如，可W采用通过累等连续地供给的方法。对该供给量没有特别 限制，优选研磨垫的表面一直被本发明的研磨用组合物覆盖。
[0104] 研磨结束后，在流动水中清洗基板，利用旋转式干燥机等除去附着在基板上的水 滴，使其干燥，由此得到具有含IV族材料的层的基板。
[0105] 实施例
[0106] 用W下的实施例和比较例对本发明详细地进行说明。其中，本发明的技术的范围 不仅限定于W下实施例。
[0107] (实施例1~48、比较例1~7)
[0108] 将如表2所示的磨粒和次氯酸钢的水溶液(浓度:5.9质量％ )在水中揽拌混合(混 合溫度:约25°C，混合时间：约10分钟），制备实施例1~48和比较例1~7的研磨用组合物。加 入氨氧化钟化0H)调节研磨用组合物的抑，并利用抑计确认为9.5。
[0109] 需要说明的是，作为表2中示出的磨粒的种类，如下表1，全部是通过溶胶凝胶法合 成而得到的。
[0110] [表 1]
[0111] 平均一次粒径为150nm的胶态二氧化娃
[0112] 平均一次粒径为34.5nm的胶态二氧化娃
[0113] 平均一次粒径为31nm的胶态二氧化娃
[0114] 平均一次粒径为40nm的胶态二氧化娃
[0115] 平均一次粒径为56.4nm的胶态二氧化娃
[0116] 平均一次粒径为90nm的胶态二氧化娃
[0117] 平均一次粒径为76.7nm的胶态二氧化娃
[0118] 平均一次粒径为35nm的胶态二氧化娃
[0119] 平均一次粒径为12nm的胶态二氧化娃
[0120] 表2中的"NaC10(5.9质量％ )添加量'的栏示出在研磨用组合物的制造时添加了多 少化C10(5.9质量％ )水溶液，"氧化剂浓度(ΒΓ的栏示出在制作的研磨用组合物中含有多 少氧化剂(NaClO)。
[0121] 实施例31相对于组合物的总质量还添加0.13质量％的2-化咯烧酬，实施例32相对 于组合物的总质量还添加0.39质量％的2-化咯烧酬，实施例33相对于组合物的总质量还添 加0.65质量％的2-化咯烧酬。
[0122] 作为实施例16、比较例2、W及比较例5的磨粒，使用在表面固定化有横酸的胶态二 氧化娃。
[0123] 研磨用组合物中的磨粒所具有的硅烷醇基数量的总和(A)是通过W下的测定方法 或计算方法测定或算出各参数后，通过下述的方法算出的。
[0124] ?磨粒的一次粒径[皿](实测值）：基于根据BET法算出的比表面积(SA)，假定磨粒 为正球，用SA =如护的公式算出磨粒的直径(一次粒径）。
[0125] ?每1个磨粒的体积(计算值）：用由比表面积（SA)算出的一次粒径，根据下式计 算。
[01%] 每1个磨粒的体积= 4/331X (磨粒的一次粒径/2)3
[0127].每1个磨粒的重量(计算值）：用通过计算求出的每1个磨粒的体积，根据W下的 公式计算。
[01%]每1个磨粒的重量=每1个磨粒的体积X磨粒的比重(在胶态二氧化娃的情况下为 2.2)
[0129] .每1个磨粒的表面积(计算值）：用由比表面积(SA)算出的一次粒径，根据W下的 公式计算。
[0130] 每1个磨粒的表面积= 43iX (磨粒的一次粒径/2)2
[0131] .研磨用组合物中的磨粒的个数(计算值）：用研磨用组合物中的磨粒的浓度除W 每1个磨粒的重量来计算。
[0132] .研磨用组合物中的磨粒的总表面积[皿2](计算值）：通过每1个磨粒的表面积和 研磨用组合物中的磨粒的个数的乘积来算出。
[0133] ?硅烷醇基数量(实测值）：算出通过希尔斯滴定法(Sears method)求出的单位表 面积的硅烷醇基数量[Silanol count/nm2]。
[0134] 希尔斯滴定法是在参照G.W.Sears,Jr. , "Determination of Specific Su;rface Area of Colloidal Silica by Titration with Sodium Hydroxide，'，Analytical Chemistry ,28(12) ,1981(1956).的基础上实施的。测定中使用二氧化娃水溶液（Iwt%)，滴 加的NaOH的每1次的滴加量为ο. ο 1ml，滴加间隔为30秒。
[0135] ?研磨用组合物中的磨粒所具有的硅烷醇基数量的总和(个）（A)(计算值）：利用 通过希尔斯滴定法求出的硅烷醇基数量(实测值）[个/nm2]与研磨用组合物中的磨粒的总 表面积[nm2](计算值）的乘积来计算，所述研磨用组合物中的磨粒的总表面积[nm2](计算 值)是用BE化k表面积和研磨用组合物中的磨粒浓度计算出的。
[0136] .氧化剂浓度(B)(实测值）：在使用氧化剂浓度已知的化学试剂时，根据添加的量 来计算。或者通过氧化还原滴定来定量。例如，在化CIO的情况下，用平成15年9月29日厚生 劳动省告示第318号的方法，通过滴定来定量。
[0137] ?相对于每1质量％的氧化剂的磨粒的硅烷醇基数量(计算值）：通过用研磨用组 合物中的磨粒所具有的硅烷醇基数量的总和(个KA)(计算值)除W氧化剂浓度(B)来算出。
[0138] 残留的氧化剂的比率是根据平成15年9月29日厚生劳动省告示第318号的方法分 别对保管前的研磨用组合物和在25°C下保管7天后的研磨用组合物测定氧化剂的含量，并 根据下式来算出的。
[0139] 残留的氧化剂的比率（％) =(保管后的研磨用组合物中的氧化剂的量)/(保管前 的研磨用组合物中的氧化剂的量）X100
[0140] 对于实施例34~43中得到的研磨用组合物，浸溃条件:使3cmX 3cm的Ge基板在43 °C下浸溃5分钟（同时使揽拌子W3(K)rpm旋转），由其后的重量变化算出溶解量，用其溶解量 除W浸溃时间，测定Ge基板的蚀刻速率。
[0141] 将实施例和比较例的研磨用组合物的组成、W及研磨用组合物的保管稳定性和Ge 蚀刻速率的测定结果示于下表2。
[0142] [表 2-1]
[0143]
[0144] [表 2-2]
[0145]
[0146] [表 2-3]
[0147]
[014 引[表 2-4]
[0149]
[0150] 如上述表2所示，可知(A)/(B)处于特定范围的实施例1~48的本发明的研磨用组 合物与比较例的研磨用组合物相比，保管稳定性优异。此外，可知添加稳定性提高剂时，保 管稳定性进一步提高。
[0151] 需要说明的是，本申请基于2013年9月30日申请的日本专利申请第2013-204170 号，其公开的内容通过参照全部被引用。
【主权项】
1. 一种研磨用组合物，其包含磨粒和含有卤原子的氧化剂， 研磨用组合物中的所述磨粒所具有的硅烷醇基数量的总和(A)(单位:个)除以研磨用 组合物中的所述氧化剂的浓度(B)(单位:质量％)得到的值(A/B)为8 X 1023以下。2. 根据权利要求1所述的研磨用组合物，其用于研磨具有如下的层的研磨对象物的用 途，所述层为含有IV族材料的层。3. 根据权利要求1或2所述的研磨用组合物，其中，所述氧化剂的浓度为0.0001质量％ 以上且低于0.5质量％。4. 一种研磨方法，其使用权利要求1~3中任一项所述的研磨用组合物来研磨具有如下 的层的研磨对象物，所述层为含有IV族材料的层。5. -种基板的制造方法，其包括用权利要求4所述的研磨方法来研磨具有如下的层的 研磨对象物的工序，所述层为含有IV族材料的层。
【专利摘要】本发明提供一种保管稳定性优异的研磨用组合物。本发明为一种研磨用组合物，其包含磨粒和含有卤原子的氧化剂，研磨用组合物中的前述磨粒所具有的硅烷醇基数量的总和(A)(单位：个)除以研磨用组合物中的前述氧化剂的浓度(B)(单位：质量％)得到的值(A/B)为8×1023以下。
【IPC分类】C09G1/02, H01L21/304, B24B37/00, C09K3/14
【公开号】CN105593331
【申请号】CN201480054190
【发明人】玉田修一
【申请人】福吉米株式会社
【公开日】2016年5月18日
【申请日】2014年9月2日
【公告号】WO2015045757A1