时，设置于第一玻片上的试剂缓冲区与设置于第二玻片上的试剂缓冲区相吻合。

其中，所述第一玻片位于第二玻片上方，所述第一玻片的下表面和第二玻片的上表面设置有相吻合的多个长条形凹槽，第一玻片和第二玻片相贴合后，相吻合的长条形凹槽构成了中空的反应通道；试剂缓冲区设置在第一玻片的下表面和第二玻片的上表面，且设置于第一玻片上的试剂缓冲区的形状与设置于第二玻片上的试剂缓冲区的形状相同，当所述的第一玻片贴合在第二玻片上时，设置于第一玻片上的试剂缓冲区与设置于第二玻片上的试剂缓冲区相吻合。

其中，所述试剂入口和试剂出口的形状与试剂缓冲区的形状相同。

其中，所述第一玻片由盖玻片和导液片紧密贴合而成，所述第二玻片为载玻片，所述导液片位于盖玻片与载玻片之间，所述导液片上设置有长条形的通孔，所述反应通道由盖玻片、长条形的通孔以及载玻片围合而成；或者

所述第一玻片为盖玻片，所述第二玻片由导液片和载玻片紧密贴合而成，所述导液片上设置有长条形的通孔，所述反应通道由盖玻片、长条形的通孔以及载玻片围合而成。

进一步的，所述试剂缓冲区为设置在导液片上的通孔或为设置在盖玻片上的通孔。

进一步的，所述试剂缓冲区呈半圆形，试剂缓冲区具有圆弧边与直线边，且所述缓冲区的直线边位于靠近所述反应通道的一侧。

进一步的，所述试剂缓冲区呈三角形。

另外，本发明还提出了一种具有上述的多通道测序反应小室的多通道测序反应装置，它由多通道测序反应小室、小室上部组件和小室下部组件构成，其中：

所述小室上部组件包括进液通道和出液通道；

所述小室下部组件包括小室上盖和小室底座，所述小室底座用于放置所述的多通道测序反应小室，所述小室上盖安装在小室底座上；

所述小室上部组件用于安装在小室下部组件上，且所述小室上部组件的进液通道与所述多通道测序反应小室的试剂入口连通，所述小室上部组件的出液通道与所述多通道测序反应小室的试剂出口连通。

其中，所述小室上部组件还包括底板、隔热板、制冷片、导热板以及温度传感器；其中

所述隔热板固定在底板的下方，所述隔热板的中部具有通孔，所述制冷片设置于隔热板的通孔内，且所述制冷片的上表面与底板的下表面相接触；

所述导热板固定在制冷片的下方，导热板的上表面与制冷片的下表面相接触，当小室上部组件安装在小室下部组件上时，所述导热板的下表面与多通道测序反应小室相接触；

所述温度传感器用于检测所述的多通道测序反应小室的温度；

所述进液通道和出液通道分别为贯穿于所述底板、隔热板和导热板的通孔。

进一步的，所述小室上盖的中部具有通孔，所述小室上部组件安装在小室下部组件上时，所述小室上部组件的隔热板和导热板伸入小室上盖的通孔内，所述导热板紧贴于多通道测序反应小室上，且所述进液通道与多通道测序反应小室的试剂入口连通，所述出液通道与多通道测序反应小室的试剂出口连通。

进一步的，所述小室上部组件还包括顶板和散热板，所述顶板设置在底板上方，所述散热板位于顶板与底板之间并固定于所述底板上，所述散热板具有若干个散热鳍片。

进一步的，所述底板和隔热板通过螺钉连接，所述螺钉中间设置有钢管，该钢管即为进液通道和出液通道。

进一步的，所述导热板上还设置有密封胶垫，且密封胶垫设置于进液通道的出口处和出液通道的入口处，所述小室上部组件安装在小室下部组件上时，所述密封胶垫紧贴于多通道测序反应小室上。

其中，所述小室上盖的下方弹性连接有压块，所述压块压在多通道测序反应小室上。

其中，所述小室上盖上设置有卡扣，所述卡扣用于卡在所述的小室底座上。

进一步的，所述小室上部组件上设置有通孔，该通孔用于拍摄明场图，用于看清楚小室中的磁珠分布是否均匀。

由上可知，本发明通过试剂缓冲区的设计，简化了多通道测序反应小室的结构，便于对多通道测序反应小室的内部进行清洗，非常的方便，降低了在拆卸与组装过程中出现的密封不良而造成测序反应过程中出现漏液的情况；在实际使用过程中可多次重复使用，相对于现有技术中一次性使用的反应腔，大大降低了设备的成本。

附图说明

图1、图2为本发明一个示例的多通道测序反应小室中关于反应通道的结构示意图。

图3、图4为本发明另一个示例的多通道测序反应小室中关于反应通道的结构示意图。

图5为本发明另一个示例的多通道测序反应小室中关于反应通道的结构示意图。

图6a为本发明另一个示例的多通道测序反应小室中关于反应通道的结构示意图。

图6b为本发明另一个示例的多通道测序反应小室中关于反应通道的结构示意图。

图7为本发明一个示例的多通道测序反应小室中关于试剂缓冲区的结构示意图；

图8为本发明另一个示例的多通道测序反应小室中关于试剂缓冲区的结构示意图。

图9为本发明另一个示例的多通道测序反应小室中关于试剂缓冲区的结构示意图。

图10a、图10b为本发明另一个示例的多通道测序反应小室中关于试剂缓冲区的结构示意图。

图11a、图11b为本发明一个示例的多通道测序反应小室中关于试剂缓冲区形状的两种结构示意图。

图12a、图12b、图12c为本发明的多通道测序反应小室中关于试剂入口和试剂出口的三种示例图。

图13a为本发明一个示例的多通道测序反应小室中关于试剂入口和试剂出口的结构示意图。

图13b为本发明另一个示例的多通道测序反应小室中关于试剂入口和试剂出口的结构示意图。

图14为本发明一个示例的多通道测序反应装置的结构示意图。

图15为本发明另一个示例的多通道测序反应装置中小室上部组件的纵截面结构示意图。

图16为本发明另一个示例的多通道测序反应装置的纵截面结构示意图。

图17为本发明另一个示例的多通道测序反应装置的纵截面结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。

本发明提出第一实施例，本实施例提出了一种多通道测序反应小室，该多通道测序反应小室使得多个样品同时进行测序反应，实现了多通道测序反应小室平行测序。所述多通道测序反应小室包括相贴合的第一玻片和第二玻片，所述第一玻片用于与第二玻片形成多条中空的反应通道，所述反应通道的两端分别设有用于容纳试剂的试剂缓冲区，所述第一玻片或第二玻片上设置有与试剂缓冲区连通的试剂入口，所述第一玻片或第二玻片上还设置有与试剂缓冲区连通的试剂出口。

本实施例中，所述的试剂入口与供应试剂的管道连通，试剂出口与排除试剂的管道连通。将多个待测样品固定于位于第一玻片和第二玻片之间的反应通道的内壁上，通过供应试剂的管道往多通道测序反应小室内通入试剂，在试剂进入反应通道前，试剂首先会进入位于反应通道一端的试剂缓冲区中，将试剂缓冲区填充后，试剂再同时进入多个通中空的反应通道中，与多个反应通道中待测样品同时发生测序反应，克服了传统的测序反应小室内只能单个样品进行测序，效率比较低下的问题；此后试剂则流出并进入反应通道另一端的试剂缓冲区中，试剂在该试剂缓冲区汇集后，从排出试剂的管道中排出。由于试剂缓冲区的存在，试剂缓冲区均能够存储一定量的试剂，在试剂通入反应通道前会流入试剂缓冲区内，试剂缓冲区有利于均匀的排出个反应通道中的空气，试剂进入反应通道时内部压力一至，试剂能够均匀的通过各个反应通道，因此保证了每一个反应通道流速的均匀性以及扩散性的均匀一致。

现有技术中的具有多个通道的测序反应小室，由于具有多个反应通道，每一个反应通道的入口和出口均需要接入管道，供试剂的进入和流出；这种结构的测序反应小室的结构非常繁琐与复杂，在对测序反应小室进行清洗时，需要将多根管道进行拆卸，非常的不方便，在拆卸与组装过程中还容易出现密封不良，造成测序反应过程中出现漏液的情况。而本实施例中的多通道测序反应小室，由于试剂缓冲区的设置，只需要一根管道接入试剂缓冲区，就可以完成多个通道的测序反应，简化了多通道测序反应小室的结构；另外，在需要对测序反应小室进行拆卸清洗时，只需要拆卸一根与试剂入口连通的进液的管道和一根与试剂出口连通的出液的管道，就可以对测序反应小室的内部进行清洗，非常的方便，降低了在拆卸与组装过程中出现的密封不良而造成测序反应过程中出现漏液的情况。在实际使用过程中可多次重复使用，相对于现有技术中一次性使用的反应腔，本发明大大降低了设备的成本。

下面针对多通道测序反应小室的各个部件进行详细的说明。

（一）关于多通道测序反应小室的反应通道。

对于多通道测序反应小室的反应通道，本发明提出了一示例，如图1、图2所示，所述多通道测序反应小室包括相贴合的第一玻片10和第二玻片20，图1为第一玻片10和第二玻片20的截面示意图，图2为第一玻片10的立体结构示意图，所述第一玻片10位于第二玻片20上方，所述第一玻片10用于与第二玻片20形成多条中空的反应通道101，且所述反应通道101的两端分别设有用于容纳试剂的试剂缓冲区102，本示例中，所述反应通道101和试剂缓冲区102均设置在第一玻片10的下表面，具体的，所述第一玻片10的底面上设置有长条形的凹槽，第二玻片20盖在第一玻片10上后与长条形的凹槽形成密闭的中空结构的反应通道101，试剂缓冲区102设置在第一玻片10的下表面。另外，所述第一玻片10上设置有与试剂缓冲区102分别连通的试剂入口103和试剂出口104，在本示例中，所述试剂入口103和试剂出口104均为设置在第一玻片10上的通孔。

如图1所示，在所述反应通道101中，反应通道101的内壁用于固定多个待测样品，反应通道101的数量可根据需要进行设定，例如可以是六通道的测序反应小室，也可以是八通道的测序反应小室，图2中所示的即为六通道测序反应小室的第一玻片10。在本示例中，试剂入口103与供应试剂的管道连通，试剂出口104与排出试剂的管道连通，考虑到试剂的流动，在进行测序反应前，优选将测序反应小室竖直放置，并且试剂入口103位于下方。在进行测序反应时，通过试剂入口103注入的试剂首先进入位于试剂入口103处的试剂缓冲区102，持续注入试剂后，试剂充满了试剂入口103处的试剂缓冲区102后，才会同时进入六个反应通道101中，分别与固定于反应通道101中的待测样品进行测序反应，然后流出并进入位于试剂出口102处的试剂缓冲区102中，试剂在该试剂缓冲区102汇集后，从排出试剂的管道中排出，持续注入试剂，试剂则不断的从反应通道101中流过，与待测样品发生测序反应。由于试剂缓冲区102的存在，在试剂通入反应通道101前，或者从反应通道101流出后，试剂缓冲区102均能够存储一定量的试剂，保证了每一个反应通道101流速的均匀性以及扩散性的均匀一致。本发明简化了多通道测序反应小室的结构，在需要对测序反应小室进行拆卸清洗时，只需要拆卸一根与试剂入口103连通的进液的管道和一根与试剂出口104连通的出液的管道，将第一玻片10与第二玻片20分离后，就可以对测序反应小室的的反应通道101、试剂缓冲区102、试剂入口103以及试剂出口104进行清洗，非常的方便，同时降低了在拆卸与组装过程中出现的密封不良而造成测序反应过程中出现漏液的情况。在进行第一玻片和第二玻片的安装时，由于试剂入口、试剂出口、反应通道和试剂缓冲区均设置在第一玻片上，因此安装非常的便利。

如图3、图4所示，对于多通道测序反应小室的反应通道，本发明还提出了一示例，所述的多通道测序反应小室包括相贴合的第一玻片10和第二玻片20，图3为第一玻片10和第二玻片20的截面示意图，图4为第一玻片10和第二玻片20的立体结构示意图，所述第一玻片10位于第二玻片20上方，所述第一玻片10用于与第二玻片20形成多条中空的反应通道101，且所述反应通道101的两端分别设有用于容纳试剂的试剂缓冲区102。具体的，在本示例中，所述第二玻片20的上表面具有多个长条形的凹槽，当第一玻片10贴合在第二玻片20上时，长条形的凹槽与第一玻片10围合构成中空的反应通道101，并且反应通道101的两端与试剂缓冲区102连通，试剂缓冲区102设置在第一玻片10的下表面。另外，所述第一玻片10上设置有与试剂缓冲区102分别连通的试剂入口103和试剂出口104，并且所述试剂入口103和试剂出口104均为设置在第一玻片10上的通孔。

中空结构的反应通道101的内壁用于固定多个待测样品，试剂入口103与供应试剂的管道连通，试剂出口104与排出试剂的管道连通。在进行测序反应前，将测序反应小室竖直放置，并且试剂入口103位于下方。在进行测序反应时，通过试剂入口103注入的试剂首先进入位于试剂入口处的试剂缓冲区102，持续注入试剂后，试剂充满了试剂入口处的试剂缓冲区102后，才会同时进入多个反应通道101中，然后流出并进入位于试剂出口104处的试剂缓冲区102中，试剂在该试剂缓冲区102汇集后，从排出试剂的管道中排出，由于试剂缓冲区102的存在，在试剂通入反应通道101前，或者从反应通道101流出后，试剂缓冲区102均能够存储一定量的试剂，因此保证了每一个反应通道101流速的均匀性以及扩散性的均匀一致。本发明简化了多通道测序反应小室的结构，在需要对测序反应小室进行拆卸清洗时非常的方便，同时降低了在拆卸与组装过程中出现的密封不良而造成测序反应过程中出现漏液的情况。本示例中，由于试剂缓冲区102设置在第一玻片10的下表面，多个长条形凹槽设置在第二玻片20上，相对于在同一玻片上加工出不同结构的试剂缓冲区和反应通道，本方案降低了加工难度。

对于多通道测序反应小室的反应通道，如图5所示，本发明还提出了一示例，所述多通道测序反应小室包括相贴合的第一玻片10和第二玻片20，图5为第一玻片10和第二玻片20的截面示意图，第一玻片10位于第二玻片20上方，第一玻片10用于与第二玻片20形成多条中空的反应通道101，且所述反应通道101的两端分别设有用于容纳试剂的试剂缓冲区102。具体的，在本示例中，所述第一玻片10的下表面和第二玻片20的上表面均设置有长条形的凹槽，在第一玻片10和第二玻片20相贴合后，第一玻片10上长条形的凹槽与第二玻片20上的长条形凹槽相适配，构成了中空反应通道101，所述试剂缓冲区102设置于第一玻片的下表面，反应通道与试剂缓冲区102连通。当所述的第一玻片10贴合在第二玻片20上时，采用密封处理，防止出现漏液。进一步的，第一玻片10上设置有与试剂缓冲区分别连通的试剂入口103和试剂出口104，并且试剂入口103和试剂出口104均为设置在第一玻片10上的通孔。在进行测序反应时，通过试剂入口103注入的试剂首先进入位于试剂入口103处的试剂缓冲区102，持续注入试剂后，试剂充满了试剂入口103处的试剂缓冲区102后，才会同时进入多个反应通道101中，与待测样品进行测序反应，实现多个样品的同时测序反应。本发明简化了多通道测序反应小室的结构，在需要对测序反应小室进行拆卸清洗时非常的方便。

对于多通道测序反应小室的反应通道101，如图6a所示，本发明还提出了一示例，所述多通道测序反应小室使得多个样品同时进行测序反应，实现了多通道测序反应小室平行测序。多通道测序反应小室包括相贴合的第一玻片10和第二玻片20，所述第一玻片10用于与第二玻片20形成多条中空的反应通道101，所述反应通道101的两端分别设有用于容纳试剂的试剂缓冲区102，所述第一玻片10上设置有与试剂缓冲区102分别连通的试剂入口103和试剂出口104，在示例中，如图8所示，所述第一玻片10由盖玻片30和导液片40紧密贴合而成，所述第二玻片20为载玻片50，所述导液片40位于盖玻片30与载玻片50之间；所述导液片40上设置有长条形的通孔，当盖玻片30和载玻片50分别贴合在导液片的上下表面时，与长条形的通孔围合构成所述的反应通道101；所述导液片40上设置有通孔，当盖玻片30和载玻片50分别贴合在导液片的上下表面时，与所述通孔围合构成了试剂缓冲区102。在进行测序反应前，将本实施例中的多通道测序反应小室竖直安放在测序装置上，试剂入口103与通入试剂的管道连通，试剂出口104与流出试剂的管道连通，将多个待测样品固定于导液片的反应通道101的内壁上，在试剂进入反应通道101前，试剂首先会进入位于反应通道101一端的试剂缓冲区102中，将试剂缓冲区102填充后，试剂才会同时进入导液片40的反应通道101中，与多个反应通道101中待测样品同时发生测序反应，克服了传统的测序反应小室内只能单个样品进行测序，效率比较低下的问题。此后试剂流出并进入反应通道另一端的试剂缓冲区102中，试剂在该试剂缓冲区102汇集后，从排出试剂的管道中排出。由于试剂缓冲区102的存在，试剂缓冲区102均能够存储一定量的试剂，在试剂通入反应通道前会流入试剂缓冲区102内，试剂缓冲区102有利于均匀的排出个反应通道101中的空气，试剂进入反应通道时内部压力一直，试剂能够均匀的通过各个反应通道，因此保证了每一个反应通道101流速的均匀性以及扩散性的均匀一致。本发明的多通道测序反应小室与现有技术中的测序反应小室相比较，简化了多通道测序反应小室的结构；在需要对测序反应小室进行拆卸清洗时，只需将连入试剂入口103和试剂出口104的管道拆卸，将盖玻片30、导液片40和载玻片50分离后，就可以对测序反应小室的内部进行清洗，非常的方便，由于只需要拆卸一根通入试剂的管道和一根流出试剂的管道，相比需要拆卸多根管道的测序反应小室，降低了在拆卸与组装过程中出现的密封不良而造成测序反应过程中出现漏液的情况。

如图6b所示，对于多通道测序反应小室，本发明还提出了一示例，所述多通道测序反应小室包括相贴合的第一玻片10和第二玻片20，所述第一玻片10用于与第二玻片20形成多条中空的反应通道101，所述反应通道101的两端分别设有用于容纳试剂的试剂缓冲区102，所述第一玻片10上设置有与试剂缓冲区102分别连通的试剂入口103和试剂出口104，在本示例中，所述第一玻片10为盖玻片30，所述第二玻片20由导液片40和载玻片50紧密贴合而成，所述导液片40位于盖玻片30与载玻片50之间；所述导液片40上设置有长条形的通孔，当盖玻片30和载玻片50分别贴合在导液片的上下表面时，与长条形的通孔围合构成所述的反应通道101；导液片40上还设置有通孔，当盖玻片30和载玻片50分别贴合在导液片的上下表面时，与所述通孔围合构成了试剂缓冲区102。在进行测序反应前，将多通道测序反应小室竖直安放在测序装置上，试剂入口103与通入试剂的管道连通，试剂出口104与流出试剂的管道连通，将多个待测样品固定于导液片40的反应通道101的内壁上，在试剂进入反应通道101前，试剂首先会进入位于反应通道101一端的试剂缓冲区102中，将试剂缓冲区102填充后，试剂才会同时进入导液片40的反应通道101中，与多个反应通道101中待测样品同时发生测序反应。在图6a、图6b所述的示例中，导液片40上均设置有长条形的通孔，并且通过盖玻片30和载玻片50贴合在导液片40上，与长条形的通孔围合构成反应通道101。但需要说明的是，在所述的导液片40的上表面或者下表面上，可以设置有多个长条形的凹槽，当导液片40的上表面设置长条形的凹槽时，盖玻片30贴合在导液片上，与长条形的凹槽构成了中空的反应通道，到导液片的下表面设置长条形的凹槽时，载玻片贴合在导液片上，与长条形的凹槽构成了中空的反应通道。

在上述的任意方案中，反应通道101的数量可以根据需要进行测序反应的待测样品的数量进行调整，上述的示例中反应小室均具有六个反应通道。所述反应通道101的结构无具体限制，反应通道101的横截面可以为半圆形或方形或者其他形状，但需要说明的是，一般的，待测样品需要固定在平整面上，便于测序反应的进行以及测序反应后对于反应通道的清洗，因此，在图1、图2所述的示例中，待测样品固定于第二玻片20的上表面，对于反应通道的形状则并无要求；在图3、图4所述的示例中以及图5所述的示例中，待测样品固定在第二玻片20上的长条形凹槽内，因此，长条形凹槽的底面为一平整面，另外，考虑到反应通道101的加工难度以及反应通道101的清洗难易度，长条形凹槽的拐角处可以设置为一弧形面，通过这种结构的设计，降低了多通道测序反应小室的加工难度，便于实现多通道测序反应小室的批量生产，在清洗时，长条形凹槽的弧形面更便于清洗。

（二）关于多通道测序反应小室的试剂缓冲区。

在上述的对于反应通道阐述的任意方案中，所述的试剂缓冲区102均设置在第一玻片10的下表面上。对于试剂缓冲区102，本发明还提出了一示例，该示例中所述多通道测序反应小室包括相贴合的第一玻片10和第二玻片20，图7为第一玻片10和第二玻片20的截面示意图，所述第一玻片10位于第二玻片20上方，所述第一玻片10用于与第二玻片20形成多条中空的反应通道101，且所述反应通道101的两端分别设有用于容纳试剂的试剂缓冲区102。本示例中，所述反应通道101设置在第二玻片20的上表面，但是，上述的方案中任意一种关于反应通道101位置的方案均能够在本示例中适用，本示例中则不对反应通道的位置再进行详细的说明。所述试剂缓冲区102为设置在第二玻片20上的凹槽，当第一玻片10盖在第二玻片20上后，设置于第一玻片10上的试剂入口103和试剂出口104则与试剂缓冲区102连通，同时，反应通道101的首尾端分别与试剂缓冲区102连通。在进行测序反应前，将测序反应小室竖直放置，并且试剂入口103位于下方，便于在进行测序反应时排出内部的空气，进行测序反应时，通过试剂入口103注入的试剂首先会充盈试剂入口103处的试剂缓冲区102，才会同时进入多个反应通道101中，实现多个样品的同时测序反应。

如图8所示，对于多通道测序反应小室的试剂缓冲区102，本发明还提出了一示例，本示例中，所述反应通道101设置在第一玻片10的下表面，对于反应通道101的位置，上述任意方案中的反应通道101的位置均可以在本示例中适用，因此本方案中则不对反应通道101的位置进行详细的说明。所述试剂缓冲区102为设置在第一玻片10的下表面和第二玻片20的上表面的凹槽，且设置于第一玻片10上的凹槽的形状与设置于第二玻片20上的凹槽的形状相同，当第一玻片10贴合在第二玻片20上时，凹槽相吻合，构成了试剂缓冲区102。所述第一玻片10上设置有与试剂缓冲区102分别连通的试剂入口103和试剂出口104，在本示例中，所述试剂入口103和试剂出口104均为设置在第一玻片10上的通孔。在进行测序反应前，将测序反应小室竖直放置，并且试剂入口103位于下方。需要说明的是，并非测序反应小室只能够竖直放置进行测序反应，当测序反应小室水平放置时，也能够完成测序反应，本是说明书中所指的测序反应小室竖直放置仅为一种较佳的方案。在进行测序反应时，通过试剂入口103注入的试剂首先会充盈试剂入口103处的试剂缓冲区102，才会同时进入多个反应通道101中，实现多个样品的同时测序反应。在本示例中，由于试剂缓冲区102的纵向深度大于反应通道101的深度，因此即使当本示例中的多通道测序反应小室水平放置进行测序反应，在通过试剂入口103通入试剂时，试剂也不会直接进入反应通道101，而是先进入试剂缓冲区102，当位于第二玻片20上的试剂缓冲区102充满试剂后，试剂才会同时进入反应通道101内。

如图9所示，对于多通道测序反应小室的试剂缓冲区102，本发明还提出了一示例，本示例中，所述多通道测序反应小室包括相贴合的第一玻片10和第二玻片20，所述第一玻片10由盖玻片30和导液片40紧密贴合而成，所述第二玻片20为载玻片50，所述导液片40位于盖玻片30与载玻片50之间，所述盖玻片片30上设置有与试剂缓冲区102分别连通的试剂入口103和试剂出口104；所述导液片40上设置有长条形的通孔，当盖玻片30和载玻片50分别贴合在导液片的上下表面时，与长条形的通孔围合构成所述的反应通道101；所述导液片40上设置有通孔，并且所述载玻片50上设置有凹槽，通孔与所述的凹槽形状相适配，当盖玻片30和载玻片50分别贴合在导液片40的上下表面时，通孔与所述的凹槽相吻合，构成所述的试剂缓冲区102。试剂缓冲区的此种结构，多通道测序反应小室处于竖直放置状态或者是水平放置状态时，试剂缓冲区102均能够存储一定的试剂，试剂不会直接进入反应通道101，保证了每一个反应通道101流速的均匀性以及扩散性的均匀一致。

如图10a、图10b所述，对于多通道测序反应小室的试剂缓冲区102，本发明还提出了一示例，所述多通道测序反应小室包括相贴合的第一玻片10和第二玻片20，所述第一玻片10由盖玻片30和导液片40紧密贴合而成，所述第二玻片20为载玻片50，所述导液片40位于盖玻片30与载玻片50之间；所述盖玻片30上设置有通孔，该通孔即为试剂缓冲区30。如图10b所示，所述的导液片40上设置有长条形的通孔，当盖玻片30贴合在导液片40的上表面，载玻片50贴合在导液片40的下表面时，长条形的通孔即形成了密封的反应通道101，在盖玻片30与导液片40、载玻片50与导液片40进行贴合时，需要进行密封处理，防止在进行测序反应时出现漏液的情况。在本示例中，分别将试剂缓冲区102和反应通道101设置在盖玻片30上和导液片40上，使得试剂缓冲区102和反应通道102的加工更为简单，提高了加工的效率。本发明的多通道测序反应小室与现有技术中的测序反应小室相比较，简化了多通道测序反应小室的结构。在需要进行清洗时，将盖玻片30从导液片40上取下，将导液片40从载玻片50上取下，分别对盖玻片30、导液片40以及载玻片50进行清洗，可以直接对盖玻片30上的试剂缓冲区102和导液片40上的反应通道101进行清洗，非常的方便。

进一步的，在上述任意方案的基础上，针对试剂缓冲区102的形状，本发明提出了一示例，如图11a所示，所述试剂缓冲区102呈半圆形，试剂缓冲区102具有圆弧边与直线边，所述缓冲区102的直线边位于靠近所述反应通道101的一侧。通过此种结构的设计，当将多通道测序反应小室竖直安装于测序装置上后，如图11a所示，在往试剂缓冲区102注入试剂的过程中，由于试剂缓冲区102设计为半圆形，图11a所示的A点、B点和C点的流速更为均匀，使得试剂缓冲区102中任意位置的流速更为均匀，从而保证了每一个反应通道101流速的均匀性以及扩散性的均匀一致；使多个反应通道101内的测序反应同时进行。需要说明的是，上述的方案并不对试剂缓冲区102的结构构成任何限制，试剂缓冲区102的大小和形状和根据实际需要进行设计，例如试剂缓冲区102可以采用正方形或长方形，图11a所示的方案仅为一较佳的示例。如图11b所示，为试剂缓冲区102的另一示例，该示例中，所述试剂缓冲区102呈三角形，通过往试剂缓冲区102注入试剂的过程中，通过三角形结构的设计，保证每一个反应通道101流速的均匀性以及扩散性的均匀一致；使多个反应通道101内的测序反应同时进行。

（三）关于试剂入口和试剂出口。

对于试剂入口103和试剂出口104的位置，除了在上述实施例中试剂入口103和试剂出口104均设置在第一玻片10上的情况外，本发明还提供了一示例，如图12a所示，多通道测序反应小室包括相贴合的第一玻片10和第二玻片20，第一玻片10用于与第二玻片20形成多条中空的反应通道，所述反应通道的两端分别设有用于容纳试剂的试剂缓冲区；本示例中，上述示例中的反应通道和试剂缓冲区均能够在本示例中适用，因此对于反应通道和试剂缓冲区，在本示例中则不进行详细的描述；所述试剂入口103设置在第一玻片10的上表面，所述试剂出口104设置在第二玻片20的下表面，试剂从第一玻片10上试剂入口103通入，流经反应通道，并从第二玻片20上的试剂出口104流出。

对于试剂入口和试剂出口的位置，如图12b所示，本发明还提出了一示例，多通道测序反应小室包括相贴合的第一玻片10和第二玻片20，对于多通道测序反应小室具有的反应通道和试剂缓冲区，上述示例中的反应通道和试剂缓冲区均能够在本示例中适用，因此对于反应通道和试剂缓冲区在本示例中则不进行详细的描述；本示例中，所述试剂入口103设置在第二玻片20的下表面，试剂出口104设置于第一玻片10的上表面，通过往第二玻片20的试剂入口通入试剂，试剂在流经反应通道后，从第二玻片20上的试剂出口103流出。

如图12c所示，对于试剂入口103和试剂出口104的位置，本发明还提出了一示例，多通道测序反应小室包括相贴合的第一玻片10和第二玻片20，同样的，在本实施例中，对于多通道测序反应小室具有的反应通道和试剂缓冲区不作详细的描述，所述试剂入口103和试剂出口104均设置在第二玻片20的底面上，进行测序反应时，试剂从第二玻片20上的试剂入口103通入，试剂流经反应通道，从第二玻片104的试剂出口处流出。对于试剂入口和试剂出口的位置的设置，可以根据实际情况而定，本发明不对试剂入口103和试剂出口104的位置进行任何的限定。在图12a、图12b所述的示例中，由于试剂入口103设置在第二玻片20的下表面，在进行测序反应，多通道测序反应小室处于水平放置状态时，通过试剂入口103向反应通道内注入试剂，试剂汇集在试剂缓冲区，不会直接进入反应通道中，因此，试剂入口设置在第二玻片下表面时，适用于需要将多通道测序反应小室水平放置进行测序反应的情况。

对于试剂入口103和试剂出口104的形状，在上述任意的方案中，均为设置在第一玻片10或第二玻片20上的通孔，另外，针对于试剂入口103和试剂出口104的形状，本发明还提出了一示例，如图13a所示，本示例中，当设置于第一玻片10上的试剂入口103和试剂出口104的形状与所述试剂缓冲区102的形状相同时，所述的试剂入口103和试剂出口104也就等同于所述的试剂缓冲区102。为了对此种技术方案进行说明，如图13a所示，该方案是在图1所示的方案的基础上进行的扩展，但需要说明的是，本方案中并不对反应通道101进行任何限定。与图1所示的方案不同的是，该方案中，设置于第一玻片10上的试剂入口103和试剂出口104的形状与试剂缓冲区102的形状相同。一般的，多通道测序反应小室需要竖直放置于测序仪器中，并从下方通入试剂，有助于排空多通道测序反应小室内的空气。当进行测序反应时，通过注入试剂的管道向试剂入口103处（即试剂缓冲区102）注入试剂时，由于试剂入口103（试剂缓冲区102）所占的区域相对较大，因此试剂不会直接进入反应通道101内，首先试剂会充满试剂缓冲区102，继续注入试剂后，试剂同时进入多个反应通道101中，与反应通道101内的待测样品进行测序反应。同样的，对于试剂入口103和试剂出口104的位置，在该方案中并无具体的限定，例如，当试剂入口103设置于第二玻片20的下表面，而试剂出口104设置于第一玻片20的上表面时，如图13b所示，试剂入口103和试剂出口104的形状与试剂缓冲区102的形状相同，在此方案中，所述的多通道测序反应小室可以直接水平放置，通过往试剂入口103（即试剂缓冲区102）通入试剂，由于试剂入口103朝下，因此试剂首先充盈试剂缓冲区102（即试剂入口103），试剂不会直接进入反应通道103内，并且这种结构有助于排出多通道测序反应小室内部的空气；持续注入试剂后，试剂同时进入多个反应通道101中，与反应通道101内的待测样品进行测序反应。

另外，在上述任意方案的基础上，对所述第一玻片10和第二玻片20的材质不进行限定，第二玻片10和第二玻片20的材质可以是玻璃、PMMA、PC、PE其中任意一种。其中第二玻片20不仅能够牢牢的固定住样品，防止反应时样品脱落而降低通量，而且光线能够顺利通过第二玻片20，使得进行采图的采图组件能够拍摄到清晰的测序图像，从而为通量的提高提供了有力的保障。进一步的，当所述第一玻片10由盖玻片30和导液片40构成，第二玻片为载玻片时，或者第一玻片为盖玻片，第二玻片由导液片和载玻片构成时，对所述盖玻片30、导液片40以及载玻片50的材质不进行限定，盖玻片30、导液片40和载玻片50的材质可以是玻璃、PMMA、PC、PE或其他材料，另外，导液片40还可以采用不锈钢片或硅胶片。

在上述的多通道反应小室的任意方案中，多通道测序反应小室上还可以设置有用于图像重合定位的Mark点，并且该Mark点的形状并不仅限于十字形状，只要清晰便于识别即可。Mark点设置，便于了采图装置进行采图后的加工合成，提高图像质量。

本发明还提出了第二实施例，本实施例中提出了一种多通道测序反应装置，用于实现多个样本同时进行测序反应。如图14所示，所述的多通道测序反应装置由小室上部组件60、小室下部组件70以及多通道测序反应小室80构成，本实施例中的多通道测序反应小室即为上述任意方案中的多通道测序反应小室，因此在本实施例中，则不会对多通道测序反应小室进行说明。所述小室上部组件60包括进液通道601和出液通道602；所述小室下部组件70包括小室上盖701和小室底座702，所述小室底座702用于放置所述的多通道测序反应小室80，所述小室上盖701安装在小室底座702上；所述小室上部组件60用于安装在小室下部组件70上，且所述小室上部组件60的进液通道601与所述多通道测序反应小室80的试剂入口103连通，所述小室上部组件60的出液通道602与所述多通道测序反应小室80的试剂出口104连通。本实施例中，如图14所示，将小室上盖701安装在小室底座702上，小室上盖701上设置有便于进液通道601与多通道测序反应小室80试剂入口103连通，以及出液通道602与多通道测序反应小室80试剂出口104连通的结构，该结构可以为设置在小室上盖701上的通孔，当小室上部组件60安装在小室下部组件70上进行测序反应时，进液通道601直接穿过通孔连接在多通道测序反应小室80的试剂入口103，出液通道602通过直接穿过通孔连接在多通道测序反应小室80的试剂出口104。由于小室上部组件60和小室下部组件70可以进行组合与拆分，即所述的多通道测序反应装置是采用分体式结构设计，便于其实现自动换样。

在第二实施例的基础上，如图15所示，对于所述的多通道测序反应装置，本发明还提出了一示例，在本示例中，多通道测序反应装置由小室上部组件60、小室下部组件70以及多通道测序反应小室80构成，所述小室上部组件60包括进液通道601和出液通道602；所述小室下部组件70包括小室上盖701和小室底座702，所述小室底座702用于放置所述的多通道测序反应小室80，所述小室上盖701安装在小室底座702上；所述小室上部组件60用于安装在小室下部组件70上，且所述小室上部组件60的进液通道601与所述多通道测序反应小室80的试剂入口103连通，所述小室上部组件60的出液通道602与所述多通道测序反应小室80的试剂出口104连通。本示例中，如图15所示，所述小室上部组件60还包括底板603、隔热板604、制冷片605以及导热板606；其中，所述隔热板604固定在底板603下方，隔热板604的中部具有通孔，所述制冷片605设置于隔热板604的通孔内；所述导热板606固定在隔热板604和制冷片605的下方；所述进液通道601和出液通道602分别为贯穿于所述底板603、隔热板604和导热板606的通孔。当小室上部组件60安装在小室下部组件70上时，进液通道601与多通道测序反应小室80的试剂入口103连通，出液通道602与多通道测序反应小室80的试剂出口104连通，由于多通道测序反应小室80在测序反应时需要提升或降低温度，因此所述的小室上部组件60中的导热板606与多通道测序反应小室80相接触，以达到最佳的升温或降温的效果。如图15所示，制冷片605的下表面紧贴在导热板606的上表面，制冷片605升温或者降温时，通过导热板606的传递作用，升高或降低多通道测序应小室80的温度，从而达到所需的温度。

另外，所述小室上部组件60还包括一温度传感器，当制冷片605对多通道测序反应小室进行升温或降温时，温度传感器用于检测所述的多通道测序反应小室的温度，防止多通道测序反应小室的温度过高或过低。本示例中，所述导热板606的上表面上具有一凹槽，所述温度传感器607设置于凹槽内，且温度传感器607位于所述制冷片605的下方。需要说明的是，对于温度传感器607的位置设定，上述仅为一种较佳的实施方案，所述的温度传感器607还可以直接设置在多通道测序反应小室上，直接对多通道测序反应小室的温度进行测量。在本示例中，所述制冷片605为半导体制冷片，所述温度传感器607为K型热电偶，但是，所述制冷片605并不仅限于半导体制冷片，温度传感器607并不局限于K型热电偶。

更进一步的，在图15所述的示例的基础上，对于多通道测序反应装置的小室上部组件60和小室下部组件70，本发明还提出了一示例，如图16所示，所述小室上盖701的中部具有通孔，所述小室上部组件60安装在小室下部组件70上时，所述小室上部组件60的隔热板604和导热板606伸入小室上盖701的通孔内，所述导热板606紧贴于多通道测序反应小室80上，且所述进液通道601与多通道测序反应小室80的试剂入口103连通，所述出液通道602与多通道测序反应小室80的试剂出口104连通。小室上部组件60的主要作用是通过制冷片605对多通道测序反应小室80进行升温或者降温，而多通道测序反应装置的此种结构，将多通道测序反应小室80的加热和制冷的部分集中在小室上部组件60上，便于小室上部组件60和小室下部组件70的分离，这种分体式结构的设计，便于实现自动换样；小室下部组件70主要用于固定多通道测序反应小室80，同时小室下部组件70还用于自动点样，通过移液枪头对准多通道测序反应小室80的反应通道101，匀速点样，往每条反应通道101中注入被测样本。

如图17所示，对于多通道测序反应装置，本发明还提出了第三实施例中，在本实施例中，多通道测序反应装置由小室上部组件60、小室下部组件70以及上述的多通道测序反应小室80构成；其中，所述小室上部组件60包括进液通道601和出液通道602；所述小室下部组件70包括小室上盖701和小室底座702，所述小室底座702用于放置所述的多通道测序反应小室80，所述小室上盖701安装在小室底座702上。小室上部组件60还包括底板603、隔热板604、制冷片605、导热板606以及温度传感器607；其中，所述隔热板604固定在底板603下方，隔热板604的中部具有通孔，所述制冷片605设置于隔热板604的通孔内，所述导热板606固定在隔热板604和制冷片605的下方，所述导热板606的上表面上具有一凹槽，所述温度传感器607设置于凹槽内，且温度传感器607位于所述制冷片605的下方。进一步的，小室上盖701的中部具有通孔，所述小室上部组件60安装在小室下部组件70上时，所述小室上部组件60的隔热板604和导热板606伸入小室上盖701的通孔内，所述导热板606紧贴于多通道测序反应小室80上。

在本示例中，所述小室上部组件60还包括顶板608和散热板609，所述顶板608设置在底板603上方，所述散热板609位于顶板608与底板603之间并固定于所述底板603上，所述散热板609具有若干个散热鳍片，并且，所述底板603和隔热板604通过螺钉连接，所述螺钉中间设置有钢管，该钢管即为进液通道601和出液通道602。另外，所述小室上盖701的下方弹性连接有压块，所述压块压在多通道测序反应小室80上，所述小室上盖701上设置有卡扣，所述卡扣用于卡在所述的小室底座702上，通过卡扣的作用，将小室上盖701扣合在所述的小室底座702上，同时由于小室上盖701的压块的作用，将多通道测序反应小室80的四周压紧，防止漏液以及点样时样品相互污染。

当所述的制冷片605对多通道测序反应小室80进行加热时，制冷片605的下表面即为热面，制冷片605的上表面即为冷面，将所述制冷片605设置在隔热板604的通孔内，通过隔热板604的作用将冷面与热面分隔开，同样的，当制冷片605对多通道测序反应小室80进行制冷时，制冷片605的下表面即为冷片，制冷片605的上表面即为热面，隔热板将冷面与热面分隔开，提高了制冷片进行加热或制冷的效率。另外，为了提高密封性能，在所述导热板606上还设置有密封胶垫90，并且该密封胶垫90设置在进液通道601的出口处以及出液通道602的入口处，该密封胶垫90也贴合在多通道测序反应小室80的盖玻片30上，同时进液通道601的出口与试剂缓冲区102连通，出液通道602的入口与试剂缓冲区102连通。在小室上部组件60中的顶板608、散热板609、底板603、隔热板604以及导热板606上可以设置两个通孔，两个通孔即为视窗，通过两个视窗拍摄明场图，用于看清楚磁珠分布是否均匀。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。