本发明涉及固化性组合物、抗蚀材料及抗蚀膜。
背景技术：
光压印法作为效率良好且廉价地制造大规模集成电路、液晶显示器等电子设备、图案化介质、微流路设备、生物芯片等的微细加工方法而受到瞩目。
对于光压印法，通过将成型抗蚀膜而得到的图案作为模板，进行蚀刻，由此将图案转印至基板。此时，对形成有图案的抗蚀膜要求高耐蚀刻性。光压印法中，已知：直接将图案转印至基板的方法；将抗蚀膜作为第一抗蚀层、基板具有第二抗蚀层和下层基板的、2层抗蚀法等。已知如下方法：作为2层抗蚀层，例如，第一抗蚀层使用含硅树脂，在此基础上，进行利用氧系气体的等离子体的蚀刻，将图案转印至第二抗蚀层，对转印有图案的第二抗蚀层进一步进行蚀刻，将图案转印至下层基板的方法。
作为光压印法中使用的模具，标准地使用石英模具。石英模具由于良好地透过紫外线、硬度高、表面平滑性高，所以为适于光压印法的材质，但石英的加工困难，因此，石英模具与其他模具材料相比昂贵。因此，模具被重复使用，但若模具上存在残渣物，则会对图案形成造成影响，因此需要完全的清洗。但是，对于光压印法、尤其是图案超细密的纳米压印法，模具图案被抗蚀固化物阻塞成为课题。
因此，为了去除模具上的残渣物，使用由氧气对石英模具进行等离子灰化的方法。但是，抗蚀剂树脂为含硅树脂的情况下，通过进行等离子体处理，生成sio2，因此存在无法通过等离子灰化处理去除残渣的问题。
另外，专利文献1中公开了将通过酸处理而可溶化的树脂用于抗蚀剂，由此去除模具残渣物的方法。但是，由于使用的树脂不含硅，固化性官能团浓度也低，因此担心利用氧系气体的耐干法蚀刻性低、图案向基板的转印精度变低。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2009/113357号公报
技术实现要素：
发明要解决的问题
本发明的课题在于，提供固化后的清洗容易、耐干法蚀刻性高、能够制成精密图案的转印精度优异的抗蚀剂的固化性组合物。
用于解决问题的方案
本发明的发明人等进行了深入研究，结果发现：包含具有聚合性基团的单体的组合物在固化后的清洗容易、耐干法蚀刻性高、能够制成精密图案的转印精度优异的抗蚀剂，所述聚合性基团具有特定的含硅基团。
即，本发明提供一种固化性组合物，其含有多官能聚合性单体(a)，且不挥发组分量中的硅原子的量为10wt％以上，所述多官能聚合性单体(a)具备两个以上具有聚合性基团的基团，且具备至少一个下述式(1)所示的具有聚合性基团的基团q。
-o-r-y···(1)
(上述式(1)中，氧原子与硅原子键合，r表示可以含有杂原子的无取代或取代的碳数0～25的烷基，y表示聚合性不饱和基团)
另外，本发明提供一种固化性组合物，其中，前述多官能性单体(a)含有5个以上硅原子。
另外，本发明还提供一种固化性组合物，其特征在于，还含有单官能聚合性单体(b)或除了(a)以外的多官能聚合性单体(c)，
单体的摩尔比为(a)：(b)＝100：0～10：90、(a)：(c)＝80：20～100：0。
另外，本发明提供含有上述固化性组合物的抗蚀材料、将该抗蚀材料固化而成的抗蚀膜、该抗蚀膜层叠在基板上而得到的层叠体、通过对该层叠体进行干法蚀刻而在基板上形成图案的方法以及得到的图案形成物。
发明的效果
本发明的固化性组合物由于不挥发组分量中的硅原子的量为10wt％以上，所以具有高耐干法蚀刻性。另外，具有聚合性基团的基团q为分解性基团，因此通过在固化后用酸、碱等进行处理，能够容易地清洗。进而，由于具有多官能聚合性单体，所以良好的固化性和细密的图案形成成为可能。
具体实施方式
＜多官能聚合性单体(a)＞
本发明的固化性树脂的特征在于，含有多官能聚合性单体(a)。本发明的多官能聚合性单体(a)的特征在于，其具备两个以上具有聚合性基团的基团，且具备至少一个下述式(1)所示的具有聚合性基团的基团q。
-o-r-y···(1)
(上述式(1)中，氧原子与硅原子键合，r表示可以含有杂原子的无取代或取代的碳数0～25的烷基，y表示聚合性基团)
多官能聚合性单体(a)具备两个以上具有聚合性基团的基团。聚合性基团表示能够进行聚合反应的官能团，具体而言，可以举出自由基聚合性基团。作为自由基聚合性基团，具体可以举出乙烯基、(甲基)丙烯酰基、烯丙基、异丙烯基、苯乙烯基、乙烯氧基、乙烯氧羰基、乙烯基羰基、n-乙烯基氨基等，特别优选为(甲基)丙烯酰基。具有聚合性基团的基团只要是具有上述聚合性基团的基团即可。
本发明的多官能聚合性单体(a)具备两个以上具有聚合性基团的基团，具备至少一个上述式(1)所示的聚合性基团q。具有聚合性基团的基团q与硅原子直接键合，因此耐干法蚀刻性变高。另外，si-o-r的键合部分为分解性，因此键由于酸、碱等的处理而分解。此时，交联结构崩坏，因此固化物溶解，能够进行清洗。
具有聚合性基团的基团q在多官能聚合性单体(a)内具有至少1个，但为2个以上时，清洗性提高，故优选。
作为式(1)所示的具有聚合性基团的基团q，例如可以举出以下那样的结构。
作为本发明的多官能聚合性单体(a)，可以为直链状，也可以为支链状。例如可以举出以下那样的结构。
其中，特别优选的是，多官能聚合性单体(a)为具有5个以上硅原子的结构。这是因为，通过使硅原子量为5个以上，耐干法蚀刻性提高。
本发明的多官能聚合性单体(a)的合成没有特别限定，可以使用公知惯用的方法。例如，可以举出：将具有聚合性不饱和基团和羟基的化合物作为原料，通过氯硅烷和脱盐酸反应进行合成的方法；通过烷氧基硅烷和酯交换进行合成的方法等。
＜单官能聚合性单体(b)＞
本发明的固化性组合物可以含有单官能聚合性单体(b)。单官能聚合性单体(b)为具有1个聚合性基团的化合物。聚合性基团表示能够进行聚合反应的官能团，具体可以举出自由基聚合性基团、阳离子聚合性基团等。单官能聚合性单体(b)具有的聚合性基团优选为与上述多官能聚合性单体(a)具有的聚合性基团反应的基团，例如，多官能聚合性单体(a)具有的聚合性基团为(甲基)丙烯酰基时，优选单官能聚合性单体(b)具有的聚合性基团也为(甲基)丙烯酰基。
作为单官能聚合性单体(b)，具体可以举出：(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基丙酯、(甲基)丙烯酸羟基丁酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯基苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧基苄酯、苯酚eo改性(甲基)丙烯酸酯、邻苯基苯酚eo改性(甲基)丙烯酸酯、对枯基苯酚eo改性(甲基)丙烯酸酯、壬基苯酚eo改性(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸单羟基乙酯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2-羟基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-(苯硫基)乙酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、二环戊二烯(甲基)丙烯酸酯、二环戊二烯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸双环戊酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸金刚烷基酯等。特别优选含硅单体。这是因为，由于含有硅，所以含有单官能聚合性单体(b)的固化性组合物的耐干法蚀刻性提高。作为含硅单体，具体而言，可以举出乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基甲基二甲氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、2-三甲氧基甲硅烷基乙基乙烯基醚、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、苯乙烯基三甲氧基硅烷、单末端型反应性硅油(信越化学工业株式会社制x-22-174asx、x-22-174bx、kf-2012、x-22-2426、x-22-2475)等。
＜多官能聚合性单体(c)＞
本发明的固化性组合物可以含有除了多官能聚合性单体(a)以外的多官能聚合性单体(c)。作为多官能聚合性单体(c)，具体可以举出1,2-乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,2-丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(2-(甲基)丙烯酰氧基)异氰脲酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、二(季戊四醇)五(甲基)丙烯酸酯、二(季戊四醇)六(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷加成双酚a二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷加成双酚f二(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷加成双酚a二(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷加成双酚f二(甲基)丙烯酸酯、具有9,9-双酚芴骨架的二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸酯改性有机硅(信越化学工业(株)制x-22-2445、x-22-1602、x-22-164、x-22-164as、x-22-164a、x-22-164b、x-22-164c、x-22-164e、kr-513、x-40-2672b、x-40-9272b等)、(甲基)丙烯酸酯改性倍半硅氧烷(东亚合成株式会社制ac-sqta-100、mac-sqtm-100、ac-sqsi-20、mac-sqsi-20等)，特别优选为(甲基)丙烯酸酯改性有机硅(信越化学工业株式会社制x-22-2445、x-22-1602、x-22-164、x-22-164as、x-22-164a、x-22-164b、x-22-164c、x-22-164e、kr-513、x-40-2672b、x-40-9272b等)、(甲基)丙烯酸酯改性倍半硅氧烷(东亚合成株式会社制ac-sqta-100、mac-sqtm-100、ac-sqsi-20、mac-sqsi-20等)。
＜固化性组合物＞
本发明的固化性组合物的特征在于，含有上述多官能聚合性单体(a)，且不挥发组分量中的硅原子的量为10wt％以上。通过使不挥发组分量中的硅原子的量为10wt％以上，本发明的固化性组合物的耐干法蚀刻性高，因此，作为干法蚀刻用抗蚀剂适合。不挥发组分量中的硅原子的量优选为15wt％以上、更优选为20wt％以上。
本发明的固化性组合物含有以多官能聚合性单体(a)为代表的多官能聚合性单体。固化性组合物的不挥发组分量中的多官能聚合性单体量优选为50wt％以上。这是因为，通过增加三维的交联点，压印时的图案形成性优异。
本发明的固化性组合物具有多官能聚合性单体(a)，在进一步含有单官能聚合性单体(b)或多官能聚合性单体(c)的情况下，优选单体的重量比为(a)：(b)＝100：0～10：90、(a)：(c)＝80：20～100：0。进一步优选为(a)：(b)＝100：0～50：50、(a)：(c)＝90：10～100：0，特别优选多官能聚合性单体(a)为100％的情况。
本发明的固化性组合物优选具有固化催化剂。作为固化催化剂，聚合性单体具有自由基聚合性基团的情况下，优选自由基聚合引发剂。特别是在利用光压印进行压印的情况下，优选光自由基聚合引发剂。这些固化催化剂可以单独使用，也可以组合使用两种以上。
作为光自由基引发剂，具体可以举出2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、1-羟基-环己基-苯基-酮、1-[4-(2-羟基乙氧基)-苯基]-2-羟基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1、双(2,4,6-三甲基苯甲酰)-苯基氧化膦、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]-苯基}-2-甲基-丙烷、{1-[4-(苯硫基)-1,2-丁二酮-2-(o-苯甲酰肟)]}、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮、苯基水合乙醛酸甲酯、2,4,6-三甲基苯甲酰-二苯基-氧化膦等，但只要对光固化时使用的光源具有吸收，则没有特别限定。
上述化合物可作为市售品获得，可以举出irgacure(注册商标)651、同184、同2959、同907、同369、同379、同819、同127、同oxe01、darocur(注册商标)1173、同mbf、同tpo(以上、basf日本株式会社制)、esacure(注册商标)kip150、同tzt、同kto46、同1001m、同kb1、同ks300、同kl200、同tpo、同itx、同edb(以上、nihonsiberhegnerco.,ltd.制)等。
本发明的固化性组合物中的固化催化剂的含量相对于全部聚合性单体优选为0.5～20质量％、进一步优选为1质量％至10质量％。如果为0.5质量％以上，则固化性高、图案形成性优异。
另外，本发明的固化性组合物可以含有溶剂。通过添加溶剂，可以调整固化性组合物的粘度。作为溶剂，例如可以单独或组合使用2种以上如下物质：正己烷、正庚烷、正辛烷、环己烷、环戊烷等脂肪族系或脂环族系的烃类；甲苯、二甲苯、乙基苯、苯甲醚等芳香族烃类；甲醇、乙醇、正丁醇、乙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚等醇类；乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、乙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯等酯类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类；烷基醚类；1,2-二甲氧基乙烷、四氢呋喃、二氧杂环己烷等醚类；n-甲基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺。
对于使用溶剂时的溶剂含量，根据需要，固化性组合物中的除了溶剂以外的成分的含量可以在0.1～100质量％的范围内调整。
本发明的固化性组合物在不损害本发明的效果的范围内可以配混其他配混物。作为其他配混物，可以举出有机颜料、无机颜料、体质颜料、有机填料、无机填料、光敏剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、表面活性剂、密合辅助剂等。
作为上述表面活性剂，可以使用非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性表面活性剂中的任意者，从与其他成分的相容性的方面出发，优选非离子表面活性剂。表面活性剂的含量相对于全部聚合性化合物为0.001～10质量％、优选为0.01～8质量％、进一步优选为0.1～5质量％。使用2种以上的表面活性剂时，其总量为前述范围。表面活性剂为前述范围时，涂布的均匀性优异、模具转印性也变得良好。
作为上述非离子表面活性剂，可以举出：聚氧化烯烷基醚系表面活性剂、聚氧化烯脂肪酸酯系表面活性剂、山梨糖醇酐脂肪酸酯系表面活性剂、聚氧化烯烷基胺系表面活性剂、普朗尼克系(聚环氧乙烷与聚环氧丙烷的三嵌段共聚物)表面活性剂、氟系表面活性剂、有机硅系表面活性剂、丙烯酸类聚合系表面活性剂等。
作为阴离子表面活性剂，可以举出烷基苯磺酸盐系表面活性剂、烷基醇硫酸酯盐系表面活性剂、聚氧化烯烷基醚硫酸盐系表面活性剂、烷基醇磷酸酯盐系表面活性剂、聚氧化烯烷基醚磷酸盐系表面活性剂、聚氧化烯烷基醚乙酸盐系表面活性剂、氟系表面活性剂等，可以使用酸型、中和型的任意者。
作为阳离子表面活性剂，可以举出四烷基卤化铵系表面活性剂、烷基吡啶卤化物系表面活性剂、烷基咪唑啉卤化物系表面活性剂等。
作为两性表面活性剂，可以举出烷基甜菜碱系表面活性剂、烷基咪唑啉甜菜碱系表面活性剂、卵磷脂系表面活性剂等。
＜抗蚀材料＞
本发明的抗蚀材料含有上述固化性组合物。通过将本发明的抗蚀材料固化，能够得到抗蚀膜。经过在本发明的抗蚀材料上形成图案的工序和对前述图案形成层照射光的工序，可以得到形成有图案的抗蚀膜。
对于本发明的抗蚀材料，在基材上涂布后，形成图案。作为在基材上涂布的方法，没有特别限定，可以使用喷雾法、旋涂法、浸渍法、辊涂法、刮涂法、刮刀辊法、刮刀法、帘幕涂布法、狭缝式涂布法、丝网印刷法、喷墨法等各种方法。
使用模具的图案形成的情况下，在用前述方法制作的膜上按压预先形成有图案的模具，在接触的状态下使其固化，由此得到形成有图案的抗蚀膜。本发明的抗蚀材料尤其是也可适宜用于100nm以下的图案形成。
对于压印用模具的材质，作为透过光的材质，可以举出石英、紫外线透过玻璃、蓝宝石、金刚石、聚二甲基硅氧烷等有机硅材料、氟树脂、环烯烃树脂、其他透过光的树脂材料等。另外，如果使用的基材为透过光的材质，则压印用模具可以为不透过光的材质。作为不透过光的材质，可以举出金属、sic、云母等。其中，从良好地透过紫外线、硬度高、表面平滑性高的方面出发，特别优选为石英模具。
压印用模具可以选择平面状、带状、辊状、辊带状等任意形状的模具。
对于压印用模具，为了提高固化性组合物与模具表面的脱模性，可以使用进行了脱模处理的模具。作为脱模处理，可以举出利用有机硅系、氟系的硅烷偶联剂进行的处理等。
对于固化性组合物的固化方法，在模具为透过光的材质的情况下，可以举出从模具侧照射光的方法，在基材为透过光的材质的情况下，可以举出从基材侧照射光的方法。作为光照射中使用的光，只要是光聚合引发剂发生反应的光即可，其中，从光聚合引发剂容易反应、能够在更低温度下进行固化的方面出发，优选450nm以下的波长的光(紫外线、x射线、γ射线等活性能量射线)。
另外，若形成的图案的追随性存在问题，则可以在光照射时加热至能够获得充分的流动性的温度。加热时的温度优选为0～300℃、更优选为0～200℃、进一步优选为0～150℃、特别优选为25～80℃。在前述温度范围内，可以精度良好地保持由固化性组合物形成的图案形状。
固化后，通过对模具进行脱模，可以得到形成有转印了模具的凹凸图案的凸凹图案的抗蚀膜。为了抑制基材的翘曲等变形、或提高凹凸图案的精度，作为剥离工序，优选在固化膜的温度降低至常温(25℃)附近后实施的方法。
对模具进行脱模后，在模具中确认有抗蚀剂残渣的情况下，进行清洗。由于模具重复使用，因此若模具中存在抗蚀剂残渣，则对下一工序中的图案形成造成不良影响。
本发明的抗蚀材料中含有的多官能聚合性单体(a)具备：上述具有聚合性基团的基团q。该具有聚合性基团的基团q由于为水解性基团，所以通过在固化后进行水解处理，能够良好地清洗模具。
作为模具的清洗中使用的能够水解的清洗液，可以举出酸、碱、热水等。作为酸清洗液，可以举出硫酸、盐酸、硝酸、碳酸、乙酸、磷酸、王水、稀氢氟酸、硫酸过氧化氢、盐酸过氧化氢等，作为碱清洗液，不仅可以举出苛性钠、苛性钾等苛性碱、各种硅酸盐、磷酸盐、碳酸盐等无机碱，而且可以举出四甲基氢氧化铵等有机碱、氨水、氨氢水、氨过氧化氢等。碱清洗液有溶解sio2的担心，因此在模具为玻璃、石英的情况下，优选酸清洗液，特别优选为硫酸过氧化氢。特别是在具有100nm以下的微细图案的石英模具的清洗中，担心在碱清洗液中由于sio2的溶解作用而损坏模具的矩形性，因此通过使用酸清洗液，可以没有微细图案的损伤地清洗模具，可以重复使用。
作为清洗方法，没有特别限定，可以举出喷雾、喷淋、浸渍、加温浸渍、超声波浸渍、旋转法(spinmethod)、鼓泡、摇动法、刷洗、蒸汽、研磨等，为了防止被清洗的污染物的再附着，特别优选旋转法。
本发明的抗蚀膜通过层叠在基材上而形成层叠体。作为形成层叠体的基材，可以根据各种用途进行选择，例如可以举出石英、蓝宝石、玻璃、塑料、陶瓷材料、蒸镀膜(cvd、pvd、溅射)、磁性膜、反射膜、ni、cu、cr、fe、不锈钢等金属基板、纸、sog(spinonglass)、soc(spinoncarbon)、聚酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚酰亚胺薄膜等聚合物基板、tft阵列基板、pdp的电极板、ito、金属等导电性基材、绝缘性基材、硅、氮化硅、多晶硅、氧化硅、非晶硅等半导体制作基板等。
另外，可以为具有第二抗蚀层和下层基板的二层抗蚀剂用的基材。作为二层抗蚀剂用的基材的组合，没有特别限定，作为第二抗蚀层的材质，可以举出cr、al、ni等金属掩模、酚醛清漆树脂等酚醛树脂、羟基乙烯基萘共聚物、聚乙烯基苯酚共聚物等乙烯基树脂、降三环烯(nortricyclene)共聚物、茚共聚物、苊烯共聚物、富勒烯衍生物等多环芳香族系树脂、由这些树脂的固化物等形成的soc层、由cvd形成的非晶碳膜等。另外，可以为3层、4层的层叠不同的材料而成的多层基材，也可以将本发明的抗蚀膜用作下层膜。
另外，基材的形状也没有特别限制，可以为平板、片状、或者在三维形状整面或一部分具有曲率的形状等与目标相适应的任意形状。另外，对基材的硬度、厚度等也没有限制。
对于本发明的层叠体，可以在基材上涂布抗蚀材料，在该情况下进行固化而形成抗蚀膜；也可以将形成在临时基材上的抗蚀膜剥离，贴附到基材上制成层叠体。抗蚀膜只要形成有图案，则可以通过对层叠体进行干法蚀刻而得到利用干法蚀刻将图案转印至基材上的图案形成物。
由本发明的抗蚀材料形成的抗蚀膜的耐干法蚀刻性优异，因此即使在干法蚀刻时也不会发生图案等的崩坏，即使为纳米尺寸的微细的蚀刻图案，也能转印到基材上。
作为干法蚀刻中使用的气体，只要使用公知的气体即可，例如可以使用氧气、一氧化碳、二氧化碳等含氧原子的气体、氦气、氮气、氩气等非活性气体、氯气、三氯化硼等氯系气体、氟气、氟碳系气体、氢气、氨气等，这些气体可以单独使用，也可以适当混合使用。
通过使用这些蚀刻气体进行蚀刻，可以在基材上形成期望的图案。
实施例
接着，通过实施例及比较例更具体地说明本发明。例中，只要没有特别记载，则“份”“％”为重量基准。
以下，更详细地说明本发明，但本发明并不限定于这些实施例。
[合成例1]
＜1,3-双(丙烯酰氧基乙基氧基)-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷(多官能聚合性单体(a-1))的合成＞
在氮气气氛下，使1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷(4.064g，0.02mol)、三乙基胺(4.048g，0.04mol)溶解于四氢呋喃(60ml)，通过冰浴冷却至0℃。向其中滴加丙烯酸-2-羟基乙-酯(4.644g，0.04mol)的四氢呋喃(40ml)溶液，在0℃下搅拌2小时进行反应，然后通过过滤去除盐酸盐，利用蒸发进行浓缩。通过使用乙酸乙酯和己烷溶剂的硅胶柱色谱法进行纯化，通过减压分馏得到多官能聚合性单体(a-1)5.42g(收率75％)。
所得化合物的物性值如下。
1h-nmr(300mhz，cdcl3)δ(ppm)：6.42(dd，2h，ch＝c)，6.16(m，2h，c＝ch-c＝o)，5.87(dd，2h，h＝c)，4.25(m，4h，ch2-o-c＝o)，3.90(m，4h，ch2-o-si)，0.12(m，12h，si-ch3).
[合成例2]
＜1,5-双(丙烯酰氧基乙基氧基)-1,1,3,3,5,5-六甲基三硅氧烷(多官能聚合性单体(a-2))的合成＞
利用与1,3-双(丙烯酰氧基乙基氧基)-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的合成同样的方法合成。作为原料，使用1,5-二氯-1,1,3,3,5,5-六甲基三硅氧烷代替1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷。
所得化合物的物性值如下。
1h-nmr(300mhz，cdcl3)δ(ppm)：6.42(dd，2h，ch＝c)，6.14(m，2h，c＝ch-c＝o)，5.83(dd，2h，h＝c)，4.25(m，4h，ch2-o-c＝o)，3.89(m，4h，ch2-o-si)，0.12(m，18h，si-ch3).
[合成例3]
＜1,7-双(丙烯酰氧基乙基氧基)-1,1,3,3,5,5,7,7-八甲基四硅氧烷(多官能聚合性单体(a-3))的合成＞
利用与1,3-双(丙烯酰氧基乙基氧基)-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的合成同样的方法合成。作为原料，使用1,7-二氯-1,1,3,3,5,5,7,7-八甲基四硅氧烷代替1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷。
所得化合物的物性值如下。
1h-nmr(300mhz，cdcl3)δ(ppm)：6.42(dd，2h，ch＝c)，6.14(m，2h，c＝ch-c＝o)，5.83(dd，2h，h＝c)，4.25(m，4h，ch2-o-c＝o)，3.89(m，4h，ch2-o-si)，0.12(m，24h，si-ch3).
[合成例4]
＜多官能聚合性单体(a-4)的合成＞
将甲基系有机硅树脂kc-89s(商品名、信越化学工业株式会社制)(137.9g)、丙烯酸-2-羟基乙酯(81.3g，0.7mol)、对甲苯磺酸一水合物(44mg)混合，一边在120℃下反应一边蒸馏去除生成的甲醇，搅拌3小时，进行反应，得到多官能聚合性单体(a-4)197.8g。
所得化合物的物性值如下。
1h-nmr(300mhz，cdcl3)δ(ppm)：6.43(m，ch＝c)，6.12(m，c＝ch-c＝o)，5.83(m，ch＝c)，4.25(br，ch2-o-c＝o)，3.97(br，ch2-o-si)，3.52(s，si-och3)，0.16(s，si-ch3)。测定重均分子量，结果为770。
(式(1)所示的具有聚合性基团的基团q的形成的确认方法)
用以下方法确认式(1)所示的具有聚合性基团的基团q的形成。
1h-nmr光谱中，源自作为原料的丙烯酸-2-羟基乙酯的峰(δ＝3.87ppm，c-o-c-ch2-)消失，甲基系有机硅树脂的甲氧基的峰(δ＝3.52，si-och3)减少，因此确认了醇交换反应定量地进行。另外，由于出现新的峰(δ＝3.97，ch2-o-si)，因此确认了丙烯酸-2-羟基乙酯与甲基系有机硅树脂通过si-o-c键而键合，形成了式(1)所示的具有聚合性基团的基团q。
(硅原子的量的计算方法)
多官能聚合性单体(a-4)中含有的硅原子的量通过下式计算。
(a)中含有的硅原子的量＝esi×csilicone×msi
esi＝(rt0/mt0)+(rt1/mt1)+(rt2/mt2)+(rt3/mt3)
上述式中，esi为每1g有机硅树脂原料的硅原子的浓度(eq/g)，csilicone为多官能聚合性单体(a)中的源自有机硅树脂原料部分的量(wt％)，msi为硅的原子量(＝28.09)。rt0、rt1、rt2、rt3分别为t0成分的摩尔％比率、t1成分的摩尔％比率、t2成分的摩尔％比率、t3成分的摩尔％比率(rt0+rt1+rt2+rt3＝1)，mt0、mt1、mt2、mt3分别为t0成分的单元分子量、t1成分的单元分子量、t2成分的单元分子量、t3成分的单元分子量。
其中，t0成分、t1成分、t2成分、t3成分为下述含义。
作为原料的甲基系有机硅树脂包含t单元。t单元是指具有1个硅原子、具有与该硅原子键合的1个甲基、和3个与其他硅原子键合的氧原子或不与其他硅原子键合的官能团的单元。t0中与其他硅原子键合的氧原子的数量为0个，t1中该氧原子的数量为1个，t2中该氧原子的数量为2个，t3中该氧原子的数量为3个。t0/t1/t2/t3的摩尔％比率可以由29si-nmr光谱(单脉冲法)的积分比算出。
(多官能聚合性单体(a)一分子中所含的硅原子的个数的计算方法)
在醇交换反应的前后低聚物一分子中所含的硅原子的个数不会变化，因此通过下式算出原料的有机硅树脂一分子中所含的硅原子的个数，算出与其个数相同的多官能聚合性单体(a-4)一分子中所含的硅原子的个数。
(a)一分子中所含的硅原子的个数＝mw×esi
上述式中，mw使用原料的有机硅树脂的重均分子量的值。
(式(1)所示的具有聚合性基团的基团q的个数)
多官能聚合性单体(a-4)一分子中所含的、式(1)所示的具有聚合性基团的基团q的个数通过下式计算。
式(1)所示的具有聚合性基团的基团q的个数＝(nalkoxy)×(1-rtrans)
malkoxy＝(mw×calkoxy)/malkoxy
上述式中，nalkoxy为有机硅树脂原料1分子中的烷氧基的个数，rtrans为醇交换反应的转化率，malkoxy为有机硅树脂原料的烷氧基的分子量(g/mol)，calkoxy为有机硅树脂原料的烷氧基量(wt％)。rtrans可以由多官能聚合性单体(a-4)的1h-nmr光谱的甲氧基的峰(δ＝3.52，si-och3)的积分比以及丙烯酸-2-羟基乙酯与甲基系有机硅树脂通过si-o-c键而键合的峰(δ＝3.97，ch2-o-si)的积分比算出。
[合成例5]
＜多官能聚合性单体(a-5)的合成＞
将甲基系有机硅树脂kr-500(商品名、信越化学工业株式会社制)(110.8g)、丙烯酸-2-羟基乙酯(58.1g，0.5mol)、对甲苯磺酸一水合物(34mg)混合，一边在120℃下反应一边蒸馏去除生成的甲醇，搅拌3小时进行反应，得到多官能聚合性单体(a-5)153.9g。
所得化合物的物性值如下。
1h-nmr(300mhz，cdcl3)δ(ppm)：6.43(m，ch＝c)，6.13(m，c＝ch-c＝o)，5.83(m，ch＝c)，4.25(br，ch2-o-c＝o)，3.96(br，ch2-o-si)，3.50(s，si-och3)，0.15(s，si-ch3)。测定重均分子量，结果为1650。
对于式(1)所示的具有聚合性基团的基团q的形成、多官能聚合性单体(a-5)中所含的硅原子的量、多官能聚合性单体(a-5)一分子中所含的硅原子的个数、多官能聚合性单体(a-5)一分子中所含的式(1)所示的具有聚合性基团的基团q的个数，采用与合成例4同样的方法算出。
[合成例6]
＜多官能聚合性单体(a-6)的合成＞
将甲基系有机硅树脂x-40-9225(商品名、信越化学工业株式会社制)(129.3g)、丙烯酸-2-羟基乙酯(58.1g，0.5mol)、对甲苯磺酸一水合物(38mg)混合，一边在120℃下反应一边蒸馏去除生成的甲醇，搅拌3小时进行反应，得到多官能聚合性单体(a-6)172.4g。
所得化合物的物性值如下。
1h-nmr(300mhz，cdcl3)δ(ppm)：6.43(m，ch＝c)，6.13(m，c＝ch-c＝o)，5.83(m，ch＝c)，4.24(br，ch2-o-c＝o)，3.95(br，ch2-o-si)，3.48(s，si-och3)，0.15(s，si-ch3)。测定重均分子量，结果为3580。
对于式(1)所示的具有聚合性基团的基团q的形成、多官能聚合性单体(a-6)中所含的硅原子的量、多官能聚合性单体(a-6)一分子中所含的硅原子的个数、多官能聚合性单体(a-6)一分子中所含的式(1)所示的具有聚合性基团的基团q的个数，采用与合成例4同样的方法算出。
＜多官能聚合性单体(a)＞
多官能聚合性单体(a)的具体的结果如下述所示的结构式。
丙烯酸-2-羟基乙酯改性有机硅树脂···(a-4)
丙烯酸-2-羟基乙酯改性有机硅树脂···(a-5)
丙烯酸-2-羟基乙酯改性有机硅树脂···(a-6)
＜比较单体(r)＞
r-1：两末端甲基丙烯酸改性有机硅(x-22-164：信越化学工业株式会社制，一分子中含有2个硅原子)
将多官能聚合性单体(a)中所含的、式(1)所示的聚合性基团的个数、硅原子的量及个数汇总于表1。
[表1]
＜单官能聚合性单体(b)＞
b-1：丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(kbm-5103：信越化学工业株式会社制)
b-2：丙烯酸苄酯(viscoat#160：大阪有机化学工业株式会社制)
＜多官能聚合性单体(c)＞
c-1：三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(viscoat#295：大阪有机化学工业株式会社制)
c-2：合成例7中记载的化合物
[合成例7]
＜多官能聚合性单体(c-2)的合成＞
将1,3-金刚烷二甲酸(1.9g，8.5mmol)放入烧瓶，在氮气下加入亚硫酰氯(25ml)。将烧瓶的内容物回流3小时，然后蒸馏去除过量的亚硫酰氯并蒸发干燥，得到作为白色固体的三环[3.3.1.13,7]癸烷-1,3-二羰基二氯化物。将2-乙烯氧基乙醇(2.0g，22.7mmol)、三乙基胺(4.0ml)、氯仿(10ml)放入3口烧瓶，在氮气下、于0度滴加三环[3.3.1.13,7]癸烷-1,3-二羰基二氯化物(2.1g，8.1mmol)的氯仿(15ml)溶液，然后在室温下搅拌18小时。将反应混合物移至分液漏斗，用1m盐酸清洗至中性，然后用饱和碳酸氢钠水溶液及离子交换水清洗。分取有机层，用无水硫酸镁干燥，蒸馏去除溶剂。将残留的无色透明液体用硅胶中压柱(展开溶剂：氯仿)纯化，得到作为无色粘性液体的三环[3.3.1.13,7]癸烷-1,3-二甲酸双(2-乙烯基氧基亚乙基)酯。在氮气下，将对甲苯磺酸(36mg，0.21mmol)的thf(6ml)溶液、甲基丙烯酸(1.08g，12.6mmol)放入3口烧瓶，将三环[3.3.1.13,7]癸烷-1,3-二甲酸双(2-乙烯基氧基亚乙基)酯(1.53g，4.2mmol)的thf溶液10ml放入3口烧瓶，在水浴中搅拌6小时。用蒸发器从反应混合物蒸馏去除thf，然后加入二乙基醚。将该二乙基醚溶液移至分液漏斗，用饱和碳酸氢钠水溶液、饱和食盐水分别清洗各3次。分取有机层，用无水硫酸镁干燥，用蒸发器蒸馏去除溶剂。将残留的无色透明液体用硅胶中压柱(展开溶剂：氯仿)纯化，得到作为无色粘性液体的多官能聚合性单体(c-2)。
所得化合物的物性值如下。
1h-nmr(300mhz，cdcl3)δ(ppm)：6.1，5.6(4h，s，ch2＝c)，6.0-5.9(2h，m，o-ch(ch3)-o)，4.2(4h，t，-c(＝o)-ch2-)，3.8-3.6(4h，m，-ch2-o)1.6-2.1(14h，m，adamantane)，1.9(6h，s，-ch3)，1.3(6h，m，o-ch(ch3)-o).
[实施例1～8、比较例1～4]
(固化性组合物的调制)
关于实施例1～8、比较例1～4，基于后述的表2所示的配混量(重量份)进行配混，在此基础上，加入作为光聚合引发剂的2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮(irgacure-369：basf株式会社制)2重量份，进而加入作为阻聚剂的4-甲氧基苯酚，使其相对于聚合性单体为200ppm，在此基础上，用0.1μm的四氟乙烯制过滤器过滤，调制固化性组合物。
[表2]
＜硫酸过氧化氢浸渍评价＞
(抗蚀膜的制作)
使用甲基异丁基酮溶剂将实施例1～8及比较例1～4中得到的组合物稀释，以膜厚为1.0μm的方式旋转涂布于石英基板上。对于所得层叠体，通过峰波长365±5nm的led光源(ushioinc.会社制)在氮气气氛下从树脂组合物侧以1000mj/cm2的光量进行光照射，使其固化，得到固化膜。
(硫酸过氧化氢浸渍评价)
将所得固化膜浸渍于硫酸过氧化氢(硫酸：过氧化氢水＝4：1(容量比))5分钟后，用离子交换水冲洗30秒，目视观察固化膜的残留，如下评价固化膜的清洗性。
◎：固化膜溶解于硫酸过氧化氢，石英基板上无残留。
○：固化膜从石英基板剥离，石英基板上无残留。
×：固化膜未见变化。
＜石英模具清洗性评价＞
(石英模具阻塞物的制作)
将实施例1～8及比较例1～4所示的组合物涂布于具有45～100nm的线/空间图案、槽深为100nm的以石英作为材质的模具(nttadvancedtechnologycorporation制、nim-phl45)，使模具的图案阻塞。对于所得模具，通过峰波长365±5nm的led光源(ushioinc.会社制)在氮气气氛下从模具的图案面侧以1000mj/cm2的光量进行光照射，使其固化，得到石英模具阻塞物。
(石英模具清洗性评价)
将所得石英模具阻塞物浸渍于硫酸过氧化氢(硫酸：过氧化氢水＝4：1(容量比))5分钟后，用离子交换水冲洗30秒，用氮气进行干燥。通过扫描电子显微镜观察模具的线图案形状截面，如下评价石英模具清洗性。
基于扫描电子显微镜观察的石英模具的图案截面观察中，
○：整面的图案无阻塞。
×：存在用固化物阻塞的部分。
＜压印图案形成性评价＞
将实施例1～8及比较例1～4中制作的固化性组合物滴加在硅晶圆基材上1μl，放置于scivax株式会社制纳米压印装置x300的下面载物台上。将具有45～100nm的线/空间图案、槽深为100nm的以石英作为材质的模具(nttadvancedtechnologycorporation制、nim-phl45)放置于上述装置的上面载物台上。使装置内为真空后，在室温下以1.5气压的压力使模具压接于基板，对其从模具的背面使用峰波长365±5nm的led光源以1000mj/cm2的条件进行曝光，剥离模具，在基材上形成图案。实施线图案形状截面的扫描电子显微镜观察，如下评价图案形成性。
基于扫描电子显微镜观察的图案截面观察中，
◎：图案的缺损或歪斜小于1％。
○：图案的缺损或歪斜为1％以上且小于5％。
×：图案的缺损或歪斜为5％以上。
(抗蚀膜的制作)
使用甲基异丁基酮溶剂将实施例1～8及比较例1～4所示的组合物稀释，以膜厚为0.2μm的方式旋转涂布于硅晶圆基材上。对于所得层叠体，通过峰波长365±5nm的led光源(ushioinc.会社制)在氮气气氛下从树脂组合物侧以1000mj/cm2的光量进行光照射，使其固化，得到固化膜。
(o2系等离子体蚀刻耐性评价-1)
对于所得固化膜，使用samco(株)制干式蚀刻机rie-101iph，供给o2/n2＝10/10(sccm)的混合气体，在0.1pa的真空下进行180秒氧气等离子体蚀刻，然后测定固化膜的残留膜厚，算出每1秒的蚀刻速度。以实施例1的蚀刻速度的值为1的方式将所得蚀刻速度标准化。标准值越小，表示耐干法蚀刻性越优异。
将结果示于下述表3。
[表3]
产业上的可利用性
本发明的固化性组合物能够用于各种压印技术，尤其是可以优选作为用于形成纳米尺寸的微细图案的固化性组合物使用。具体而言，可以用于半导体集成电路、微机电系统(mems)、传感器元件、光盘、高密度存储盘等磁记录介质、衍射光栅、浮雕全息图等光学部件、纳米设备、光学设备、用于制作平板显示器的光学薄膜或偏光元件、液晶显示器的薄膜晶体管、有机晶体管、滤色器、外涂层、微透镜阵列、免疫分析芯片、dna分离芯片、微反应器、纳米生物设备、光波导、光学过滤器、光子晶体液晶、基于3d印刷的成形物等的制作。