用于硬涂层的组合物、表面保护膜、以及光盘的制作方法

文档序号:3801413阅读:209来源:国知局
专利名称:用于硬涂层的组合物、表面保护膜、以及光盘的制作方法
技术领域
本发明涉及一种用于硬涂层的组合物、表面保护膜、以及光盘,它可以改善流平性(leveling)。
背景技术
最近几年,提出一种含有在基底上彼此互相层积的反射膜或记录层、和透光层的高密度光盘。光盘中的透光层是通过使保护膜例如聚碳酸酯膜(后文称作“PC膜”)层积在反射膜或记录层上而形成的。信息讯号在光盘上的记录/复制是通过借助于具有高NA的物镜使激光会聚,然后利用该来自透光层侧的会聚激光辐射发射膜或记录层。
在上述光盘中,就增强记录密度和减少透光层厚度而言,重要的是减少光盘制造和使用过程中带来的表面缺陷。因此,提出一种在透光层上形成硬涂层以赋子光盘耐污染性或耐擦伤性的方法(参见例如专利文献1)。
另外,在上述光盘中,提高耐擦伤性显得尤其重要,因此为了提高薄膜的硬度,提出一种利用其中分散有高含量的无机微粒(例如二氧化硅微粒)的硬涂层剂形成硬涂层的方法。为了进一步提高硬涂层的硬度,提出一种使用高分子量聚合物作为基础树脂成分以增强硬涂层在固化时的交联密度的方法。
是指未审日本专利申请公开说明书平成10-110118。

发明内容
然而,在无机微粒含量升高或使用高分子量聚合物的情形中,涂层组合物的粘度也不利地增加。粘度增加的硬涂层剂在流平性方面较差,当将这样一种硬涂层剂涂布到保护膜例如PC膜上时,会出现问题,即在保护膜表面上细小缺陷所带来的影响将会更加显著。
为了解决该问题,提出一种使用非溶剂型硬涂层剂降低涂层组合物粘度的方法,所述非溶剂型硬涂层剂使用低分子量的活性单体而不使用溶剂。然而,这种方法所存在的问题在于,很难提高组合物中无机微粒的含量,并且其交联密度与在交联聚合物的方法中所获得的交联密度相比更低,因此这种薄膜的物理特性不好。
因此,本发明的任务在于提供一种用于硬涂层的组合物、表面保护膜、以及光盘,它可以改善流平性而同时不会以牺牲薄膜的物理特性为代价。
为了解决上述问题,第一发明涉及一种硬涂层用组合物,它通过向溶剂型硬涂层剂中加入低分子量的活性稀释剂得到。
第二发明涉及一种含有硬涂层的表面保护膜,所述硬涂层通过向溶剂型硬涂层剂中加入低分子量的活性稀释剂,然后将所得到的组合物进行涂布并固化而得到。
第三发明涉及一种光盘,它包括在基底一主表面上形成的信息讯号部分;在信息讯号部分上形成的保护层;以及在选自保护层和基底中的至少一个表面上形成的表面保护膜,其中该表面保护膜含有硬涂层,所述硬涂层通过向溶剂型硬涂层剂中加入低分子量的活性稀释剂,然后将所得到的组合物进行涂布并固化而得到。
在本发明中,向溶剂型硬涂层剂中加入低分子量的活性稀释剂,然后将所得到的组合物进行涂布并固化,因而这样可以形成具有极好的流平性的硬涂层而不会降低其物理特性,例如摩擦系数和水接触角。
如上所述,通过本发明可以形成具有极好的流平性的硬涂层而不会降低其物理特性,例如摩擦系数和水接触角。因而可以提供高质量的硬涂层。
附图简述

图1为显示根据本发明第一实施方案的光盘的构造实例的剖示图。
图2A-D为说明用于制造根据本发明第一实施方案光盘的方法实例的剖示图。
图3为显示根据本发明第二实施方案的光盘的构造实例的剖示图。
图4A-C为说明用于制造根据本发明第二实施方案光盘的方法实例的剖示图。
图5为显示实施例1的光盘的SER特性的图表。
图6为显示实施例2的光盘的SER特性的图表。
图7为显示实施例3的光盘的SER特性的图表。
图8为显示实施例4的光盘的SER特性的图表。
图9为显示比较例1的光盘的SER特性的图表。
图10为显示实施例5的光盘的SER特性的图表。
图11为显示比较例2的光盘的SER特性的图表。
图12为显示关于实施例6和比较例2和3的光盘1的水接触角的评价结果的图表。
图13为显示关于实施例6和比较例2和3的光盘1的摩擦系数的评价结果的图表。
图14为显示关于实施例7-9和比较例4-12的光盘1的水接触角的测量结果的图表。
图15为显示关于实施例7-9和比较例4-12的光盘1的摩擦系数的测量结果的图表。
具体实施例方式
在下文中将参照附图对本发明的实施方案进行描述。在所有与以下实施方案相关的附图中,相似的零件或部分通过相同的标引数字给出。
图1为显示根据本发明第一实施方案的光盘1的构造实例的剖示图。如图1所示,光盘1具有这样的构造,其中信息讯号部分3、具有光透性的作为保护层的透光层4、以及作为表面保护膜的硬涂层21在基底2的一主表面上彼此层叠。在根据第一实施方案的光盘1中,信息讯号的记录和/或复制是通过利用来自透光层4侧的激光辐射信息讯号部分3进行的。信息讯号的记录和/或复制是通过借助于数值孔径为0.84-0.86的镜片(optic)会聚波长为例如400nm至410nm的激光,然后利用该来自透光层4侧的会聚激光辐射信息讯号部分3进行的。作为光盘1的实例,可以提及的是Blu-射线光盘。
基底2具有环形形状,其在中心含有一中心孔(未示出)。在其上形成信息讯号部分3的基底2的一主表面中形成作为预凹槽的预压花图案以引导光点用于记录和/或复制信息。通过利用该预凹槽作为引导,激光可以移动至光盘1上的任意位置。预凹槽形状的实例包括各种形状,例如螺旋形、同心圆形、和凹行。基底2的直径选为例如120mm。从达到硬度的角度考虑,基底2的厚度优选为0.3-1.3mm,更优选为0.6mm至1.3mm,例如选为1.1mm。
作为基底2的材料,可以使用塑性材料例如聚碳酸酯树脂、聚烯烃树脂、或丙烯酸树脂、或者玻璃。从降低成本的角度考虑,优选使用塑性材料作为用于基底2的材料。
信息讯号部分3具有取决于光盘1类型的适当结构。具体地说,如果光盘1为只读光盘时,信息讯号部分3为反射膜。用于反射膜的材料实例包括金属元素、半金属元素、以及它们的化合物和混合物,更具体地说,单质例如Al、Ag、Au、Ni、Cr、Ti、Pd、Co、Si、Ta、W、Mo、和Ge,以及具有上述单质作为其主要成分的合金。其中,从实用角度考虑,优选使用Al、Ag、Au、Si、或Ge材料。另一方面,如果光盘1为一次性写入可多次读取或者可重写光盘时,信息讯号部分3为记录层。一次性写入可多次读取的记录层的实例包括含有在基底2上反射膜和有机染料彼此层叠的记录层。可重写记录层的实例包括含有在基底2上反射膜、下绝缘层、相变记录层、以及上绝缘层彼此层叠的记录层。
透光层4包括具有平面环形形状的透光片(膜)12、以及使透光片12与其上形成有信息讯号部分3的基底2相结合的结合层11。结合层11由例如紫外线可固化树脂或压敏性粘合剂(PSA)组成。考虑到使用红色激光至蓝色激光,透光层4的厚度优选为10μm至177μm。
考虑到用于记录和/或复制的激光,优选透光片12由具有低吸收能力的材料组成,具体地说,透光片12优选由透光度为90%和更高的材料组成。用于透光片12的材料的实例包括聚碳酸酯树脂材料和聚烯烃树脂(例如ZEONEX(注册商标,由Zeon公司制造))。
透光片12的厚度优选为0.3mm或更小,更优选为3μm至177μm。例如,选择透光片12的厚度,以便透光片12和结合层11的总厚度为例如100μm。同时使用具有如此之薄的厚度的透光层4和NA高达大约0.85的物镜可以实现高密度记录。
通过向溶剂型硬涂层剂中加入低分子量的活性稀释剂,然后将所得到的组合物涂布至透光层4上并固化,这样得到硬涂层21。活性稀释剂为可聚合单体,功能基团为取决于聚合作用类型的适当基团。通常,分子量越低,粘度就越小,但是问题在于未反应的单体残留在薄膜中或者体积收缩相对较大,因此,如果物理特性特别重要的话,优选使用分子量稍微高一些即分子量处于低聚区域(大分子单体)的单体。
活性稀释剂包括例如单体、低聚物、聚合物、溶剂、光引发剂、和添加剂。单体的实例包括丙烯酸酯类单体、甲基丙烯酸酯类单体、苯乙烯单体、和乙烯基单体。低聚物的实例包括丙烯酸酯类低聚物。溶剂的实例包括2-甲氧基丙醇。
聚合引发剂的实例包括酮、二苯乙醇酮、和噻噁烷光引发剂。酮引发剂的实例包括苯乙酮和苯甲酮。二苯乙醇酮引发剂的实例包括二苯乙醇酮和二苯乙醇酮甲基醚。噻噁烷引发剂的实例包括噻噁烷和2-甲基噻噁烷。
对于丙烯酸酯类单体的实例,可以提及下述类型。在侧链上无功能基团的丙烯酸酯类单体包括丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸苯甲酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸十六烷基酯、丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸正十八烷基酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙氧基二甘醇丙烯酸酯、己内酯改性的四氢糠基丙烯酸酯、新戊二醇己内酯改性的羟基特戊酸酯二丙烯酸酯、以及四氢糠基丙烯酸酯。
每一分子中具有多个双键的丙烯酸酯类单体的实例包括乙二醇二丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷EO-改性的三丙烯酸酯、五赤藻糖醇三丙烯酸酯、新戊二醇羟基特戊酸酯二丙烯酸酯、1,9-壬二醇丙烯酸酯、双五赤藻糖醇五丙烯酸酯、双五赤藻糖醇六丙烯酸酯、丙烯酸改性的双五赤藻糖醇丙烯酸酯、EO-改性的双酚A二丙烯酸酯、ε-己内酯-改性的双五赤藻糖醇丙烯酸酯、以及(2-{1,1-二甲基-2-[(1-氧代-2-丙烯基)氧基]乙基}-5-乙基-1,3-二噁烷-5-基)甲基2-丙烯酸酯。
在侧链上具有羟基基团的丙烯酸酯类单体的实例包括2-羟乙基丙烯酸酯、2-羟丙基丙烯酸酯、和4-羟丁基丙烯酸酯。
在侧链上具有酸性基团的丙烯酸酯类单体的实例包括邻苯二甲酸酐和2-羟丙基丙烯酸酯的加成产物。
在侧链上具有碱性基团的丙烯酸酯类单体的实例包括2-二甲基氨乙基丙烯酸酯和2-二乙基氨乙基丙烯酸酯。
在侧链上具有环氧基团的丙烯酸酯类单体的实例包括缩水甘油基丙烯酸酯。
在侧链上具有离子基团的丙烯酸酯类单体的实例包括N,N,N-三甲基-N-(2-羟基-3-丙烯酰氧基丙基)氯化铵。
丙烯酸酯类单体并不仅仅限于上述实例,还可以使用例如N,N-二甲基丙烯酰胺、丙烯腈、丙烯酰胺、二甲氨基丙基甲基丙烯酰胺、乙酰丙酮丙烯酰胺、N,N-二甲氨基丙基丙烯酰胺、或者N,N-二甲基丙烯酰胺。
对于甲基丙烯酸酯类单体,可以使用例如通过用甲基丙烯酸基团替代上述丙烯酸酯类单体中的丙烯酸基团得到的单体。
对于苯乙烯单体,可以使用例如苯乙烯、二乙烯基苯、对叔丁氧基苯乙烯、对乙酰氧基苯乙烯、对(1-乙氧基)苯乙烯、2-叔丁氧基-6-乙烯基萘、对氯苯乙烯、或对苯乙烯磺酸钠。
此外,还可以使用醋酸乙烯酯、氯乙烯、4-羟丁基乙烯醚、二甘醇单乙烯醚、或N-乙烯基-2-吡咯烷酮。
溶剂型硬涂层剂的实例包括自由基聚合类型的紫外线可固化树脂、含有涂覆有机物质以提高硬度的硅胶的紫外线可固化树脂、以及具有改善了的抗静电特性的紫外线可固化树脂。
紫外线可固化树脂可以包括例如单官能化或多官能化单体、聚合反应引发剂、以及添加剂。单体的实例包括丙烯酸酯类单体,丙烯酸酯类单体的实例包括在前面提及到的与活性稀释剂有关的单体。聚合反应引发剂的实例包括在前面提及到的与活性稀释剂有关的引发剂。
接下来将对制造根据本发明第一实施方案的光盘1的方法实例进行描述。图2为说明用于制造根据本发明第一实施方案的光盘1的方法实例的剖示图。
首先,如图2A所示,通过例如注射成型法形成主表面粗糙的基底2。然后,如图2B所示,通过例如溅射法在基底2的预压花图案上形成信息讯号部分3。
然后,将具有平面环形形状的透光片12通过结合层11结合在基底2的形成信息讯号部分3的侧面上。这样,如图2C所示,形成了透光层4以便覆盖了形成在基底2上的信息讯号部分3。
接下来,向溶剂型硬涂层剂中加入低分子量的活性稀释剂得到硬涂层用组合物。优选活性稀释剂在组合物中的含量为10重量%至30重量%。如果其含量低于10重量%,可能会劣化SER(讯号出错率)特性,而如果其含量高于30重量%,硬涂层21的表面就可能凹凸不平,从而增大跟踪误差。
然后,如图2D所示,将该硬涂层用组合物涂布在透光层4上并固化形成硬涂层21。涂布该硬涂层用组合物的方法实例包括旋转涂布法、照相凹板涂布法、和喷射涂布法,而从形成高度均匀的硬涂层21的角度考虑,优选旋转涂布法。对于固化该硬涂层用组合物的方法实例可提及紫外线固化方法。
在本发明第一实施方案中可以获得下述效果。
向溶剂型硬涂层剂中加入低分子量的活性稀释剂得到硬涂层用组合物,然后将该硬涂层用组合物涂布在透光层4上并固化形成硬涂层21。因而这样可以在透光层4上形成具有极好的流平性的硬涂层21而不会降低该薄膜的物理特性,例如摩擦系数和水接触角。从而可以降低跟踪误差。进一步还可以提高SER特性。
接下来将对本发明的第二实施方案进行描述。在第一实施方案中,给出了其中在光盘1的讯号表面上形成硬涂层21的实例,而在第二实施方案中,描述了其中在讯号表面上形成硬涂层、偶联剂层、和防污层的实例。
图3为显示根据本发明第二实施方案的光盘1的构造实例的剖示图。如图3所示,光盘1具有这样的构造,其中信息讯号部分3、透光层4、和表面保护膜5在基底2的一主表面上彼此层叠。表面保护膜5含有硬涂层21、偶联剂层22、和防污层23,它们在透光层4上彼此层叠。
偶联剂层22包括一种化合物,其中每一分子具有不同反应活性的两种类型的官能基团,如下述通式(1)所示X-Ra-Si(ORb)3…(1)其中X代表活性端基(例如乙烯基、环氧基、氨基、甲基丙烯酸酯类基、巯基、或异氰酸酯基),Ra代表亚烷基,Rb代表烷基。
具体地说,构成偶联剂层22的材料实例包括硅烷、钛酸酯、铝、和锆-铝偶联剂、以及这些偶联剂可单独使用或联合使用,并且可根据经验进行选择,但是尤其优选的是使用硅烷偶联剂。其中,优选其中末端上的烷氧基是乙氧基的硅烷偶联剂。偶联剂在其分子中同时具有两种反应活性基团,一种反应活性基团(例如丙烯酸基、氨基、或环氧基)具有与由例如包括丙烯酸树脂的硬涂层21的表面组分相结合的特性,一种反应活性基团(例如甲氧基或乙氧基)具有与组成防污层23的防污剂组分相结合的特性,并且可以对硬涂层21和防污层23(偶联)之间的结合程度进行调节以改善它们之间的亲和性。
偶联剂的具体实例如下所示。硅烷偶联剂的实例包括丙烯酸硅烷偶联剂,例如γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、以及γ-丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷。
氨基硅烷偶联剂的实例包括γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷、N-苯基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(苯甲基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-甲基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N,N,N-三甲基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N,N,N-三丁基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-β(氨基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-ω(氨基己基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、以及N[N’-β(氨基乙基)]-β(氨基乙基)γ-氨基丙基三甲氧基硅烷。
环氧基硅烷偶联剂的实例包括β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、和γ-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷。
钛酸酯偶联剂的实例包括异丙基三异十八烷酰基钛酸酯、异丙基三十二烷基苯磺酰基钛酸酯、异丙基三(二辛基焦磷酸酯)钛酸酯、四辛基双(二十三烷基亚磷酸酯)钛酸酯、四异丙基双(二辛基亚磷酸酯)、四(2,2-二烯丙氧基甲基-1-丁基)双(二-十三烷基)亚磷酸酯钛酸酯、双(二辛基焦磷酸酯)氧基乙酸酯钛酸酯、双(二辛基焦磷酸酯)乙烯基钛酸酯、异丙基三辛酰基钛酸酯、异丙基二甲基丙烯酰基异十八烷酰基钛酸酯、异丙基异十八烷酰基二丙烯酰基钛酸酯、异丙基三(二辛基磷酸酯)钛酸酯、异丙基三枯基苯基钛酸酯、异丙基三(N-氨基乙基-氨基乙基)钛酸酯、二枯基苯氧基乙酸酯钛酸酯、以及二异十八烷酰基乙烯基钛酸酯。
偶联剂层22的厚度优选为0.1nm至100μm,进一步优选为0.1nm至1μm。如果厚度小于0.1nm,偶联剂层就不能调节硬涂层和氟防污层之间的结合程度从而改善它们之间的亲和性。如果厚度大于100μm,偶联剂层中就可能出现裂缝。
防污层23包括氟树脂。该氟树脂为具有全氟多醚基团或氟代烷基的烷氧基硅烷化合物。
具有全氟多醚基团和氟代烷基的烷氧基硅烷化合物具有低的表面能,因而具有极好的防污和防水效果,另外由于含有全氟多醚基团因而还具有润滑效果。
防污层23含有例如具有全氟多醚基团的如下述通式(2)或(3)所示的烷氧基硅烷化合物、或者含有具有氟代烷基的如下述通式(4)或(5)所示的烷氧基硅烷化合物。
(R3O)3Si-R2-R1CO-Rf-COR1-R2-Si(OR3)3…(2)其中Rf代表全氟多醚基团,R1代表二价原子或基团(例如O、NH、和S中的任意一个),R2代表亚烷基,R3代表烷基。
RfCOR1-R2-Si(CR3)3…(3)其中Rf代表全氟多醚基团,R1代表O、NH、和S中的任意一个,R2代表亚烷基,以及R3代表烷基。
Rf’-R1-R2-Si(OR3)3…(4)其中Rf’代表氟代烷基,R1代表二价原子或原子团,R2代表亚烷基,以及R3代表烷基。
Rf’-R1-Si-(OR2)3…(5)其中Rf’代表氟代烷基,R1代表含有少于7个碳原子的烷基,以及R2代表烷基。
对于通式(2)中Rf所代表的全氟多醚基团的分子结构没有特殊限制,包括具有各种链长度的全氟多醚基团,但是优选为具有下述分子结构的全氟多醚基团。
-CF2-(OC2F4)p-(OCF2)q-OCF2-…(6)在通式(6)所示的全氟多醚基团中,优选每个p和q为1-50。
对于具有一个通式(6)所示的全氟多醚基团的烷氧基硅烷化合物的分子量没有特殊限制,但是从为了获得极好的稳定性和加工特性的角度考虑,优选使用数均分子量为400-10,000、更优选为500-4,000的烷氧基硅烷化合物。
在具有一个通式(6)所示的全氟多醚基团的烷氧基硅烷化合物中,R1代表二价原子或基团,它是一个连接R2和全氟多醚基团的基团,这里对其没有特殊限制,但是从合成的角度考虑,优选R1是除碳之外的原子或者原子团,例如O、NH、或S。R2是烃基,且优选具有2-10个碳原子。R2的实例包括亚烷基,例如亚甲基、亚乙基、和亚丙基、以及亚苯基。
在具有一个通式(6)所示的全氟多醚基团的烷氧基硅烷化合物中,R3是一个构成烷氧基的烷基,通常具有3个或更少的碳原子,具体地说,例如异丙基、丙基、乙基、或甲基,但是也可以具有多于3个的碳原子。
在防污层23中,对于通式(3)中Rf所代表的全氟多醚基团的分子结构没有特殊限制,包括具有各种链长度的全氟多醚基团,但是优选为具有下述分子结构的全氟多醚基团。
Rf是一个通过用氟原子替代烷基中的氢原子而得到的基团,Rf的实例包括由下述化学式(7)-(9)所示的基团。烷基中的所有氢原子并不是都要求被氟原子替代,可以部分含有氢。
F(CF2CF2CF2)n-…(7)其中n是1或更大的整数。
CF3(OCF(CF3)CF2)m(OCF2)l-…(8)
其中每个l和m是1或更大的整数。
F-(CF(CF3)CF2)k- …(9)其中k是1或更大的整数。
在化合物(8)中,优选m/l为0.5-2.0。
对于具有一个全氟多醚基团的烷氧基硅烷化合物的分子量没有特殊限制,但是从为了获得极好的稳定性和加工特性的角度考虑,优选使用数均分子量为400-10,000、更优选为500-4,000的烷氧基硅烷化合物。
对于Rf’所代表的氟代烷基的分子结构没有特殊限制,其实例包括通过用氟原子替代烷基中的氢原子而得到的基团,包括具有各种链长度和各种氟替代程度的氟代烷基,但是优选具有下述分子结构的氟代烷基。
F(CF2)s(CH2)t…(10)-(CH2)t(CF2)s(CH2)t-…(11)其中s是6-12的整数,t是20或更小的整数。
对于包括上述化合物的防污层23的厚度没有特殊限制,但是,考虑到为了在防水性、耐污染性、和涂布特性以及高的表面硬度方面达到极好的平衡,优选厚度为0.5nm至100nm。
对于含有一个全氟多醚基团的防污剂,可以使用本领域技术人员已知的材料。这样的材料实例包括在末端具有极性基团的全氟多醚基团(参见未审日本专利申请公开说明书平成9-127307)、含有一种具有一个特殊结构的全氟多醚基团的烷氧基硅烷化合物的防污薄膜形成组合物(参见未审日本专利申请公开说明书平成9-255919)、以及通过混合具有全氟多醚基团的烷氧基硅烷化合物和另一种材料得到表面改性剂(参见未审日本专利申请公开说明书平成9-326240、平成10-26701、平成10-120442、和平成10-148701)。
通常,通过向基底材料表面涂布有机氟化合物,可以降低基底材料的表面能。然而,仅仅涂布该有机氟化合物并不能获得令人满意的效果。换句话说,需要一种在极性基团和疏水基团之间具有良好平衡且其分子具有定向性的有机化合物。化合物对基底材料的亲和性并不是很容易了解。
除了上述构造之外,光盘1的构造与第一实施方案的光盘构造相似,因而在此略去其有关描述。
接下来将对制造根据本发明第二实施方案的光盘1的方法实例进行描述。图4为说明用于制造根据本发明第二实施方案的光盘1的方法实例的剖示图。从第一步到形成硬涂层21的步骤与第一实施方案中相应的步骤相似,因此在此参照附图略去其有关描述。
然后,如图4A所示,将其上形成有硬涂层21的基底2置于氧等离子灰化器(asher)中,将氧等离子灰化器抽空,硬涂层21经氧等离子处理预订的时间,例如15-60秒钟。如果硬涂层21含有二氧化硅微粒,通过氧等离子处理蚀刻硬涂层21中的有机组分,从而使这些二氧化硅微粒呈现出来。这里示出了其中氧等离子处理是在减压下通过减压等离子系统进行的实例,但是氧等离子处理也可以在大气压下通过大气压等离子系统进行。
接下来,如图4B所示,在硬涂层21上形成偶联剂层22。用于形成该偶联剂层22的方法实例包括将硬涂层21曝露在偶联剂的蒸汽中的方法、将偶联剂用溶剂稀释并涂布到硬涂层21上的方法、以及将偶联剂的储备溶液涂布到硬涂层21上的方法,优选的是将硬涂层21曝露在偶联剂的蒸汽中的方法。在将偶联剂用溶剂稀释并涂布到硬涂层21上的方法以及将偶联剂的储备溶液涂布到硬涂层21上的方法中,所出现的问题在于由溶剂带来的杂质被混入硬涂层中、由于与溶剂中所含的水发生反应导致偶联剂变质、以及偶联剂变质(转化为低聚物)并被涂布到硬涂层21上降低了表面的均匀程度。
用于形成偶联剂层22的方法并不仅仅限于上述实例。其它实例包括将硬涂层21的表面用偶联剂溶液摩擦的方法、将硬涂层21的表面用偶联剂溶液喷雾的方法、以及将硬涂层21浸渍于偶联剂溶液中的方法。将硬涂层21的表面用偶联剂溶液摩擦的方法实例包括在偶联剂存在下对硬涂层21的表面施用物理机械力的方法,具体地说,就是将硬涂层21的表面用浸有偶联剂溶液的布进行摩擦(或擦拭)的方法、将硬涂层21的表面在偶联剂溶液中进行摩擦的方法、以及将其上含有偶联剂溶液的硬涂层21的表面进行摩擦的方法。
如果将偶联剂以溶于某溶剂中的溶液形式使用的话,这样的溶剂实例包括醇溶剂例如甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、2-甲氧基丙醇、丁基溶纤剂、以及它们的混合溶剂;酮溶剂例如丙酮、MEK、2-戊酮、3-戊酮;以及芳香烃溶剂例如甲苯和二甲苯。这些溶剂可以单独使用也可以联合使用,还可以与水混合使用。特别优选的是丁基溶纤剂。
接下来,如图4C所示,在偶联剂层22上形成防污层23。对于用于形成防污层23的方法实例,可以提及下面这样的方法用溶剂稀释含有具有一种全氟多醚基团且如式(1)或(2)所示的烷氧基硅烷化合物、或者含有一种具有氟代烷基且如式(3)或(4)所示的烷氧基硅烷化合物的防污剂,然后将所得到的溶液涂布到偶联剂层22上并干燥,随后固化。涂布防污剂的方法实例包括利用照相凹版涂布机的涂布方法、浸渍法、喷雾涂布法、旋转涂布法、摩擦涂布法、以及真空法。
对于用来稀释烷氧基硅烷化合物的溶剂没有特殊限制,但是所用溶剂是根据组合物的稳定性、待涂布的最上表面层的可湿性、以及溶剂的挥发性来进行选择的,例如可以使用氟化烃溶剂。氟化烃溶剂是通过用氟原子替代烃溶剂中的部分或全部氢原子后,例如脂族烃、环烃、或醚,得到的化合物。其实例包括ZEORORA-HXE(商标)(沸点78℃)、由Zeon公司制造和销售;全氟庚烷(沸点80℃);全氟辛烷(沸点102℃);氢氟多醚例如H-GALDEN-ZV75(沸点75℃)、H-GALDEN-ZV85(沸点85℃)、H-GALDEN-ZV100(沸点95℃)、H-GALDEN-C(沸点130℃)、H-GALDEN-D(沸点178℃);以及全氟多醚例如SV-110(沸点110℃)和SV-135(沸点135℃)、商标、由Ausimont,Inc.制造和销售;以及全氟烷烃例如FC系列、由Sumitomo 3MLtd.制造和销售。
在这些氟化烃溶剂中,对于用于溶解通式(1)、(2)、或(3)的氟化合物的溶剂,为了得到具有均匀厚度而没有凹凸的有机薄膜,选择沸点为70℃至240℃的溶剂,此外,还可以选自氢氟多醚(HFPE)或氢氟化碳(HFC),优选将其单独或联合使用。如果溶剂沸点太低,例如涂层就容易凹凸不平。另一方面,如果沸点太高,薄膜就可能不能被完全干燥,这样一来薄膜的形状就不好。此外,HFPE或HFC对于通式(1)、(2)、或(3)所示的化合物还具有极好的溶解性,因而可以获得极好的涂布表面。
在本发明第二实施方案中可以获得下述效果。
向溶剂型硬涂层剂中加入低分子量的活性稀释剂得到硬涂层用组合物,然后将该硬涂层用组合物涂布在透光层4上并固化形成硬涂层21,在硬涂层21上形成偶联剂层22,再在偶联剂层22上形成防污层23。因此,不仅可以在透光层4上形成具有极好的流平性的硬涂层21而不降低该薄膜的物理特性例如摩擦系数和水接触角,而且还可以在透光层4上形成同时具有极好的耐污染性和极好的机械强度的表面保护膜5。
此外,如果将硬涂层21经氧等离子体处理后曝露在偶联剂的蒸汽中,从而在硬涂层21上形成偶联剂层22,然后将防污剂涂布到偶联剂层22上并固化形成防污层23,这样不仅可以通过等离子体处理而提高硬涂层通过偶联剂的可湿性,而且还可以通过偶联剂层22加固通过等离子体处理蚀刻的硬涂层21的表面。从而可以在透光层4上形成同时具有极好的耐污染性和极好的机械强度的表面保护膜5。
在下文中,参照下面的实施例将对本发明进行更具体的描述,这些实施例不应该被理解为对本发明范围构成限制。
首先,通过改变向溶剂型硬涂层剂中加入的活性稀释剂的数量对流平性进行检测。
<实施例1>
首先,将活性稀释剂按照5重量%的用量加入至溶剂型硬涂层剂中,以获得一种用于硬涂层的组合物。对于溶剂型硬涂层剂,使用含有丙烯酸酯类单体、聚合反应引发剂、和添加剂的硬涂层剂。对于活性稀释剂,使用含有丙烯酸酯类单体、丙烯酸酯类低聚物、聚合物、2-甲氧基丙醇、光引发剂、以及添加剂的活性稀释剂。
然后,将前面所得到的硬涂层组合物通过旋转涂布法均匀地涂布到透光层4上,其间无中断。在旋转涂布过程中,旋转数为5,000rpm,旋转时间为3秒钟。接下来,通过紫外光辐射使该均匀涂布后的硬涂层组合物固化得到硬涂层21。
<实施例2>
除了活性稀释剂的含量变为10重量%之外,按照与实施例1基本相同的方法得到光盘1。
<实施例3>
除了活性稀释剂的含量变为20重量%之外,按照与实施例1基本相同的方法得到光盘1。
<实施例4>
除了活性稀释剂的含量变为30重量%之外,按照与实施例1基本相同的方法得到光盘1。
<实施例5>
除了活性稀释剂的含量变为40重量%之外,按照与实施例1基本相同的方法得到光盘1。
<比较例1>
除了使用只含溶剂型硬涂层剂的硬涂层用组合物之外,按照与实施例1基本相同的方法得到光盘1。
然后,对实施例1-5以及比较例1中的各光盘1进行下列评价。
(a)硬涂层的表面粗糙度评价在光学显微镜下观察硬涂层21的表面。
(b)跟踪误差评价使用Blu-射线盘用驱动器,在r=23mm处测量跟踪误差。跟踪误差标准为9nm。
(c)SER(讯号出错率)评价使用Blu-射线盘用驱动器测量SER。
测量区域r=24mm至58mm处的整个表面;100RUB(记录单元区)记录-复制/2900RUB略过(也就是说测量了整个数据区域的1/30)。
对实施例1-5以及比较例1的硬涂层表面粗糙度、跟踪误差、和SER的评价结果如表1所示。在含有硬涂层表面粗糙度的评价结果的纵列中,用语“极好”、“良好”、和“差”具有下述含义。
极好在硬涂层21上没有发现不均匀表面。
良好在涂布表面的边缘部分观察到轻微粗糙的表面,但这对SER特性没有不利影响。
差在硬涂层21上观察到不均匀表面。


根据表1得出下述结论。具体地说,发现如果活性稀释剂含量少于10重量%的话,SER就会变差,而如果活性稀释剂含量高于30重量%的话,在硬涂层21上会带来不均匀表面导致跟踪误差增大。因此,优选活性稀释剂含量为10重量%至30重量%。
图5-9分别示出了实施例1-4以及比较例1的光盘1的SER特性评价结果。在图5-9中,SER为纵坐标,RUB为横坐标。在实施例5中,由于硬涂层21具有不均匀表面不能进行跟踪,因此未能测出SER。
根据图5-9得出下述结论。具体地说,发现如果活性稀释剂含量至多20重量%的话,SER特性就会随着活性稀释剂含量增加而提高,而如果活性稀释剂含量超过20重量%的话,SER特性就会降低。
接下来,对硬涂层21的水接触角和摩擦系数进行测量和评价。
<实施例6>
首先,基于溶剂型硬涂层剂的固体,加入20重量%的活性稀释剂,得到固含量为64.3重量%的硬涂层用组合物。所用的溶剂型硬涂层剂和活性稀释剂与实施例1中使用的相同。
然后,将前面所得到的硬涂层组合物通过旋转涂布法均匀地涂布到基底上,其间无中断。在旋转涂布过程中,旋转数为5,000rpm,旋转时间为5秒钟。接下来,通过紫外光辐射使该均匀涂布后的硬涂层组合物固化得到硬涂层21。
<比较例2>
除了使用只含溶剂型硬涂层剂的硬涂层用组合物之外,按照与实施例6基本相同的方法得到光盘1。
<比较例3>
除了使用只含活性稀释剂的硬涂层用组合物之外,按照与实施例6基本相同的方法得到光盘1。
首先,对实施例6和比较例2的SER特性进行评价。图10和11分别示出了实施例6和比较例2的SER特性。根据图10和11得出下述结论。具体地说,在比较例2中发现很多干扰峰,而在实施例6中几乎没有干扰峰,显著改善了SER特性。
接下来,对实施例6以及比较例2和3的水接触角和摩擦系数进行评价。图12示出了实施例6以及比较例2和3中各光盘1的水接触角的评价结果。图13示出了实施例6以及比较例2和3中各光盘1的摩擦系数的评价结果。在图13中,μs和μk分别表示静摩擦系数和动摩擦系数。
根据图12和13得出下述结论。具体地说,发现在比较例3中水接触角小、摩擦系数大,而在实施例6和比较例2中,水接触角大、摩擦系数小。此外,还发现实施例6的水接触角和摩擦系数与比较例2的基本相同。换句话说,发现活性稀释剂的含量低至20%不会显著地影响该溶剂型硬涂层剂的物理特性。
接下来,对硬涂层21经过防污处理的情形进行检测,其中在硬涂层21上连续层叠偶联剂层22和防污层23。
<实施例7>
首先,向溶剂型硬涂层剂中加入低分子量的活性稀释剂,然后再加入2-甲氧基丙醇得到具有固含量为60重量%的硬涂层用组合物。所用的溶剂型硬涂层剂和活性稀释剂与实施例1中使用的相同。
然后,将前面所得到的硬涂层组合物通过旋转涂布法均匀地涂布到透光层4上,其间无中断。在旋转涂布过程中,旋转数为5,000rpm,旋转时间为5秒钟。接下来,通过紫外光辐射使该均匀涂布后的硬涂层组合物固化得到硬涂层21。
接下来,将光盘1置于氧等离子体灰化器中,将该等离子体灰化器抽空,硬涂层经氧等离子体处理15秒钟。随后,将硬涂层21曝露在偶联剂的蒸汽中30分钟,得到偶联剂层22。然后,合成得到在其两个末端均具有烷氧基硅烷基团的全氟多醚化合物(防污剂)。将该化合物溶解于脱水满意的氢氟醚(H-GALDEN-ZV180,由Ausimont公司制造和销售)使得浓度变为0.4重量%。所得到的溶液通过旋转涂布法涂布到偶联剂层22上,干燥过夜得到防污层23。通过上述步骤得到光盘1。
<实施例8>
除了氧等离子体处理的时间变为30秒钟之外,按照与实施例7基本相同的方法得到光盘1。
<实施例9>
除了氧等离子体处理的时间变为60秒钟之外,按照与实施例7基本相同的方法得到光盘1。
<比较例4>
除了使用只含溶剂型硬涂层剂的硬涂层用组合物之外,按照与实施例7基本相同的方法得到光盘1。
<比较例5>
除了氧等离子体处理的时间变为30秒钟之外,按照与比较例4基本相同的方法得到光盘1。
<比较例6>
除了氧等离子体处理的时间变为60秒钟之外,按照与比较例4基本相同的方法得到光盘1。
<比较例7>
除了向溶剂型硬涂层剂中加入2-丁氧基丙醇得到具有固体含量为60重量%的硬涂层用组合物之外,按照与实施例7基本相同的方法得到光盘1。
<比较例8>
除了氧等离子体处理的时间变为30秒钟之外,按照与比较例7基本相同的方法得到光盘1。
<比较例9>
除了氧等离子体处理的时间变为60秒钟之外,按照与比较例7基本相同的方法得到光盘1。
<比较例10>
除了向溶剂型硬涂层剂中加入2-丁氧基丙醇、以及作为低沸点组分的2-甲氧基丙醇使用蒸发器在真空下(40℃)蒸发,从而得到具有固含量为60重量%的硬涂层用组合物之外,按照与实施例7基本相同的方法得到光盘1。
<比较例11>
除了氧等离子体处理的时间变为30秒钟之外,按照与比较例10基本相同的方法得到光盘1。
<比较例12>
除了氧等离子体处理的时间变为60秒钟之外,按照与比较例10基本相同的方法得到光盘1。
接下来,测量实施例7-9和比较例4-12中的各光盘1的水接触角。随后,将实施例7-9和比较例4-12的光盘1分别经乙醇摩擦,然后进行水接触角的测量。
图14示出了实施例7-9和比较例4-12中的各光盘1在乙醇摩擦之前的水接触角的测量结果。图15示出了实施例7-9和比较例4-12中的各光盘1在乙醇摩擦之后的水接触角的测量结果。
根据图14得出下述结论。具体地说,发现比较例7-12的水接触角值比比较例4-6的水接触角值低,而实施例7-9的水接触角值与比较例4-6的水接触角值几乎相同。
根据图15得出下述结论。具体地说,发现实施例7和8以及比较例4-12的水接触角在乙醇摩擦之后没有显著降低,而实施例9的水接触角在乙醇摩擦之后明显降低。
根据上述检测发现,在通过向溶剂型硬涂层剂中加入2-丁氧基丙醇而形成硬涂层21的情形中,最初的水接触角较低。另外还发现,在通过向溶剂型硬涂层剂中加入低分子量的活性稀释剂而形成硬涂层21的情形中,在该情形中得到的最初水接触角基本上与其中仅由溶剂型硬涂层剂形成硬涂层21的情形中所得到最初水接触角相当,但是长时间的等离子体处理降低了机械强度,因此存在接受氧等离子体处理的最佳时间。
在上文中对本发明第一和第二实施方案进行了详细描述,但是本发明并不仅仅限于该第一和第二实施方案,在本发明技术构思的基础之上可以进行改变和修饰。
例如,在第一和第二实施方案中所给出的数值仅仅是举例说明,如果需要的话可以使用与它们不相同的数值。
在第一和第二实施方案中,给出了其中将本发明应用于通过利用来自透光层4侧的光辐射光盘而进行信息讯号的记录和/或复制的光盘1中的实例,但是本发明并不仅仅限于具有上述构造的光盘。例如,本发明可以应用于其中通过利用来自具有透光特性的基底侧的光辐射光盘而进行信息讯号的记录和/或复制的光盘(例如CD(致密光盘))、或者含有叠压在一起的基底的光盘(例如DVD(数字通用光盘))。
在第一和第二实施方案中,给出了其中将本发明应用于具有包括单层的信息讯号部分3的光盘1中的实例,但是本发明也可以应用于具有包括两层或多层的信息讯号部分的光盘。
在第一和第二实施方案中,给出了其中透光层4含有结合层11和透光片12的实例,但是该透光层4也可以仅仅由紫外线可固化树脂组成。在该情形中,对于用于形成透光层4的方法实例,可以提及旋转涂布法。
在第一和第二实施方案中,给出了其中在光盘1上形成表面保护膜的实例,但是在其上形成表面保护膜的对象并不仅仅限制于此。在其上形成表面保护膜的对象实例包括光学透镜、光学过滤器、消反射膜、液晶显示器、等离子体显示器、以及接触面板。
在第一和第二实施方案中,溶剂型硬涂层剂可以含有二氧化硅微粒或硅烷化合物。
权利要求
1.一种硬涂层用组合物,包括溶剂型硬涂层剂以及加入至该硬涂层剂中的低分子量的活性稀释剂。
2.权利要求1的硬涂层用组合物,其中所述活性稀释剂含有单体。
3.权利要求2的硬涂层用组合物,其中所述单体为丙烯酸酯类单体。
4.权利要求1的硬涂层用组合物,其中加入至所述组合物中的所述活性稀释剂的含量为10%至30%。
5.一种具有硬涂层的表面保护膜,所述硬涂层是通过向溶剂型硬涂层剂中加入低分子量的活性稀释剂,经涂布后固化得到的。
6.权利要求5的表面保护膜,其中所述活性稀释剂含有单体。
7.权利要求6的表面保护膜,其中所述单体为丙烯酸酯类单体。
8.权利要求5的表面保护膜,其中加入至组合物中的所述活性稀释剂的含量为10%至30%。
9.权利要求5的表面保护膜,其中向其中加入所述活性稀释剂的所述溶剂型硬涂层剂是通过旋转涂布法涂布的。
10.权利要求5的表面保护膜,其中所述溶剂型硬涂层剂含有二氧化硅微粒或硅烷化合物。
11.权利要求5的表面保护膜,进一步含有在所述硬涂层上形成的偶联剂层;以及在所述偶联剂层上形成的防污层。
12.权利要求11的表面保护膜,其中所述偶联剂层含有具有对构成所述硬涂层的材料具有亲和性的反应活性基团的偶联剂,并且该偶联剂还具有对构成所述防污层的材料具有结合性的反应活性基团。
13.权利要求11的表面保护膜,其中所述偶联剂层通过曝露于偶联剂的蒸汽下形成。
14.权利要求11的表面保护膜,其中所述偶联剂层含有一种化合物,该化合物中每一分子具有不同反应活性的两种类型的官能基团,该化合物如下述通式(1)所示X-Ra-Si(ORb)3…(1)其中X代表活性端基(乙烯基、环氧基、氨基、甲基丙烯酸酯类基、巯基、或异氰酸酯基),Ra代表亚烷基,Rb代表烷基。
15.权利要求11的表面保护膜,其中所述防污层每一分子具有至少一个烷氧基硅烷基团。
16.权利要求15的表面保护膜,其中所述防污层含有在其两个末端均具有烷氧基硅烷基团的全氟多醚化合物。
17.权利要求16的表面保护膜,其中所述防污层含有具有全氟多醚基团的如下述通式(2)所示的烷氧基硅烷化合物(R3O)3Si-R2-R1CO-Rf-COR1-R2-Si(OR3)3…(2)其中Rf代表全氟多醚基团,R1代表O、NH、和S中的任意一个,R2代表亚烷基,R3代表烷基。
18.权利要求15的表面保护膜,其中所述防污层含有具有全氟多醚基团的如下述通式(3)所示的烷氧基硅烷化合物RfCOR1-R2-Si(OR3)3…(3)其中Rf代表全氟多醚基团,R1代表O、NH、和S中的任意一个,R2代表亚烷基,以及R3代表烷基。
19.权利要求15的表面保护膜,其中所述防污层含有具有氟代烷基的如下述通式(4)所示的烷氧基硅烷化合物Rf’-R1-R2-Si(OR3)3…(4)其中Rf’代表氟代烷基,R1代表二价原子或原子团,R2代表亚烷基,以及R3代表烷基。
20.权利要求15的表面保护膜,其中所述防污层含有具有氟代烷基的如下述通式(5)所示的烷氧基硅烷化合物Rf’-R1-Si(OR2)3…(5)其中Rf’代表氟代烷基,R1代表具有少于7个碳原子的烷基,以及R2代表烷基。
21.一种光盘,它包括在基底一主表面上形成的信息讯号部分;在所述信息讯号部分上形成的保护层;以及在选自所述保护层和所述基底中的至少一个表面上形成的表面保护膜;其中所述表面保护膜具有硬涂层,该硬涂层是通过向溶剂型硬涂层剂中加入低分子量的活性稀释剂,在涂布后固化得到的。
22.权利要求21的光盘,其中所述活性稀释剂含有单体。
23.权利要求22的光盘,其中所述单体为丙烯酸酯类单体。
24.权利要求21的光盘,其中加入至组合物中的所述活性稀释剂的含量为10%至30%。
25.权利要求21的光盘,其中向其中加入所述活性稀释剂的所述溶剂型硬涂层剂是通过旋转涂布法涂布的。
26.权利要求21的光盘,其中所述溶剂型硬涂层剂含有二氧化硅微粒或硅烷化合物。
27.权利要求21的光盘,其中所述的表面保护膜进一步包括在所述硬涂层上形成的偶联剂层;以及在所述偶联剂层上形成的防污层。
28.权利要求27的光盘,其中所述偶联剂层含有具有对构成所述硬涂层的材料具有亲和性的反应活性基团的偶联剂,并且该偶联剂还具有对构成所述防污层的材料具有结合性的反应活性基团。
29.权利要求27的光盘,其中所述偶联剂层通过曝露于偶联剂的蒸汽下形成。
30.权利要求27的光盘,其中所述偶联剂层含有一种化合物,该化合物中每一分子具有不同反应活性的两种类型的官能基团,该化合物如下述通式(1)所示X-Ra-Si(ORb)3…(1)其中X代表活性端基(乙烯基、环氧基、氨基、甲基丙烯酸酯类基、巯基、或异氰酸酯基),Ra代表亚烷基,Rb代表烷基。
31.权利要求27的光盘,其中所述防污层每一分子具有至少一个烷氧基硅烷基团。
32.权利要求31的光盘,其中所述防污层含有在其两个末端均具有烷氧基硅烷基团的全氟多醚化合物。
33.权利要求32的光盘,其中所述防污层含有具有全氟多醚基团的如下述通式(2)所示的烷氧基硅烷化合物(R3O)3Si-R2-R1CO-Rf-COR1-R2-Si(OR3)3…(2)其中Rf代表全氟多醚基团,R1代表O、NH、和S中的任意一个,R2代表亚烷基,R3代表烷基。
34.权利要求31的光盘,其中所述防污层含有具有全氟多醚基团的如下述通式(3)所示的烷氧基硅烷化合物RfCOR1-R2-Si(OR3)3…(3)其中Rf代表全氟多醚基团,R1代表O、NH、和S中的任意一个,R2代表亚烷基,以及R3代表烷基。
35.权利要求31的光盘,其中所述防污层含有具有氟代烷基的如下述通式(4)所示的烷氧基硅烷化合物Rf’-R1-R2-Si(OR3)3…(4)其中Rf’代表氟代烷基,R1代表二价原子或原子团,R2代表亚烷基,以及R3代表烷基。
36.权利要求31的光盘,其中所述防污层含有具有氟代烷基的如下述通式(5)所示的烷氧基硅烷化合物Rf’-R1-Si(OR2)3…(5)其中Rf’代表氟代烷基,R1代表具有少于7个碳原子的烷基,以及R2代表烷基。
全文摘要
本发明实现了形成一种具有极好的流平性而不降低物理特性的硬涂层。在基底上形成信息讯号部分。利用位于透光片和基底之间的结合层使透光片与基底相结合形成透光层。通过向溶剂型硬涂层剂中加入低分子量的活性稀释剂得到硬涂层用组合物。将该硬涂层用组合物通过旋转涂布法均匀的涂布在透光层上。该涂布后的硬涂层用组合物固化成为硬涂层。
文档编号B05D5/00GK1680497SQ20051006550
公开日2005年10月12日 申请日期2005年3月9日 优先权日2004年3月9日
发明者榎本正, 坪里惠, 菊地稔, 守和宏 申请人:索尼株式会社
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