水溶性防锈晶体研磨液的制作方法

文档序号:3710952阅读:832来源:国知局
专利名称:水溶性防锈晶体研磨液的制作方法
技术领域
本发明涉及一种水溶性石英晶体研磨液,具体地说是一种用于压电石英晶体片精密研磨加工,也可用于光盘抛光加工的水溶性石英晶体研磨液。
压电石英晶体广泛用于航天、无线通讯、导航、彩电、计测等现代高新科技领域,近几年发展迅猛。由于加工精度极高,在加工过程出于对金刚砂悬浮、分散的特殊要求,因此多年来的研磨过程中一直沿用一种名叫“PC”油的特殊油品。该油由机械油、食用油、有机膨润土及表面活性剂加工制得,由于研磨过程中大量金刚砂的掺入,使用过后废油无法回收处理,造成严重的环境污染,更重要的是压电石英晶体作为电子元器件表面要求特别清洁,而“PC”油研磨后的表面带有大量油污,以及油污附着的金刚砂微粉,需要进行煤油、表面活性剂、清水三步洗涤。工艺复杂,产品合格率一般为95-96%。
本发明的目的在于提供一种新的水溶性石英晶体研磨液,这种水溶性石英晶体研磨液具有优秀的防锈性、悬浮性、分散性、润滑性、润湿性,可用于压电石英晶体片精密研磨加工,也可用于光盘抛光加工,应能彻底解决用“PC”油造成的环境污染,简化加工程序和成本,并可进一步提高加工产品的合格率。
本发明通过以下方案实现一种水溶性石英晶体研磨液,其组成(以重量计)如下A.酰胺类高效自润滑防锈剂80份;B.分散剂10-15份;C.水溶性润滑剂 5-10份;D.丙烯酸酯类增稠剂 1-2份。
将一述各组份按比例充分混合即得本发明的水溶性石英晶体研磨液。
用于本发明的酰胺类自润滑防锈剂(A)是由下述两种方法之一制得的方法一将甲酰胺、乙酰胺或者三聚氰胺与二乙胺、三乙胺或者异丙醇胺按1∶2-1∶4的摩尔比加入到反应瓶中,在氮气保护下于100-140℃,搅拌反应4-6小时,得到浅黄色粘稠的防锈剂(A)。用酸碱滴定法测定反应终点,在滴定曲线发生转折处即认为反应完毕。
方法二将甲酰胺、乙酰胺或者三聚氰胺与二乙胺、三乙胺或者异丙醇胺按1∶2-1∶4的摩尔比加入到反应瓶中,在氮气保护下于100-140℃,搅拌反应4-6小时,再加入酰胺或氰胺2-4倍摩尔数的硼酸或硼砂,继续反应1-2小时,得到浅黄色粘稠的防锈剂(A)。
用于本发明的分散剂(B)可以是市售的六偏磷酸钠、三聚磷酸钠或平平加系列匀染剂,也可以是其中几种的混合物。
用于本发明的润滑剂(C)可以是脂肪醇聚乙烯氧基酸式磷酸酯或烷基酚与环氧乙烷缩合物,蓖麻油与环氧乙烷的缩合物。
本发明的研磨液可用于压电石英晶体片精密研磨加工,也可用于光盘抛光加工。用本发明的研磨液替代“PC”油可彻底解决该油造成的环境污染,简化研磨后的清洗工艺,由三步洗将减化为一次清洗,不仅可以降低工艺成本,而且提高压电晶体片的产品质量,产品合格率一般可达98-99%以上。
以下结合具体的实施例对本发明的技术方案作进一步的说明
2.取三聚磷酸钠、平平加O-20共12g,溶于少量水中;3.取脂肪醇聚乙烯氧基酸式磷酸酯6g;4.取丙烯酸酯类增稠剂JF803(浙江富士特印染助剂厂生产)2g,溶于少量水中将上述已称取并溶解好的1,2,3,4组份混合充分搅拌,得到本发明所述的水溶性石英晶体研磨液。
3.取烷基酚与环氧乙烷缩合物10克4.取丙烯酸酯类增稠剂1克,溶于少量水中。
将上述各组份充分搅拌,混合均匀后即得本发明的水溶性石英晶体研磨液。
权利要求
1.一种水溶性石英晶体研磨液,其特征在于该研磨液主要由酰胺类高效自润滑防锈剂、分散剂、水溶性润滑剂、丙烯酸酯类增稠剂组成,其重量组成为A酰胺类高效自润滑防锈剂80份,B分散剂10-15份,C水溶性润滑剂 5-10份,D丙烯酸酯类增稠剂 1-2份。
2.根据权利要求1所述的水溶性石英晶体研磨液,其特征在于所述的酰胺类高效自润滑防锈剂是由下述方法制备将甲酰胺、乙酰胺或者三聚氰胺与二乙胺、三乙胺或者异丙醇胺按1∶2-1∶4的摩尔比加入到反应瓶中,在氮气保护下于100-140℃,搅拌反应4-6小时,得到浅黄色粘稠的防锈剂。
3.根据权利要求1所述的水溶性石英晶体研磨液,其特征在于所述的酰胺类高效自润滑防锈剂是由下述方法制备将甲酰胺、乙酰胺或者三聚氰胺与二乙胺、三乙胺或者异丙醇胺按1∶2-1∶4的摩尔比加入到反应瓶中,在氮气保护下于100-140℃,搅拌反应4-6小时,再加入所用酰胺或氰胺2-4倍摩尔数的硼酸或硼砂,继续反应1-2小时,得到浅黄色粘稠的防锈剂。
全文摘要
本发明公开了一种水溶性石英晶体研磨液,它是由酰胺类高效自润滑防锈剂、分散剂、水溶性润滑剂、丙烯酸酯类增稠剂等组成;这种研磨液具有优秀的防锈性、悬浮性、分散性、润滑性,润湿性可用于压电石英晶体片精密研磨加工,也可用于光盘抛光加工,应能彻底解决用“PC”油造成的环境污染,简化加工程序和成本,并可进一步提高加工产品的合格率。
文档编号C09K3/14GK1284530SQ00114700
公开日2001年2月21日 申请日期2000年7月14日 优先权日2000年7月14日
发明者魏振华, 周国英 申请人:湖北省化学研究所
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