应用于硅酸盐垢的清洗剂及其制备方法
【专利摘要】本发明属于水处理领域，具体涉及一种应用于硅酸盐垢的清洗剂及其制备方法。由以下重量分数的原料组成：EDTA四钠1～10％，EDDHA?Na 10～30％，十二烷基二甲基苄基氯化铵0.1～0.5％，OEP?70耐碱渗透剂0.1～1％，余量为去离子水。本发明配方中不含剧毒物，对人体无害，特别适用于硅酸盐结垢比较严重的系统中，能有效清洗系统存在的硅酸盐垢问题，对硅酸盐垢的清除率在90％以上；对铜、碳钢、不锈钢等金属腐蚀速率低。本发明还提供其制备方法。
【专利说明】
应用于硅酸盐垢的清洗剂及其制备方法
技术领域
[0001] 本发明属于水处理领域，具体涉及一种应用于硅酸盐垢的清洗剂及其制备方法。
【背景技术】
[0002] 目前国内常用的硅酸盐清洗剂分两种:一种是碱性清洗剂，以浓的碱溶液为主;一 种是酸性清洗剂，以氢氟酸为主，辅以无机酸或有机酸。浓碱溶液在配置的过程中会释放大 量的热，而且挥发的热气对人体会造成很大的伤害，清洗过程的操作难度比较大;酸性清洗 剂中的氢氟酸为剧毒物质，对皮肤有强力的刺激性和腐蚀性。
【发明内容】
[0003] 针对现有技术的不足，本发明的目的是提供一种应用于硅酸盐垢的清洗剂，特别 适用于硅酸盐结垢比较严重的系统中，有效清洗系统存在的硅酸盐垢问题，同时对金属系 统的腐蚀速率比较低。
[0004] 本发明所述的应用于硅酸盐垢的清洗剂，由以下重量分数的原料组成:EDTA四钠 1 ~10%，EDDHA-Na 10~30%，十二烷基二甲基苄基氯化铵0.1~0.5%，0EP-70耐碱渗透剂 0.1~1%，余量为去离子水。
[0005] 优选地，所述的应用于硅酸盐垢的清洗剂，由以下重量分数的原料组成:EDTA四钠 5~10%，EDDHA-Nal5~25%，十二烷基二甲基苄基氯化铵0.1~0.5%，0EP-70耐碱渗透剂 0.1~1%，其余成分为去离子水。
[0006] 本产品配方成分具有明显的协同增效作用:EDTA四钠和EDDHA-Na对硅酸盐垢中的 钙镁离子具有很强的络合能力，EDTA四钠和EDDHA-Na协同作用，能促进硅酸钙、娃酸镁等难 溶垢的溶解，配合十二烷基二甲基苄基氯化铵和0EP-70具有优异的渗透、洗涤、润湿、去污 的作用，可明显增加清洗剂的清洗效果。
[0007] 本发明所述的应用于硅酸盐垢的清洗剂的制备方法，依次将EDDHA-Na、十二烷基 二甲基苄基氯化铵、0EP-70耐碱渗透剂、去离子水在常温下加入反应设备中，搅拌过程中再 加入EDTA四钠到反应设备中，搅拌均匀溶解后静置即得。
[0008] 与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：
[0009] (1)本发明配方中不含剧毒物，对人体无害，特别适用于硅酸盐结垢比较严重的系 统中，能有效清洗系统存在的硅酸盐垢问题，对硅酸盐垢的清除率在90%以上；
[0010] (2)清洗条件温和，在常温下即可进行；
[0011] (3)对铜、碳钢、不锈钢等金属腐蚀速率低。
【具体实施方式】
[0012] 下面结合实施例对本发明做进一步说明。
[0013] 实施例1
[0014] 依次将EDDHA-Na 30%、十二烷基二甲基苄基氯化铵0.1 %、0EP-70耐碱渗透剂 0.5 %，去离子水67.4%，在常温下加入反应设备中，搅拌过程中再加入EDTA四钠2%到反应 设备中，搅拌均匀溶解后静置即得。
[0015] 实施例2
[0016] 依次将EDDHA-Na 25%、十二烷基二甲基苄基氯化铵0.3%、0EP-70耐碱渗透剂 0.1 %，去离子水69.6 %，在常温下加入反应设备中，搅拌过程中再加入EDTA四钠5%到反应 设备中，搅拌均匀溶解后静置即得。
[0017] 实施例3
[0018] 依次将EDDHA-Na 15%、十二烷基二甲基苄基氯化铵0.5%、0EP-70耐碱渗透剂 1 %，去离子水73.5 %，在常温下加入反应设备中，搅拌过程中再加入EDTA四钠10 %到反应 设备中，搅拌均匀溶解后静置即得。
[0019] 将实施例1制备的产品用于清洗一台2T蒸汽锅炉，水垢厚度2mm，以硅酸盐垢为主， 以10%的清洗剂浓度，在常温下循环清洗24h后，根据GB/T 25148-2010中的重量法测得除 垢率为92%，符合GB/T 25146-2010《工业设备化学清洗质量验收规范》中的硅酸盐垢除垢 率大于85 %的标准。
[0020] 将上述三个实施例中的清洗剂按照旋转挂片法进行腐蚀试验，在25°C下进行6h， 清洗剂浓度为10 %，腐蚀速率结果见表1。
[0021] 表1腐蚀试验结果
[0023]由表1可以看出，清洗期间的腐蚀速率完全低于相应的国家质量标准:HG/T2387-2007《工业设备化学清洗质量标准》。
【主权项】
1. 一种应用于硅酸盐垢的清洗剂，其特征在于：由以下重量分数的原料组成:EDTA四钠 1~10 %，EDDHA-Na 10~30 %，十二烷基二甲基苄基氯化铵0.1~0.5%，0EP-70耐碱渗透剂 0.1~1%，余量为去离子水。2. 根据权利要求1所述的应用于硅酸盐垢的清洗剂，其特征在于：由以下重量分数的原 料组成= EDTA四钠5~10% ,EDDHA-Na 15~25%，十二烷基二甲基苄基氯化铵0.1~0.5%， 0EP-70耐碱渗透剂0.1~1 %，余量为去离子水。3. -种权利要求1或2所述的应用于硅酸盐垢的清洗剂的制备方法，其特征在于：依次 将EDDHA-Na、十二烷基二甲基苄基氯化铵、0EP-70耐碱渗透剂、去离子水在常温下加入反应 设备中，搅拌过程中再加入Η)ΤΑ四钠到反应设备中，搅拌均匀溶解后静置即得。
【文档编号】C11D1/835GK105950308SQ201610347951
【公开日】2016年9月21日
【申请日】2016年5月23日
【发明人】邱振华, 张祥彬
【申请人】山东英联化学科技有限公司