及6. 5g乳酸乙 酯。然后将该稀释溶液过滤通过1.0 ym PFPE注射器过滤器一次，然后过滤通过0.2 μπι PFPE注射器过滤器多次，至另一个20mL玻璃瓶中。以1500rpm转速将过滤后的样品涂覆在 不同的200mm(8英寸）硅晶片上。然后将一个晶片分别在200, 250和350°C条件下固化60 秒。使用热波光谱椭圆计（Therma-wave spectroscopic ellipsometer)(型号 7341，673nm 波长）测量固化膜的膜厚度，结果示于表1。 表1
[0039] 视觉检测晶片显示所有膜均处于良好的质量状态。将各固化膜用乳酸乙酯清洗10 秒，未观察到膜剥离，表示交联网络形成。
[0040] 实施例10 :向20mL玻璃瓶中称量7. 51g实施例3的反应混合物，以及7. 69g乳酸 乙酯。然后将该稀释溶液过滤通过1. 〇 ym PFPE注射器过滤器一次，然后过滤通过0. 2 μπι PFPE注射器过滤器多次，至另一个20mL玻璃瓶中。过滤后的样品以1500rpm涂覆在 200mm(8英寸）裸露的硅晶片上，之后在100°C烘焙涂覆的膜60秒。然后在空气中在400°C 炉中固化涂覆的晶片30分钟。目测固化的膜颜色为银色（类似铝），形成的膜质量良好。 在N2下对膜进行380°C烘焙30分钟之前和之后使用折射率输入值为1. 77 (对于氧化铝） 的椭圆计测量膜厚度，以确定膜的热稳定性。在380°C烘焙之前和之后显示恒定的膜厚度， 证明固化的膜观察到优异的热稳定性。
[0041] 实施例11 :将实施例5和6的反应混合物样品过滤通过1. 0 μ m PFPE过滤器一 次，以去除溶液中的不溶性物质。对于该固化测试，在加工之前，两种溶液还分别过滤通过 0· 2 μ m PFPE过滤器3-4次。该加工包括以1500rpm在200mm裸露的硅晶片上旋涂过滤的 溶液，接着在l〇〇°C软烘焙60秒。然后使用THERMA-WAVE光谱椭圆计（型号7341)测量膜 厚度。膜厚度列于表2。 表2
[0042] 目测得到没有明显缺陷或雾度的质量极好的膜。然后将涂覆的晶片切割成大约 5x5cm(2x2英寸）的试样，然后在400°C在空气中进行固化烘焙不同的固化时间30, 60, 90 和120分钟。测试结果显示在高达90分钟的固化时间内恒定的膜厚度。在120分钟固化 时间时观察到膜厚度略微下降。测试结果显示，如果膜在400°C固化30分钟，在同样的温度 下再烘焙60分钟膜厚度仍保持不变。
[0043] 实施例12 :如下制备具有氧化铝阳.挡层和氧化硅阳.挡层的多层阳.挡结构。在加工 之前，实施例5的反应混合物过滤通过1. 0 μ m PFPE过滤器一次，然后通过0. 2 μ m PFPE过 滤器多次。
[0044] 使用已知方法制备倍半硅氧烷材料，为95/5丙二醇单甲基醚乙酸酯（PGMEA)/乳 酸乙酯溶剂体系中50/9/15/26原硅酸四乙酯/苯基-三甲基硅烷/乙烯基-三甲基硅烷 /甲基-三甲基硅烷的低聚物。制剂包含2. 18wt%固体。
[0045] 以1500rpm将实施例5的反应混合物旋涂在硅晶片上，之后在350°C固化烘焙60 秒以形成含氧化铝的膜。以1500rpm将倍半硅氧烷材料的膜旋涂在固化的含氧化铝膜上， 然后通过在350°C烘焙60秒进行固化，以形成含氧化硅的膜。然后使用实施例11所述的 THERMA-WAVE光谱椭圆计测量层叠体的总膜厚度，发现厚度为1902 A。
[0046] 实施例13 :重复实施例12的步骤，不同之处在于使用实施例6的反应混合物作为 有机铝化合物涂料组合物。然后使用实施例11所述的THERMA-WAVE光谱椭圆计测量层叠 体的总膜厚度，发现厚度为1950 A。
[0047] 实施例14 :重复实施例13的步骤，不同之处在于在固化倍半硅氧烷膜之后，将实 施例6的有机铝化合物涂料组合物的第二层旋涂在固化的含氧化硅的膜表面，在同样的条 件下固化以形成第二含氧化铝的膜。接着，将倍半硅氧烷组合物的第二层旋涂在第二含氧 化铝的膜的表面上，然后固化以形成第二含氧化硅的膜。该方法得到具有交替含氧化铝膜 和含氧化硅膜的多层（4-层）阻挡结构。
[0048] 实施例15 :以1500rpm将实施例6的有机铝化合物反应混合物旋涂在硅晶片上， 之后在350°C固化烘焙2分钟以形成含氧化错的膜。以1500rpm将聚苯（polyphenylene) 树脂（购自陶氏化学公司（The Dow Chemical Company)，商品名SiLK树脂）（10. 8wt% 88. 2/9. 8/2PGMEA/环戊烷/ γ - 丁内酯溶液）的膜旋涂在固化的含氧化铝的膜上，接着在 380Γ固化2分钟。接着，通过将实施例6的组合物层涂覆在固化的聚苯膜的表面上从而在 固化的聚苯膜上形成第二含氧化铝的膜，然后在380Γ烘焙30分钟。在第二含氧化铝膜上 旋涂第二聚苯层，在同样的条件下固化为第一聚苯膜。得到的4-层层叠体具有含氧化铝膜 和固化的聚苯膜的交替层。
[0049] 实施例16 :以1500rpm将实施例6的有机铝化合物涂料组合物旋涂在裸露的硅晶 片上，之后在400°C固化30分钟以形成含氧化铝的膜。在固化的含氧化铝的膜上旋涂实施 例6的有机铝化合物涂料组合物的另一层，然后在同样的条件下固化。这些涂覆和固化步 骤进行超过2次以提供4-层含氧化铝的阻挡层叠体。
[0050] 实施例17:重复实施例1的配体交换过程，不同之处在于用酒石酸二乙酯代替乳 酸乙酯。
[0051] 实施例18 :重复实施例1的配体交换过程，不同之处在于用乙醇酸甲酯代替乳酸 乙酯。
[0052] 实施例19 :重复实施例1的配体交换过程，不同之处在于用乙醇酸乙酯代替乳酸 乙酯。
[0053] 实施例20 :重复实施例1的配体交换过程，不同之处在于用2-甲基-1- 丁醇代替 乳酸乙酯。
[0054] 实施例21 :重复实施例1的配体交换过程，不同之处在于用4-甲基-2-戊醇代替 乳酸乙酯。
【主权项】
1. 一种形成氧化铝层的方法，所述方法包括：提供基材；在所述基材上设置涂料组合 物层，其中所述涂料组合物包含：（i)式Α?ιΛιΛ的有机铝化合物，其中(Ci-Q)烷氧基； L2= (C 5-C2。）β -二酮根或ORSr (C 4-C1Q)烃基部分；X是0-2的整数；y是1-3的整数； 和x+y = 3 ;和（ii)式H0Ri的有机溶剂；以及固化所述涂料组合物，以在所述基材上形成 含氧化铝的层。2. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，X = 0或1。3. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，X = 0。4. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述（C4-C1(])烃基部分包含一种或多种选自 下组的取代基：羟基、羧酸和羧酸（Q-Q)烷基酯。5. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，L (C i-C4)烷氧基。6. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂料组合物通过加热进行固化。7. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂料组合物通过旋涂、喷涂或狭缝模头 涂覆设置在所述基材上。8. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基材是电子器件基材。9. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基材是柔性显示器基材或光伏器件基 材。10. 如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述柔性显示器基材包括发光二极管。11. 如权利要求1所述的方法，所述方法还包括在所述含氧化铝的层上设置第二材料 层，并固化所述第二材料层。
【专利摘要】使用有机铝涂料组合物在各种基材上沉积膜，随后将所述膜固化以形成用于多种制备应用的氧化物膜，特别是用于可以使用气体阻挡层的情况。
【IPC分类】C09D1/00, H01L51/46, C01F7/02, C09D5/00, H01L51/48, H01L51/56, H01L51/54
【公开号】CN105623320
【申请号】CN201410625314
【发明人】D·王, P·特雷福纳斯三世, K·M·奥康奈利
【申请人】罗门哈斯电子材料有限公司
【公开日】2016年6月1日
【申请日】2014年11月7日