、化挫化合物、咪挫化合物、Ξ挫化合物、四挫化合物、化晚化合物、化嗦化合物、化嗦化合 物、4-氮巧(pyr incline)化合物、中氮巧化合物、吗I噪化合物、异吗I噪化合物、吗I挫化合物、嚷 岭化合物、哇嗦化合物、哇嘟化合物、异哇嘟化合物、糞晚化合物、献嗦化合物、哇喔嘟化合 物、哇挫嘟化合物、增嘟化合物、布利替嗦化合物、嚷挫化合物、异嚷挫化合物、嗯挫化合物、 异嗯挫化合物、巧咱化合物等含氮杂环化合物。
[0081] 若举出更具体的例子，则作为化挫化合物的例子，例如可W举出1H-化挫、4-硝基- 3-化挫簇酸、3,5-化挫簇酸、3-氨基-5-苯基化挫、5-氨基-3-苯基化挫、3，4,5-Ξ漠化挫、3- 氨基化挫、3,5-二甲基化挫、3,5-二甲基-1-径甲基化挫、3-甲基化挫、1-甲基化挫、3-氨基- 5-甲基化挫、4-氨基-化挫并[3，4-d ]喀晚、别嚷醇、4-氯-1Η-化挫并[3，4-D ]喀晚、3，4-二径 基-6-甲基化挫并（3,4-B)-化晚、6-甲基-1H-化挫并[3,4-b]化晚-3-胺等。
[0082] 作为咪挫化合物的例子，例如可W举出咪挫、1-甲基咪挫、2-甲基咪挫、4-甲基咪 挫、1,2-二甲基化挫、2-乙基-4-甲基咪挫、2-异丙基咪挫、苯并咪挫、5,6-二甲基苯并咪挫、 2-氨基苯并咪挫、2-氯苯并咪挫、2-甲基苯并咪挫、2-(1-?乙基）苯并咪挫、2-径基苯并咪 挫、2-苯基苯并咪挫、2,5-二甲基苯并咪挫、5-甲基苯并咪挫、5-硝基苯并咪挫、1H-嚷岭等。
[0083] 作为Ξ挫化合物的例子，例如可W举出1，2，3-Ξ挫、1，2，4-Ξ挫、1-甲基-1，2，4- Ξ挫、甲基-1H-1，2，4-Ξ挫-3-簇酸醋、1，2，4-Ξ挫-3-簇酸、1，2，4-Ξ挫-3-簇酸甲醋、1护 1，2，4-Ξ挫-3-硫醇、3，5-二氨基-1H-1，2，4-Ξ挫、3-氨基-1，2，4-Ξ挫-5-硫醇、3-氨基- 1H-1，2，4-Ξ 挫、3-氨基-5-苯甲基-4H-1，2，4-Ξ 挫、3-氨基-5-甲基-4H-1，2，4-Ξ 挫、3-硝 基-1，2，4-Ξ 挫、3-漠-5-硝基-1，2，4-Ξ 挫、4-( 1，2，4-Ξ 挫-1-基)苯酪、4-氨基-1，2，4-Ξ 挫、4-氨基-3，5-二丙基-4H-1，2，4-Ξ 挫、4-氨基-3，5-二甲基-4H-1，2，4-Ξ 挫、4-氨基-3， 5-二庚基-4H-1，2，4-Ξ挫、5-甲基-1，2，4-Ξ挫-3，4-二胺、1H-苯并Ξ挫、1-径基苯并Ξ挫、 1-氨基苯并Ξ挫、1-簇基苯并Ξ挫、5-氯-IH-苯并Ξ挫、5-硝基-IH-苯并Ξ挫、5-簇基-IH- 苯并Ξ挫、5-甲基-1H-苯并Ξ挫、5，6-二甲基-1H-苯并Ξ挫、1-( Γ，2 ' -二簇基乙基)苯并Ξ 挫、1-[N，N-二巧圣乙基)氨基甲基]苯并Ξ挫、1-阳，N-二(径乙基)氨基甲基]-5-甲基苯并Ξ 挫、1-[N，N-二巧圣乙基)氨基甲基]-4-甲基苯并Ξ挫等。
[0084] 作为四挫化合物的例子，例如可W举出1H-四挫、5-甲基四挫、5-氨基四挫、W及5- 苯基四挫等。
[00财作为吗階化合物的例子，例如可W举出1H-吗階、5-氨基-1H-吗階、5-硝基-1H-吗I 挫、5-径基-1H-吗階、6-氨基-1H-吗I挫、6-硝基-1H-吗階、6-径基-1H-吗I挫、3-簇基-5-甲基- 1H-吗階等。
[0086] 作为吗I噪化合物的例子，例如可W举出1H-吗I噪、1-甲基-1H-吗I噪、2-甲基-1H-吗I 噪、3-甲基-1H-吗隙、4-甲基-1H-吗I噪、5-甲基-1H-吗隙、6-甲基-1H-吗隙、7-甲基-1H-吗I 噪、4-氨基-1H-吗隙、5-氨基-1H-吗I噪、6-氨基-1H-吗隙、7-氨基-1H-吗隙、4-径基-1H-吗I 噪、5-径基-1H-吗隙、6-径基-1H-吗隙、7-径基-1H-吗隙、4-甲氧基-1H-吗隙、5-甲氧基-1H- 吗I噪、6-甲氧基-1H-吗隙、7-甲氧基-1H-吗隙、4-氯-1H-吗I噪、5-氯-1H-吗隙、6-氯-1H-吗I 噪、7-氯-1H-吗隙、4-簇基-1H-吗隙、5-簇基-1H-吗隙、6-簇基-1H-吗隙、7-簇基-1H-吗隙、 4-硝基-1H-吗隙、5-硝基-1H-吗I噪、6-硝基-1H-吗隙、7-硝基-1H-吗隙、4-腊基-1H-吗I噪、5- 腊基-1H-吗I噪、6-腊基-1H-吗I噪、7-腊基-1H-吗I噪、2,5-二甲基-1H-吗I噪、1,2-二甲基-1H- 吗I噪、1,3-二甲基-1H-吗I噪、2,3-二甲基-1H-吗I噪、5-氨基-2,3-二甲基-1H-吗I噪、7-乙基- 1H-吗隙、5-(氨基甲基）吗I噪、2-甲基-5-氨基-1H-吗隙、3-径甲基-1H-吗隙、6-异丙基-1H- 吗I噪、5-氯-2-甲基-1H-吗I噪等。
[0087] 运些之中优选的杂环化合物为Ξ挫化合物，特别优选1H-苯并Ξ挫、5-甲基-1H-苯 并Ξ挫、5,6-二甲基-1H-苯并Ξ挫、1-阳，N-二巧圣乙基)氨基甲基]-5-甲基苯并Ξ挫、1-阳， N-二巧圣乙基)氨基甲基]-4-甲基苯并Ξ挫、1，2,3-Ξ挫、W及1，2,4-Ξ挫。运些杂环化合物 对研磨对象物表面的化学吸附力或物理吸附力高，因此能够在研磨对象物表面形成更加牢 固的保护膜。运在使利用本发明的研磨用组合物进行了研磨后的研磨对象物的表面平坦性 提局的方面是有利的。
[0088] 此外，作为金属防腐蚀剂使用的表面活性剂可W是阴离子性表面活性剂、阳离子 性表面活性剂、两性表面活性剂、W及非离子性表面活性剂中的任意种。
[0089] 作为阴离子性表面活性剂的例子，例如，可W举出聚氧乙締烷基酸乙酸、聚氧乙締 烷基硫酸醋、烷基硫酸醋、聚氧乙締烷基酸硫酸、烷基酸硫酸、烷基苯横酸、烷基憐酸醋、聚 氧乙締烷基憐酸醋、聚氧乙締横基班巧酸、烷基横基班巧酸、烷基糞横酸、烷基二苯基酸二 横酸、W及它们的盐等。
[0090] 作为阳离子性表面活性剂的例子，例如可W举出烷基Ξ甲基锭盐、烷基二甲基锭 盐、烷基苯甲基二甲基锭盐、烷基胺盐等。
[0091] 作为两性表面活性剂的例子，例如，可W举出烷基甜菜碱、烷基胺氧化物等。
[0092] 作为非离子性表面活性剂的例子，例如可W举出聚氧乙締烷基酸、聚氧化締烷基 酸、山梨糖醇酢脂肪酸醋、甘油脂肪酸醋、聚氧乙締脂肪酸醋、聚氧乙締烷基胺、W及烷基烧 醇酷胺等。
[0093] 运些之中优选的表面活性剂为聚氧乙締烷基酸乙酸盐、聚氧乙締烷基酸硫酸盐、 烷基酸硫酸盐、烷基苯横酸盐、w及聚氧乙締烷基酸。由于运些表面活性剂对研磨对象物表 面的化学吸附力或物理吸附力高，因此能够在研磨对象物表面形成牢固的保护膜。运在使 利用本发明的研磨用组合物进行了研磨后的研磨对象物的表面平坦性提高的方面是有利 的。
[0094]〔防腐剂和防霉剂）
[00M]作为本发明中使用的防腐剂和防霉剂，例如可W举出2-甲基-4-异嚷挫嘟-3-酬、 5-氯-2-甲基-4-异嚷挫嘟-3-酬等异嚷挫嘟系防腐剂、对径基苯甲酸醋类、W及苯氧乙醇 等。运些防腐剂和防霉剂可W单独使用或混合使用巧巾W上。
[0096] [研磨用组合物的制造方法]
[0097] 对本发明的研磨用组合物的制造方法没有特别限制，例如，可W通过将含有磨粒 和面原子的氧化剂、W及根据需要而添加的其他成分在水中揽拌混合来获得。
[0098] 对混合各成分时的溫度没有特别限制，优选为10~40°C，为了提高溶解速度，也可 W进行加热。此外，对混合时间也没有特别限制。
[0099] [研磨方法和基板的制造方法]
[0100] 如上所述，本发明的研磨用组合物特别适合用于具有含IV族材料的层的研磨对象 物的研磨。因此，本发明提供一种用本发明的研磨用组合物对具有含IV族材料的层的研磨 对象物进行研磨的研磨方法。此外，本发明还提供一种基板的制造方法，其包含通过前述研 磨方法对具有含IV族材料的层的研磨对象物进行研磨的工序。
[0101] 作为研磨装置，可W使用如下的通常的研磨装置，其安装有保持具有研磨对象物 的基板等的保持件、和可改变转速的电动机等，且具有可贴附研磨垫(研磨布)的研磨平板。
[0102] 作为前述研磨垫，可W没有特别限制地使用通常的无纺布、聚氨醋、W及多孔质氣 树脂等。优选对研磨垫实施使研磨液积存的槽加工。
[0103] 对研磨条件也没有特别限制，例如，研磨平板的转速优选为10~50化pm，对具有研 磨对象物的基板施加的压力(研磨压力)优选为0.5~lOpsi。对向研磨垫供给研磨用组合物 的方法也没有特别限制，例