专利名称：耐酸碱制程保护膜的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种耐酸碱制程保护膜，尤其涉及一种用于在酸性或碱性环境中对表面进行保护的膜。
背景技术：
电子行业中，保护膜无处不在，一般笔记本前盖后盖的制程保护，以及背光模组的组装过程中导光板、偏光膜、扩散膜的保护等等。普通的保护膜已经不能满足市场需求，特殊要求的制程保护膜越来越多，例如耐酸碱制程保护膜，在玻璃基材的电容屏边缘腐蚀处理时，需采用制程保护膜与电容屏上、下表面贴合，从而在实现电容屏边缘光滑处理时，保护电容屏的上、下表面。现有制程保护膜，存在基材层易变色和腐蚀以及残胶等技术缺陷，因此，如何设计一种能有效防止基材层变色和腐蚀，有利于进一步保护玻璃屏，也避免残留的耐酸碱制程保护膜，成为本领域普通技术人员努力的方向。
发明内容本实用新型提供一种耐酸碱制程保护膜，此耐酸碱制程保护膜有效防止基材层变色和腐蚀，有利于进一步保护玻璃屏；以及克服现有技术基材与耐酸胶粘剂层附着力差，也避免了由于耐酸胶粘剂层的残留导致的产品报废。为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是:一种耐酸碱制程保护膜，包括第二基材层、第一基材层和位于第一基材层上表面的耐酸胶粘剂层，此耐酸胶粘剂层上表面覆盖有一离型膜，所述第一基材层与第二基材层之间具有高粘胶黏剂层。上述技术方案中进一步改进的技术方案如下:1.上述方案中，所述耐 酸胶粘剂层的厚度为0.005、.1毫米。2.上述方案中，所述第一基材层、第二基材层为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、双向拉伸聚丙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚酰亚胺薄膜。3.上述方案中，所述高粘胶黏剂层的厚度为1(Γ30微米。4.上述方案中，所述第二基材层的厚度为5(Γ200微米。由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点:本实用新型耐酸碱制程保护膜，其当耐酸碱胶粘剂贴合到被贴物，例如素玻璃、铝板等之上，即使浸泡在一定浓度的酸性或碱性溶液中30min，撕除耐酸碱保护膜时，不会在被贴物表面留有残胶，被贴物表面也不会产生腐蚀；其次，其第二基材层、第一基材层和位于第一基材层上表面的耐酸胶粘剂层，此耐酸胶粘剂层上表面覆盖有一离型膜，所述第一基材层与第_■基材层之间具有闻粘I父黏剂层，有效防止基材层变色和腐蚀，有利于进一步保护玻璃屏；以及克服现有技术基材与耐酸胶粘剂层附着力差，也避免了由于耐酸胶粘剂层的残留导致的产品报废。
[0012]附图1为本实用新型耐酸碱制程保护膜结构示意图。以上附图中:1、第一基材层；2、第二基材层；3、耐酸胶粘剂层；4、离型膜；5、高粘胶黏剂层。
具体实施方式
以下结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:实施例1:一种耐酸碱制程保护膜，包括第二基材层2、第一基材层I和位于第一基材层I上表面的耐酸胶粘剂层3，此耐酸胶粘剂层3上表面覆盖有一离型膜4，所述第一基材层I与第_■基材层2之间具有闻粘I父黏剂层5。上述耐酸胶粘剂层5的厚度为0.01毫米。上述第一基材层I为聚氯乙烯薄膜，第二基材层2为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。上述高 粘胶黏剂层5的厚度为12微米，上述第二基材层2的厚度为60微米。实施例2: —种耐酸碱制程保护膜,包括第二基材层2、第一基材层I和位于第一基材层I上表面的耐酸胶粘剂层3，此耐酸胶粘剂层3上表面覆盖有一离型膜4，所述第一基材层I与第_■基材层2之间具有闻粘I父黏剂层5。上述耐酸胶粘剂层5的厚度为0.05毫米。上述第一基材层I为聚酰亚胺薄膜，第二基材层2为聚氯乙烯薄膜。上述高粘胶黏剂层5的厚度为25微米，上述第二基材层2的厚度为160微米。采用上述耐酸碱制程保护膜时，其当耐酸碱胶粘剂贴合到被贴物，例如素玻璃、铝板等之上，即使浸泡在一定浓度的酸性或碱性溶液中30min，撕除耐酸碱保护膜时，不会在被贴物表面留有残胶，被贴物表面也不会产生腐蚀；其次，其第二基材层、第一基材层和位于第一基材层上表面的耐酸胶粘剂层，此耐酸胶粘剂层上表面覆盖有一离型膜，所述第一基材层与第_■基材层之间具有闻粘I父黏剂层，有效防止基材层变色和腐蚀，有利于进一步保护玻璃屏；以及克服现有技术基材与耐酸胶粘剂层附着力差，也避免了由于耐酸胶粘剂层的残留导致的产品报废。上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种耐酸碱制程保护膜，其特征在于:包括第二基材层(2)、第一基材层(I)和位于第一基材层(I)上表面的耐酸胶粘剂层(3)，此耐酸胶粘剂层(3)上表面覆盖有一离型膜(4),所述第一基材层(I)与第二基材层(2)之间具有高粘胶黏剂层(5)。
2.根据权利要求1所述的耐酸碱制程保护膜，其特征在于:所述耐酸胶粘剂层(5)的厚度为0.005、.1毫米。
3.根据权利要求1所述的耐酸碱制程保护膜，其特征在于:所述第一基材层(I)、第二基材层(2)为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、双向拉伸聚丙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚酰亚胺薄膜。
4.根据权利要求1所述的耐酸碱制程保护膜，其特征在于:所述高粘胶黏剂层(5)的厚度为10 30微米。
5.根据权利要 求1所述的耐酸碱制程保护膜，其特征在于:所述第二基材层(2)的厚度为50 200微米。
专利摘要本实用新型公开一种耐酸碱制程保护膜，包括第二基材层、第一基材层和位于第一基材层上表面的耐酸胶粘剂层，此耐酸胶粘剂层上表面覆盖有一离型膜，所述第一基材层与第二基材层之间具有高粘胶黏剂层，所述耐酸胶粘剂层的厚度为0.005~0.1毫米，所述第一基材层、第二基材层为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、双向拉伸聚丙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚酰亚胺薄膜，所述高粘胶黏剂层的厚度为10~30微米，所述第二基材层的厚度为50~200微米。本实用新型耐酸碱制程保护膜有效防止基材层变色和腐蚀，有利于进一步保护玻璃屏；以及克服现有技术基材与耐酸胶粘剂层附着力差，也避免了由于耐酸胶粘剂层的残留导致的产品报废。
文档编号C09J7/02GK203095966SQ201320072899
公开日2013年7月31日 申请日期2013年2月8日 优先权日2013年2月8日
发明者金闯, 谢洪涛 申请人:斯迪克新型材料(江苏)有限公司