固化。UV辐 射的暴露时间根据固化过程期间不同的线速度而变化。
[0053] 如下所述制备层压的膜构造。将表1中所示的100 μ m厚的基于双酚A的二丙烯 酸酯混合物（EBECRYL 3600、114和130,所有购自新泽西州伍德兰帕克的氰特工业有限公 司（Cytec Industries, Inc.，Woodland Park, NJ)，而 DAR0CUR 4265 购自新泽西州弗洛勒 姆帕克的巴斯夫公司（BASF, Florham Park, NJ))层涂布到两层阻挡膜之间。随后使用高 输出Fusion F600D灯泡（购自马里兰州盖瑟斯堡的辐深紫外系统有限公司（Fusion UV Systems, Inc.，Gaithersburg, MD))在 30fpm(9. lm/min)下对该构造进行 UV 固化。
[0056] 使用M0C0N PERMATRAN-W(R) 700WVTR型测试系统（购自明尼苏达州明尼阿波利 斯的膜康公司（M0C0N，Inc. Minneapolis，MN))在50°C下对阻挡膜的水蒸气渗透率进行测 试。本实例的测试值低于〇. 〇〇5g/m2/天的检测限。
[0057] 使用PerkinElmer Lambda 900 (购自马萨诸塞州沃尔瑟姆的?自金埃尔默公 司（PerkinElmer, Inc.，Waltham, ΜΑ))对层压体膜构造进行测量，并且层压体膜构造在 400nm-800nm的范围内示出平均90%的透射率。根据ASTM D1876-08 "粘合剂抗剥离 性的标准测试方法（T-剥离测试）"（Standard Test Method for Peel Resistance of Adhesives (T-Peel Test))测试层压体膜构造的剥离强度。当在300W萊合金UV光源下的 暴露时间介于约0. 1秒至约0. 5秒之间时，剥离强度大于约200g/in(200g/25mm)，当暴露时 间大于约1. 5秒时，剥离强度为100g/in(100g/25mm)或更低。
[0058] 比较例C-1
[0059] 按照与实例1中所述方法类似的方法构造阻挡膜，不同的是使用电子束（EB)辐射 来固化阻挡膜的第二（顶部）丙烯酸酯层。如实例1所述，使用具有100 μ m厚的丙烯酸酯 涂层的阻挡膜样品来制备层压体膜构造。如表2所示，该构造赋予良好的阻隔性能，但电子 束固化的阻挡膜和100 μπι厚的丙烯酸酯涂层之间具有较低的层间粘附力。
[0060] 比较例C-2
[0061] 按照与实例1中所述方法类似的方法构造阻挡膜，不同的是使用在185nm和254nm 处具有高输出的300W UV辐射源来固化阻挡膜的第二（顶部）丙烯酸酯层。如实例1所述， 使用具有100 μ m厚的丙烯酸酯涂层的阻挡膜样品来制备层压体膜构造。如表2所示，该构 造赋予良好的阻隔性能，但185nm UV固化的阻挡膜和100 μπι厚的丙烯酸酯涂层之间具有 较低的层间粘附力。
[0062] 比较例C-3
[0063] 按照与实例1中所述方法类似的方法构造阻挡膜，不同的是第二（顶部）丙烯酸 酯的固化持续时间为约2秒或更长。如实例1所述，使用具有100 μ m厚的丙烯酸酯涂层的 阻挡膜样品来制备层压体膜构造。如表2所示，该构造赋予良好的阻隔性能，但持续长时间 UV固化的阻挡膜和100 μ m厚的丙烯酸酯涂层之间具有较低的层间粘附力。
[0064] 对于实例1、比较例C-2和比较例C-3的样品，根据ASTM D1876-08 "粘合剂抗剥 离性的标准测试方法（T-剥离测试）"（Standard Test Method for Peel Resistance of Adhesives (T-Peel Test))来测试剥离强度，并且使用M0C0N PERMATRAN-W(R)700WVTR型测 试系统在50°C下测试水蒸气传输速率（WVTR)。结果列于下表2和表3中。
[0068] 观察到粘附力与剂量呈反比关系。来自典型电子束固化赋予剥离力的数据结果小 于5g/in。下表3示出了实例1和比较例C-3中的UV光源以及比较例C-2中的UV光源的 剥离力与暴露时间的关系，其中实例1和比较例C-3中的UV光源具有低于220nm的最小输 出，而比较例C-2中的UV光源具有低至185nm的高输出。
[0071] 实例 2
[0072] 按照与实例1中所述方法类似的方法构造阻挡膜。然后将约2密耳（50微米）的热 熔乙烯-乙酸乙烯酯（EVA)粘合剂涂布于该阻挡膜上。通过将实例1中使用的PET基材附 接到EVA粘合剂层来测试粘附力，然后根据ASTM D1876-08"粘合剂抗剥离性的标准测试方 法（T-剥离测试）"（Standard Test Method for Peel Resistance of Adhesives (T-Peel Test))来测试剥离强度。在涂布过程中观察到，对于电子束固化的丙烯酸酯，所有被考虑施 用的剂量都具有较低粘附力。观察到使用具有254nm高输出和低于220nm最小输出的实例 1的UV光源并使用0. 1秒-0. 5秒暴露时间进行UV固化的阻挡膜具有良好的粘附力（剥 离强度大于约200g/in)。
[0073] 以下为本公开的实施例的列表。
[0074] 项目1为一种装置，包括第一阻挡层、第二阻挡层和发光层，各阻挡层至少包括外 部聚合物层，各外部聚合物层具有粘附接触表面；所述发光层包括设置在所述第一阻挡层 和所述第二阻挡层之间的聚合物基体，其中各粘附接触表面与发光层接触，其中所述第一 阻挡层和所述第二阻挡层与所述发光层之间的剥离强度为至少100克/英寸。
[0075] 项目2为项目1所述的装置，其中所述第一阻挡层和所述第二阻挡层与所述发光 层之间的剥离强度为至少200克/英寸。
[0076] 项目3为项目1或项目2所述的装置，其中各所述第一阻挡层和所述第二阻挡层 还包括至少一个无机氧化物层。
[0077] 项目4为项目1至项目3所述的装置，其中所述第一阻挡层和所述第二阻挡层中 的至少一个阻挡层还包括选自柔性玻璃、金属箱、或聚合物膜的基材。
[0078] 项目5为项目1至项目4所述的装置，其中所述发光层还包含至少一个量子点。
[0079] 项目6为项目1至项目5所述的装置，其中所述聚合物基体包含可固化（甲基） 丙烯酸酯、可固化环氧物或它们的组合。
[0080] 项目7为项目1至项目6所述的装置，其中所述发光层和各所述外部聚合物层在 彼此接触时进行固化。
[0081] 项目8为项目1至项目7所述的装置，其中各所述外部聚合物层包含辐射固化的 (甲基）丙烯酸酯和任选地包含硅烷偶联剂。
[0082] 项目9为项目1至项目8所述的装置，其中使用紫外（UV)光源、可见光源、热源或 它们的组合将所述发光层和各所述外部聚合物层固化在一起。
[0083] 项目10是一种装置，包括：阻挡膜，所述阻挡膜包括：具有相对的第一主表面和第 二主表面的基材；与所述第二主表面相邻的无机氧化物层；在所述第二主面板和所述无机 氧化物层之间的光滑聚合物层；设置在所述无机氧化物层上、与所述光滑聚合物层相对的 外部聚合物层；和与所述外部聚合物层相邻设置的粘合层，其中所述阻挡膜与所述粘合层 之间的剥离强度为至少1〇〇克/英寸。
[0084] 项目11为项目10所述的装置，其中所述光滑聚合物层包含电子束固化的（甲基） 丙烯酸酯。
[0085] 项12为项目10或项目11所述的装置，其中所述粘合层包含辐射固化的（甲基） 丙烯酸酯和任选地包含硅烷偶联剂。
[0086] 项目13为项目10至项目12所述的装置，其中所述外部聚合物层包含UV辐射固 化的（甲基）丙烯酸酯和任选地包含硅烷偶联剂。
[0087] 项目14为项目10至项目13所述的装置，其中所述阻挡膜和所述粘合层之间的剥 离强度为至少200克/英寸。
[0088] 项目15为项目10至项目14所述的装置，其中所述基材选自柔性玻璃、金属箱或 聚合物膜。
[0089] 项目16为项目10至项目15所述的装置，还包括第二阻挡膜，所述第二阻挡膜具 有：具有相对的第三主表面和第四主表面的第二基材、与所述第四主表面相邻的第二无机 氧化物层、所述第四主表面和所述第二无机氧化物层之间的第二光滑聚合物层，和设置在 所述第二无机氧化物层上、与所述第二光滑聚合物层相对的第二外部聚合物层，其中所述 粘合层与所述第二无机氧化物层相邻设置且与所述第二光滑聚合物层相对。
[0090] 项目17为项目16所述的装置，其中所述第二光滑聚合物层包含电子束固化的 (甲基）丙烯酸酯。
[0091] 项目18为项目16或项目17所述的装置，其中所述第二外部聚合物层包含UV辐 射固化的（甲基）丙烯酸酯和任选地包含硅烷偶联剂。
[0092] 项目19为项目16至项目18所述的装置，其中所述第二基材选自柔性玻璃、金属 箱或聚合物膜。
[0093] 项目20为项目10至项目19所述的装置，其中所述粘合层包括发光层。
[0094] 项目21为项目20所述的装置，其中所述发光层还包含至少一个量子点。
[0095] 项目22为项目10至项目21所述的装置，其中所述粘合层包含热熔性粘合剂。
[0096] 项目23为项目22所述的装置，其中所述热熔性粘合剂包含乙烯-乙酸乙烯酯。
[0097] 项目24为一种形成装置的方法，包括：在真空室中形成阻挡膜，所述阻挡膜具有 外部辐射可固化聚合物层；至少部分固化所述外部辐射可固化聚合物层以在所述阻挡膜上 形成粘附接触表面；以及在所述粘附接触表面形成粘合层。
[0098] 项目25为项目24所述的方法，其中在所述粘附接触表面上形成所述粘合层之前， 从所述真空室取出所述阻挡膜。
[0099] 项目26为项目24或项目25所述的方法，其中所述粘合层是热熔性粘合剂层，并 且形成所述粘合层包括将所述热熔性粘合剂层层压或涂布到所述粘附接触表面上。
[0100] 项目27为项目24至项目26所述的方法，其中至少部分固化包括紫外（UV)辐射 固化。
[0101] 项目28为项目24至项目27所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层包含 辐射可固化（甲基）丙烯酸酯。
[0102] 项目29为项目24至项目28所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层还包 含硅烷偶联剂。
[0103] 项目30为项目24至项目29所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层还包 含聚合抑制剂。
[0104] 项目31为项目30所述的方法，其中所述聚合抑制剂包括厌氧聚合抑制剂。
[0105] 项目32为项目31所述的方法，其中所述厌氧聚合抑制剂选自二乙基羟胺、四甲基 苯二胺、水杨醛肟、四甲基苯二胺、乙酸锰、4-羟基TEMP0、NPAL或吩噻嗪、以及它们的组合。
[0106] 项目33为项目24至项目32所述的方法，其中使用紫外（UV)光源、可见光源、热 源或它们的组合将所述粘合层和所述外部辐射可固化聚合物层进一步固化在一起。
[0107] 项目34为项目24至项目33所述的方法，其中所述阻挡膜包括与所述外部辐射可 固化聚合物层相对的基材，所述基材选自柔性玻璃、金属箱或聚合物膜。
[0108] 项目35为一种形成装置的方法，包括：在真空室中形成阻挡膜，所述阻挡膜具有 外部辐射可固化聚合物层；至少部分固化所述外部辐射可固化聚合物层以在所述阻挡膜上 形成粘附接触表面；将所述阻挡膜层压至包含可固化聚合物基体的粘合层，使所述粘附接 触表面与所述粘合层接触；以及固化所述层压体。
[0109] 项目36为项目35所述的方法，其中在将所述阻挡膜层压至所述粘合层之前，将所 述阻挡膜从所述真空室取出。
[0110] 项目37为项目35或项目36所述的方法，其中至少部分固化包括紫外（UV)辐射 固化。
[0111] 项目38为项目35至项目37所述的方法，其中固化所述层压体包括热固化、紫外 (UV)辐射固化、可见光辐射固化、电子束固化或它们的组合。
[0112] 项目39为项目35至项目38所述的方法，其中所述粘合层包括相对的第一主表面 和第二主表面，并且层压所述阻挡膜包括将所述阻挡膜层压至所述粘合层的各个所述第一 主表面和第二主表面。<