br>[0113] 项目40为项目35至项目39所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层包含 辐射可固化（甲基）丙烯酸酯。
[0114] 项目41为项目35至项目40所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层还包 含硅烷偶联剂。
[0115] 项目42为项目35至项目41所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层还包 含聚合抑制剂。
[0116] 项目43为项目35至项目42所述的方法，其中所述聚合抑制剂包括厌氧聚合抑制 剂。
[0117] 项目44为项目35至项目43所述的方法，其中所述厌氧聚合抑制剂选自二乙基羟 胺、四甲基苯二胺、水杨醛肟、四甲基苯二胺、乙酸锰、4-羟基TEMP0、NPAL或吩噻嗪、以及它 们的组合。
[0118] 项目45为项目35至项目44所述的方法，其中使用紫外（UV)光源、可见光源、热 源或它们的组合，将所述粘合层和所述外部辐射可固化聚合物层固化在一起。
[0119] 项目46为项目35至项目45所述的方法，其中所述可固化聚合物基体包含（甲 基）丙烯酸酯单体和至少一个量子点。
[0120] 项目47为项目35至项目46所述的方法，其中所述阻挡膜还包括至少一个无机氧 化物层。
[0121] 项目48为项目35至项目47所述的方法，其中至少部分固化包括使用UV辐射，该 UV辐射具有在约254nm中心周围的波长谱，并且基本上不具有低于220nm波长的输出。
[0122] 项目49为项目35至项目48所述的方法，其中至少部分固化包括暴露于强度低于 约0. 5W/m2的UV辐射达0. 1秒至1. 5秒。
[0123] 项目50为项目35至项目49所述的方法，其中至少部分固化包括暴露于约0. 5W/ m2的254nm的UV强度达约0. 1秒至约1. 5秒的持续时间。
[0124] 项目51为项目35至项目50所述的方法，其中至少部分固化包括使用可见光辐射 固化。
[0125] 项目52为项目35至项目51所述的方法，其中所述阻挡膜包括与所述外部辐射可 固化聚合物层相对的基材，所述基材选自柔性玻璃、金属箱或聚合物膜。
[0126] 项目53为一种显示器，所述显示器包括：根据项目1至项目23中任一项目所述 的装置；设置用于照明所述装置照明的灯；和设置在所述灯和所述装置之间的液晶显示面 板。
[0127] 除非另外指明，否则说明书和权利要求中使用的表示特征尺寸、数量和物理性能 的所有数字应当被理解为由术语"约"来修饰。因此，除非有相反的说明，否则在上述说明 书和所附权利要求书中列出的数值参数均为近似值，这些近似值可根据本领域技术人员利 用本文所公开的教导内容来寻求获得的期望性能而变化。
[0128] 除能够与本公开直接冲突的部分之外，本文中引用的所有参考文献及出版物全文 以引用方式明确地并入本文中。虽然本文已经举例说明并描述了具体实施例，但本领域的 普通技术人员将会知道，在不脱离本公开的范围的情况下，可用多种另选和/或等同形式 的具体实施来代替所示出的和所描述的具体实施例。本专利申请旨在涵盖本文所讨论的具 体实施例的任何调整或变型。因此，本公开旨在仅受权利要求书及其等同形式的内容限制。
【主权项】
1. 一种装置，包括： 第一阻挡层和第二阻挡层，各阻挡层至少包括外部聚合物层，各外部聚合物层具有粘 附接触表面；和 发光层，所述发光层包括设置在所述第一阻挡层和所述第二阻挡层之间的聚合物基 体，其中各所述粘附接触表面与所述发光层接触， 其中所述第一阻挡层和所述第二阻挡层与所述发光层之间的剥离强度为至少100克/ 英寸。2. 根据权利要求1所述的装置，其中所述第一阻挡层和所述第二阻挡层与所述发光层 之间的剥离强度为至少200克/英寸。3. 根据权利要求1所述的装置，其中所述第一阻挡层和所述第二阻挡层各自还包括至 少一个无机氧化物层。4. 根据权利要求1所述的装置，其中所述第一阻挡层和所述第二阻挡层中的至少一个 阻挡层还包括选自柔性玻璃、金属箱、或聚合物膜的基材。5. 根据权利要求1所述的装置，其中所述发光层还包含至少一个量子点。6. 根据权利要求1所述的装置，其中所述聚合物基体包含可固化（甲基）丙烯酸酯、可 固化环氧树脂或它们的组合。7. 根据权利要求1所述的装置，其中所述发光层和各所述外部聚合物层在彼此接触时 进行固化。8. 根据权利要求1所述的装置，其中各所述外部聚合物层包含辐射固化的（甲基）丙 烯酸酯和任选地包含硅烷偶联剂。9. 根据权利要求1所述的装置，其中使用紫外（UV)光源、可见光源、热源或它们的组合 将所述发光层和各所述外部聚合物层固化在一起。10. -种装置，包括： 一种阻挡膜，所述阻挡膜包括： 基材，所述基材具有相对的第一主表面和第二主表面； 无机氧化物层，所述无机氧化物层与所述第二主表面相邻； 光滑聚合物层，所述光滑聚合物层在所述第二主表面和所述无机氧化物层之间； 外部聚合物层，所述外部聚合物层设置在所述无机氧化物层上、与所述光滑聚合物层 相对；和 粘合层，所述粘合层与所述外部聚合物层相邻设置， 其中所述阻挡膜和所述粘合层之间的剥离强度为至少100克/英寸。11. 根据权利要求10所述的装置，其中所述光滑聚合物层包含电子束固化的（甲基） 丙烯酸酯。12. 根据权利要求10所述的装置，其中所述粘合层包含辐射固化的（甲基）丙烯酸酯 和任选地包含硅烷偶联剂。13. 根据权利要求10所述的装置，其中所述外部聚合物层包含UV辐射固化的（甲基） 丙烯酸酯和任选地包含硅烷偶联剂。14. 根据权利要求10所述的装置，其中所述阻挡膜和所述粘合层之间的剥离强度为至 少200克/英寸。15. 根据权利要求10所述的装置，其中所述基材选自柔性玻璃、金属箱或聚合物膜。16. 根据权利要求10所述的装置，还包括第二阻挡膜，所述第二阻挡膜包括： 第二基材，所述第二基材具有相对的第三主表面和第四主表面； 第二无机氧化物层，所述第二无机氧化物层与所述第四主表面相邻； 第二光滑聚合物层，所述第二光滑聚合物层在所述第四主表面和所述第二无机氧化物 层之间；和 第二外部聚合物层，所述第二外部聚合物层设置在所述第二无机氧化物层上、与所述 第二光滑聚合物层相对， 其中所述粘合层与所述第二无机氧化物层相邻设置，并且与所述第二光滑聚合物层相 对。17. 根据权利要求16所述的装置，其中所述第二光滑聚合物层包含电子束固化的（甲 基）丙烯酸酯。18. 根据权利要求16所述的装置，其中所述第二外部聚合物层包含UV辐射固化的（甲 基）丙烯酸酯和任选地包含硅烷偶联剂。19. 根据权利要求16所述的装置，其中所述第二基材选自柔性玻璃、金属箱或聚合物 膜。20. 根据权利要求10所述的装置，其中所述粘合层包括发光层。21. 根据权利要求20所述的装置，其中所述发光层还包含至少一个量子点。22. 根据权利要求10所述的装置，其中所述粘合层包含热熔性粘合剂。23. 根据权利要求22所述的装置，其中所述热熔性粘合剂包含乙烯-乙酸乙烯酯。24. -种形成装置的方法，包括： 在真空室中形成阻挡膜，所述阻挡膜包括外部辐射可固化聚合物层； 至少部分固化所述外部辐射可固化聚合物层以在所述阻挡膜上形成粘附接触表面；以 及 在所述粘附接触表面上形成粘合层。25. 根据权利要求24所述的方法，其中在所述粘附接触表面上形成所述粘合层之前， 从所述真空室取出所述阻挡膜。26. 根据权利要求24所述的方法，其中所述粘合层是热熔粘合剂层，并且形成所述粘 合层包括将所述热熔性粘合剂层层压或涂布到所述粘附接触表面上。27. 根据权利要求24所述的方法，其中所述至少部分固化包括紫外（UV)辐射固化。28. 根据权利要求24所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层包含辐射可固化 (甲基）丙烯酸酯。29. 根据权利要求24所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层还包含硅烷偶联 剂。30. 根据权利要求24所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层还包含聚合抑制 剂。31. 根据权利要求30所述的方法，其中所述聚合抑制剂包括厌氧聚合抑制剂。32. 根据权利要求31所述的方法，其中所述厌氧聚合抑制剂选自二乙基羟胺、四甲基 苯二胺、水杨醛肟、四甲基苯二胺、乙酸锰、4-羟基TEMPO、NPAL或吩噻嗪、以及它们的组合。33. 根据权利要求24所述的方法，其中使用紫外（UV)光源、可见光源、热源或它们的组 合将所述粘合层和所述外部辐射可固化聚合物层进一步固化在一起。34. 根据权利要求24所述的方法，其中所述阻挡膜包括与所述外部辐射可固化聚合物 层相对的基材，所述基材选自柔性玻璃、金属箱或聚合物膜。35. -种形成装置的方法，包括： 在真空室中形成阻挡膜，所述阻挡膜包括外部辐射可固化聚合物层； 至少部分固化所述外部辐射可固化聚合物层以在所述阻挡膜上形成粘附接触表面； 将所述阻挡膜层压至包含可固化聚合物基体的粘合层，使得所述粘附接触表面与所述 粘合层接触；以及 固化所述层压体。36. 根据权利要求35所述的方法，其中在将所述阻挡膜层压至所述粘合层之前，将所 述阻挡膜从所述真空室取出。37. 根据权利要求35所述的方法，其中所述至少部分固化包括紫外（UV)辐射固化。38. 根据权利要求35所述的方法，其中固化所述层压体包括热固化、紫外（UV)辐射固 化、可见光辐射固化、电子束固化或它们的组合。39. 根据权利要求35所述的方法，其中所述粘合层包括相对的第一主表面和第二主表 面，并且将所述阻挡膜层压包括将所述阻挡膜层压至所述粘合层的各个所述第一主表面和 所述第二主表面。40. 根据权利要求35所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层包含辐射可固化 (甲基）丙烯酸酯。41. 根据权利要求35所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层还包含硅烷偶联 剂。42. 根据权利要求35所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层还包含聚合抑制 剂。43. 根据权利要求42所述的方法，其中所述聚合抑制剂包括厌氧聚合抑制剂。44. 根据权利要求43所述的方法，其中所述厌氧聚合抑制剂选自二乙基羟胺、四甲基 苯二胺、水杨醛肟、四甲基苯二胺、乙酸锰、4-羟基TEMPO、NPAL或吩噻嗪、以及它们的组合。45. 根据权利要求35所述的方法，其中使用紫外（UV)光源、可见光源、热源或它们的组 合将所述粘合层和所述外部辐射可固化聚合物层固化在一起。46. 根据权利要求35所述的方法，其中所述可固化聚合物基体包含（甲基）丙烯酸酯 单体和至少一个量子点。47. 根据权利要求35所述的方法，其中所述阻挡膜还包括至少一个无机氧化物层。48. 根据权利要求35所述的方法，其中至少部分固化包括使用UV辐射，所述UV辐射具 有在约254nm中心周围的波长谱，并且基本上不具有低于220nm波长的输出。49. 根据权利要求35所述的方法，其中至少部分固化包括暴露于强度低于约0. 5W/m2 的UV辐射达0. 1秒至1. 5秒。50. 根据权利要求35所述的方法，其中至少部分固化包括暴露于约0. 5W/m2的254nmUV 强度达约0. 1秒至约1. 5秒的持续时间。51. 根据权利要求35所述的方法，其中至少部分固化包括使用可见光辐射固化。52. 根据权利要求35所述的方法，其中所述阻挡膜包括与所述外部辐射可固化聚合物 层相对的基材，所述基材选自柔性玻璃、金属箱或聚合物膜。53. 一种显不器，包括： 根据权利要求1、权利要求10或权利要求16所述的装置； 设置用于照明所述装置的灯；和 设置在所述灯和所述装置之间的液晶显示面板。
【专利摘要】本公开涉及在粘合层和相邻阻挡层之间形成具有高抗剥离性的粘结。此类制品特别适用于制备装置，特别是发光装置，并且本公开描述了发光装置的组装方法。发光装置包括使用柔性透明阻挡膜和紫外(UV)辐射可固化(甲基)丙烯酸酯基体的封装系统。例如，湿气敏感的发光材料可以是设置在膜上的量子点材料，或是包括OLED结构的膜构造。
【IPC分类】H01L51/52, C08J7/04, H05B33/04
【公开号】CN105431477
【申请号】CN201480041676
【发明人】约瑟夫·M·彼佩尔, 埃里克·W·纳尔逊, 弗雷德·B·麦考密克, 卡里萨·L·埃克特, 亚当·M·内布拉斯卡
【申请人】3M创新有限公司
【公开日】2016年3月23日
【申请日】2014年7月22日
【公告号】EP3024883A1, US20160164031, WO2015013225A1