用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液的制作方法

文档序号:11125281阅读:703来源:国知局

本发明涉及用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液。



背景技术:

现有用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液,其抛光效率低,抛光效果一般,抛光后玻璃表面硬度以及机械性能有待提高。



技术实现要素:

本发明的目的在于提供一种用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液,其抛光效率高,抛光效果好,可以提高抛光后玻璃表面硬度以及机械性能。

为实现上述目的,本发明的技术方案是设计一种用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液,按重量份计由以下组分组成:

1~2份γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷,

1.5份聚氧乙烯醚,

4.9份琥珀酸酯,

1.1份黄原胶,

1.5份乙二胺聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段式聚醚,

0.5份石油磺酸盐,

1.3份咪唑啉,

0.8份磷酸三丁酯,

0.7份硫酸化蓖麻油,

49份去离子水。

优选的,用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液,按重量份计由以下组分组成:

1份γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷,

1.5份聚氧乙烯醚,

4.9份琥珀酸酯,

1.1份黄原胶,

1.5份乙二胺聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段式聚醚,

0.5份石油磺酸盐,

1.3份咪唑啉,

0.8份磷酸三丁酯,

0.7份硫酸化蓖麻油,

49份去离子水。

优选的,用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液,按重量份计由以下组分组成:

2份γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷,

1.5份聚氧乙烯醚,

4.9份琥珀酸酯,

1.1份黄原胶,

1.5份乙二胺聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段式聚醚,

0.5份石油磺酸盐,

1.3份咪唑啉,

0.8份磷酸三丁酯,

0.7份硫酸化蓖麻油,

49份去离子水。

优选的,用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液,按重量份计由以下组分组成:

1.2份γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷,

1.5份聚氧乙烯醚,

4.9份琥珀酸酯,

1.1份黄原胶,

1.5份乙二胺聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段式聚醚,

0.5份石油磺酸盐,

1.3份咪唑啉,

0.8份磷酸三丁酯,

0.7份硫酸化蓖麻油,

49份去离子水。

本发明的优点和有益效果在于:提供一种用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液,其抛光效率高,抛光效果好,可以提高抛光后玻璃表面硬度以及机械性能。

“抛光液”的性能和用途是由其组分及配比所决定的,且“抛光液”中的不同组分会相互影响,组分及其配比会决定“抛光液”的最终性能,如果组分及其配比不相互协调,单个组分所带来的有益效果,会被其他组分消减甚至消除,严重的时候,不同组分相互抵触,起不到整体综合作用,产生负作用和次品。本发明通过大量创造性劳动、反复验证,得到“抛光液”的最优组分及配比,使得多个组分综合在一起、相互协调、并产生正向综合效应。

具体实施方式

下面结合实施例,对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。

本发明具体实施的技术方案是:

实施例1

用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液,按重量份计由以下组分组成:

1~2份γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷,

1.5份聚氧乙烯醚,

4.9份琥珀酸酯,

1.1份黄原胶,

1.5份乙二胺聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段式聚醚,

0.5份石油磺酸盐,

1.3份咪唑啉,

0.8份磷酸三丁酯,

0.7份硫酸化蓖麻油,

49份去离子水。

实施例2

用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液,按重量份计由以下组分组成:

1份γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷,

1.5份聚氧乙烯醚,

4.9份琥珀酸酯,

1.1份黄原胶,

1.5份乙二胺聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段式聚醚,

0.5份石油磺酸盐,

1.3份咪唑啉,

0.8份磷酸三丁酯,

0.7份硫酸化蓖麻油,

49份去离子水。

实施例3

用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液,按重量份计由以下组分组成:

2份γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷,

1.5份聚氧乙烯醚,

4.9份琥珀酸酯,

1.1份黄原胶,

1.5份乙二胺聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段式聚醚,

0.5份石油磺酸盐,

1.3份咪唑啉,

0.8份磷酸三丁酯,

0.7份硫酸化蓖麻油,

49份去离子水。

实施例4

用于加工耐辐射光学玻璃的抛光液,按重量份计由以下组分组成:

1.2份γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷,

1.5份聚氧乙烯醚,

4.9份琥珀酸酯,

1.1份黄原胶,

1.5份乙二胺聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段式聚醚,

0.5份石油磺酸盐,

1.3份咪唑啉,

0.8份磷酸三丁酯,

0.7份硫酸化蓖麻油,

49份去离子水。

经上述各实施例中的抛光液,抛光效率高,抛光效果好,可以提高抛光后玻璃表面硬度以及机械性能。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

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