带有粘合剂层的光学膜及液晶显示装置的制造方法

带有粘合剂层的光学膜及液晶显示装置的制造方法
【专利摘要】本发明提供一种带有粘合剂层的光学膜，其包含光学膜、以及层叠于其至少一个面上的粘合剂层，粘合剂层由含有(甲基)丙烯酸系树脂(A)、硅烷化合物(B)、以及离子性化合物(C)的粘合剂组合物构成，硅烷化合物(B)是以式(I)表示的硅烷化合物，离子性化合物(C)的阴离子是选自规定的组中的阴离子，并提供包含该带有粘合剂层的光学膜的液晶显示装置。
【专利说明】
带有粘合剂层的光学膜及液晶显示装置
技术领域
[0001] 本发明设及带有粘合剂层的光学膜、W及包含该光学膜的液晶显示装置。
【背景技术】
[0002] W在偏振片的一面或两面层叠贴合透明树脂膜而成的偏振板为代表的光学膜作 为构成液晶显示装置等图像显示装置的光学构件得到广泛的使用。偏振板之类的光学膜经 常被夹隔着粘合剂层与其他的构件(例如液晶显示装置中的液晶单元等)贴合使用(例如参 照日本特开2010-229321号公报）。因此，作为光学膜，已知有在其一个面预先设有粘合剂 层的带有粘合剂层的光学膜。另外，为了赋予防静电干扰性，还已知有在粘合剂层中含有离 子性化合物的光学膜。

【发明内容】

[0003] 近年来，液晶显示装置被扩展到W智能手机和平板型终端、车载用导航系统为代 表的具有触摸面板功能的移动设备用途。在此种触摸输入式液晶显示装置中带有粘合剂层 的光学膜有时也被将其粘合剂层例如夹隔着树脂层、或直接接触地配置于例如由金属布线 构成的金属层上。然而，在将由金属材料构成的金属层与含有离子性化合物的粘合剂层组 合的构成中，在高溫高湿环境下会有金属层发生腐蚀的情况。在腐蚀当中，由于点腐蚀在金 属层的厚度薄的情况下、或金属层为金属布线时其线宽窄的情况下，会贯穿金属层，因此尤 其成为问题。
[0004] 本发明的目的在于，提供可W抑制金属布线层之类的金属层的腐蚀的带有粘合剂 层的光学膜、W及包含该光学膜的液晶显示装置。
[0005] 本发明提供W下所示的带有粘合剂层的光学膜、W及包含该光学膜的液晶显示装 置、W及粘合剂组合物。
[0006] [1]-种带有粘合剂层的光学膜，其包含光学膜、W及层叠于其至少一个面上的粘 合剂层，
[0007] 所述粘合剂层由含有（甲基)丙締酸系树脂(A)、硅烷化合物(B)、W及离子性化合 物(C)的粘合剂组合物构成，
[000引所述硅烷化合物(B)为W下述式（I)表示的硅烷化合物：
[0009] [化1]
[0010]
[0011]式中，A表示碳原子数1~20的烧二基或碳原子数3~20的2价的脂环式控基，构成 该烧二基及该脂环式控基的一C也一也可W由一0-或一C(=0)-置换，Ri表示碳原子数1~ 5的烷基，护、护、护、护及护各自独立地表示碳原子数1~5的烷基或碳原子数1~5的烷氧基。
[0012]所述离子性化合物(C)的阴离子是选自下述组中的阴离子：
[001引[化 2]
[0014]
[0015] [2]根据[1]中记载的带有粘合剂层的光学膜，其中，W所述式（I)表示的硅烷化合 物(B)是W下述式（II)表示的硅烷化合物：
[0016] [化3]
[0017]
[001引式中，1?1、护、於、护及护分别表示与上述相同的含义，护表示碳原子数1~5的烷基，111 表示1~20的整数。
[0019] [3]根据[2]中记载的带有粘合剂层的光学膜，其中，所述式（II)中的m为4~20的 整数。
[0020] [4]根据[2]中记载的带有粘合剂层的光学膜，其中，所述式（II)中的m为6~8的整 数。
[0021] [引根据[2]中记载的带有粘合剂层的光学膜，其中，所述式(II)中的m为6。
[0022] [6]根据[1]~[引中任一项记载的带有粘合剂层的光学膜，其中，所述硅烷化合物 (B)为1，6 -双(Ξ甲氧基甲娃烷基)己烧。
[0023] [7]根据[1]~[6]中任一项记载的带有粘合剂层的光学膜，其中，所述离子性化合 物(C)的阳离子为具有包含不饱和键的含有氮原子的杂环结构的阳离子。
[0024] [引根据[1]~[7]中任一项记载的带有粘合剂层的光学膜，其中，所述离子性化合 物(C)的阳离子为W下述式(III)表示的化晚鐵阳离子：
[0025] [化4]
[0026]
[0027] 式中，R8~RU各自独立地表示氨原子、可W具有取代基的烷基、可W具有取代基的 締基、可W具有取代基的烘基、可W具有取代基的芳基、可W具有取代基的杂环基、径基、酸 基、簇基、幾基、或面素原子，也可W在相邻的取代基之间形成环。
[0028] [9]根据[1]~[引中任一项记载的带有粘合剂层的光学膜，其中，所述粘合剂组合 物中的所述硅烷化合物(B)的含量相对于所述（甲基)丙締酸系树脂(A)IOO重量份为0.01~ 10重量份。
[0029] [10]根据[1]~[9]中任一项记载的带有粘合剂层的光学膜，其中，所述（甲基)丙 締酸系树脂(A)含有来自于具有径基的单体的构成单元。
[0030] 山]根据山~[10]中任一项记载的带有粘合剂层的光学膜，其中，所述（甲基)丙 締酸系树脂(A)含有来自于均聚物的玻璃化转变溫度低于(TC的丙締酸烷基醋(al)的构成 单元、W及来自于均聚物的玻璃化转变溫度为(TC W上的丙締酸烷基醋(a2)的构成单元。
[0031] [12]根据山~山忡任一项记载的带有粘合剂层的光学膜，其中，所述（甲基)丙 締酸系树脂(A)的重均分子量为50万~250万。
[0032] [13]根据[1]~[12]中任一项记载的带有粘合剂层的光学膜，其中，所述粘合剂组 合物还含有异氯酸醋系交联剂(D)。
[0033] [14]根据[1]~[13]中任一项记载的带有粘合剂层的光学膜，其中，所述粘合剂组 合物实质上不含有Ξ挫系化合物。
[0034] [15]-种液晶显示装置，其包含[1]~[14]中任一项记载的带有粘合剂层的光学 膜。
[0035] [16]-种粘合剂组合物，其含有（甲基)丙締酸系树脂(A)、硅烷化合物(B)、W及离 子性化合物(C)，
[0036] 所述硅烷化合物(B)为W下述式（I)表示的硅烷化合物：
[0037] [化5]
[00；3 引
[0039] 式中，A表示碳原子数1~20的烧二基或碳原子数3~20的2价的脂环式控基，构成 该烧二基及该脂环式控基的一C出一也可W由一0-或一C(=0)-置换，Ri表示碳原子数1~ 5的烷基，护、护、於、护及护各自独立地表示碳原子数1~5的烷基或碳原子数1~5的烷氧基。
[0040] 所述离子性化合物(C)的阴离子为选自下述组中的阴离子：
[0041 ][化6]
[0042]
[0043] 所述粘合剂组合物被用于形成层叠在金属层上的粘合剂层。
[0044] 根据本发明，可W提供能够抑制金属层的腐蚀的带有粘合剂层的光学膜、W及包 含该光学膜的液晶显示装置。
【附图说明】
[0045] 图1是表示本发明的带有粘合剂层的光学膜的一例的示意剖面图。
[0046] 图2是表示偏振板的层构成的一例的示意剖面图。
[0047] 图3是表示偏振板的层构成的另一例的示意剖面图。
[0048] 图4是表示光学层叠体的层构成的一例的示意剖面图。
[0049] 图5是表示光学层叠体的层构成的另一例的示意剖面图。
[0050] 图6是表示光学层叠体的层构成的另一例的示意剖面图。
[0051] 图7是表示光学层叠体的层构成的另一例的示意剖面图。
[0052] 图8是表示光学层叠体的层构成的另一例的示意剖面图。
【具体实施方式】
[0053] <带有粘合剂层的光学膜>
[0054] 图1是表示本发明的带有粘合剂层的光学膜的一例的示意剖面图。如图1所示本发 明的带有粘合剂层的光学膜1包含光学膜10、和层叠于其至少一个面上的粘合剂层20。粘合 剂层20通常被直接层叠于光学膜10的表面。
[0055] 光学膜10既可W是单层结构的光学膜，也可W是多层结构的光学膜。粘合剂层20 由含有（甲基)丙締酸系树脂(A)、硅烷化合物(B)、W及离子性化合物(C)、优选还含有异氯 酸醋系交联剂(D)的粘合剂组合物构成。该粘合剂组合物也可W还含有其他的成分。本说明 书中"(甲基)丙締酸"是指选自丙締酸及甲基丙締酸中的至少一方。对于"(甲基俩締酸醋" 或"(甲基)丙締酷基"等也相同。
[0056] 〔1)光学膜
[0057] 带有粘合剂层的光学膜1所具备的光学膜10可W是能够装入液晶显示装置等图像 显示装置的各种光学膜(具有光学特性的膜）。光学膜10既可W是单层结构的光学膜，也可 W是多层结构的光学膜。单层结构的光学膜的具体例除了偏振片W外，还包括相位差膜、亮 度提高膜、防眩膜、防反射膜、扩散膜、聚光膜等光学功能性膜。多层结构的光学膜的具体例 包括偏振板、相位差板。本说明书中所谓偏振板是指在偏振片的至少一个面层叠有树脂膜 或树脂层的构件。所谓相位差板，是指在相位差膜的至少一个面层叠有树脂膜或树脂层的 构件。光学膜10优选为偏振板、偏振片、相位差板或相位差膜，更优选为偏振板或偏振片。 [0化引〔1 - 1)偏振板
[0059] 图2及图3是表示偏振板的层构成的例子的示意剖面图。图2中所示的偏振板10a是 在偏振片2的一个面层叠贴合有第一树脂膜3的单面保护偏振板，图3中所示的偏振板10b是 还在偏振片2的另一个面层叠贴合有第二树脂膜4的双面保护偏振板。第一、第二树脂膜3、4 可W夹隔着未图示的胶粘剂层或粘合剂层与偏振片2贴合。偏振板lOaUOb也可W包括第 一、第二树脂膜3、4W外的其他的膜或层。
[0060] 偏振片2是具备吸收具有与其吸收轴平行的振动面的直线偏振光、透射具有与吸 收轴正交的（与透射轴平行的)振动面的直线偏振光的性质的膜，例如可W使用使二色性色 素吸附于聚乙締醇系树脂膜并取向而得的膜。作为二色性色素，可W使用舰、二色性有机染 料。
[0061] 聚乙締醇系树脂可W通过将聚乙酸乙締醋系树脂皂化而得到。作为聚乙酸乙締醋 系树脂，除了作为乙酸乙締醋的均聚物的聚乙酸乙締醋W外，还可W举出能够与乙酸乙締 醋共聚的单体与乙酸乙締醋的共聚物等。作为能够与乙酸乙締醋共聚的单体，可W举出不 饱和簇酸、締控、乙締基酸、不饱和横酸、具有锭基的（甲基)丙締酷胺等。
[0062] 聚乙締醇系树脂的皂化度通常为85~100摩尔％，优选为98摩尔％ ^上。聚乙締醇 系树脂也可W被改性，例如也可W使用由醒类改性了的聚乙締醇缩甲醒或聚乙締醇缩乙醒 等。聚乙締醇系树脂的平均聚合度通常为1000~10000,优选为1500~5000。聚乙締醇系树 脂的平均聚合度可W依照JIS Κ 6726求出。
[0063] 通常W将聚乙締醇系树脂制膜而得的膜作为偏振片2的原材料膜使用。聚乙締醇 系树脂可W利用公知的方法制膜。原材料膜的厚度通常为1~150μπι，如果还考虑拉伸的容 易度等，则优选为lOymW上。
[0064] 偏振片2例如可W如下制造，即，对原材料膜实施单轴拉伸的工序、用二色性色素 将膜染色而使之吸附该二色性色素的工序、用棚酸水溶液处理膜的工序、W及对膜进行水 洗的工序，最后加 W干燥而制造。偏振片2的厚度通常为1~30皿，从带有粘合剂层的光学膜 1的薄膜化的观点考虑，优选为下，更优选为15ymW下，进一步优选为lOymW下。
[0065] 使二色性色素吸附于聚乙締醇系树脂膜并取向而成的偏振片2可W利用如下的方 法1获得，即，作为原材料膜使用聚乙締醇系树脂膜的单独膜，并对该膜实施单轴拉伸处理 及二色性色素的染色处理，除此W外，还可W利用方法2获得，即，向基材膜涂布含有聚乙締 醇系树脂的涂布液(水溶液等），使之干燥而得到具有聚乙締醇系树脂层的基材膜后，将其 与基材膜一起进行单轴拉伸，对拉伸后的聚乙締醇系树脂层实施二色性色素的染色处理， 然后剥离除去基材膜。作为基材膜，可W使用包含与能够构成后述的第一、第二树脂膜3、4 的热塑性树脂相同的热塑性树脂的膜，优选为包含聚对苯二甲酸乙二醇醋等聚醋系树脂、 聚碳酸醋系树脂、Ξ乙酷纤维素等纤维素系树脂、降冰片締系树脂等环状聚締控系树脂、聚 苯乙締系树脂等的膜。根据上述方法2,容易制作薄膜的偏振片2,也容易制作例如厚度7μπι W下的偏振片2。
[0066] 第一、第二树脂膜3、4可W各自独立地为包含具有透光性的、优选在光学上透明的 热塑性树脂、例如链状聚締控系树脂(聚乙締系树脂、聚丙締系树脂等）、环状聚締控系树脂 (降冰片締系树脂等)之类的聚締控系树脂;纤维素系树脂(纤维素醋系树脂等）；聚醋系树 月旨(聚对苯二甲酸乙二醇醋、聚糞二甲酸乙二醇醋、聚对苯二甲酸下二醇醋等）；聚碳酸醋系 树脂；（甲基)丙締酸系树脂;聚苯乙締系树脂;聚酸酸酬系树脂;聚讽系树脂、或它们的混合 物、共聚物等的膜。其中，第一、第二树脂膜3、4优选分别由选自环状聚締控系树脂、聚碳酸 醋系树脂、纤维素系树脂、聚醋系树脂、W及（甲基)丙締酸系树脂中的树脂构成，更优选由 选自纤维素系树脂及环状聚締控系树脂中的树脂构成。
[0067] 作为链状聚締控系树脂，除了聚乙締树脂、聚丙締树脂等链状締控的均聚物W外， 还可W举出包含巧巾W上的链状締控的共聚物。
[0068] 环状聚締控系树脂是作为聚合单元包含W降冰片締、四环十二締(别名:二甲桥八 氨糞)或它们的衍生物为代表例的环状締控的树脂的总称。如果要举出环状聚締控系树脂 的具体例，则为环状締控的开环(共)聚合物及其氨化物、环状締控的加成聚合物、环状締控 与乙締、丙締之类的链状締控或具有乙締基的芳香族化合物的共聚物、W及将它们用不饱 和簇酸或其衍生物改性了的改性(共)聚合物等。其中，优选使用作为环状締控使用了降冰 片締或稠环降冰片締系单体等降冰片締系单体的降冰片締系树脂。
[0069] 纤维素系树脂优选为纤维素醋系树脂，即纤维素的部分或完全醋化物等，例如可 W举出纤维素的乙酸醋、丙酸醋、下酸醋、它们的混合醋等。其中，优选使用Ξ乙酷纤维素、 二乙酷纤维素、纤维素乙酸醋丙酸醋、纤维素乙酸醋下酸醋等。
[0070] 聚醋系树脂是具有醋键的、上述纤维素醋系树脂W外的树脂，一般是包含多元簇 酸或其衍生物与多元醇的缩聚物的树脂。聚醋系树脂的具体例包括聚对苯二甲酸乙二醇 醋、聚对苯二甲酸下二醇醋、聚糞二甲酸乙二醇醋、聚糞二甲酸下二醇醋、聚对苯二甲酸丙 二醇醋、聚糞二甲酸丙二醇醋、聚对苯二甲酸环己烧二甲醇醋、聚糞二甲酸环己烧二甲醇 醋。
[0071] 聚碳酸醋系树脂是由碳酸和二醇或双酪形成的聚醋。其中，从耐热性、耐候性及耐 酸性的观点考虑，优选使用在分子链中具有二苯基烧控的芳香族聚碳酸醋。作为聚碳酸醋， 可W例示出由2,2 -双(4-径基苯基）丙烷（别名双酪A)、2,2-双(4-径基苯基）下烧、1， 1-双(4-径基苯基)环己烧、1，1一双(4-径基苯基)异下烧、1，1一双(4-径基苯基）乙烧 之类的双酪衍生的聚碳酸醋。
[0072] 能够构成第一、第二树脂膜3、4的（甲基)丙締酸系树脂可W是W来自于甲基丙締 酸醋的构成单元作为主体的（例如含有50重量％ W上的该构成单元的）聚合物，优选为在其 上共聚有其他共聚成分的共聚物。（甲基）丙締酸系树脂也可W包含巧巾W上的来自于甲基 丙締酸醋的构成单元。作为甲基丙締酸醋，可W举出甲基丙締酸甲醋、甲基丙締酸乙醋、甲 基丙締酸下醋等甲基丙締酸的Cl~C4烷基醋。
[0073] 作为能够与甲基丙締酸醋共聚的共聚成分，可W举出丙締酸醋。丙締酸醋优选为 丙締酸甲醋、丙締酸乙醋、丙締酸下醋、丙締酸2-乙基己醋等丙締酸的Cl~C8烷基醋。其他 共聚成分的具体例可W举出（甲基)丙締酸等不饱和酸类;苯乙締、面代苯乙締、α-甲基苯 乙締、乙締基甲苯等芳香族乙締基化合物；（甲基）丙締腊等乙締基氯化合物；马来酸酢、巧 康酸酢等不饱和酸酢；苯基马来酷亚胺、环己基马来酷亚胺等不饱和酷亚胺等在分子内具 有1个聚合性碳一碳双键的、丙締酸醋W外的化合物。也可W将在分子内具有2个W上的聚 合性碳一碳双键的化合物作为共聚成分使用。共聚成分既可W仅使用1种，也可W并用巧中 社。
[0074] 从可W提高膜的耐久性的方面考虑，（甲基)丙締酸类树脂也可W在高分子主链中 具有环结构。环结构优选为环状酸酢结构、环状酷亚胺结构、内醋环结构等杂环结构。作为 环状酸酢结构的具体例，可W举出戊二酸酢结构、下二酸酢结构，作为环状酷亚胺结构的具 体例，可W举出戊二酷亚胺结构、下二酷亚胺结构，作为内醋环结构的具体例，可W举出下 内醋环结构、戊内醋环结构。
[0075] 从制成膜的制膜性、膜的抗冲击性等观点考虑，（甲基)丙締酸系树脂也可W含有 丙締酸系橡胶粒子。所谓丙締酸系橡胶粒子，是W弹性聚合物作为必需成分的粒子，所述弹 性聚合物W丙締酸醋作为主体，可W举出实质上仅包含该弹性聚合物的单层结构的粒子、 W弹性聚合物作为1个层的多层结构的粒子。作为弹性聚合物的例子，可W举出W丙締酸烧 基醋作为主成分、并共聚了能够与之共聚的其他乙締基单体及交联性单体的交联弹性共聚 物。作为成为弹性聚合物的主成分的丙締酸烷基醋，例如可W举出丙締酸甲醋、丙締酸乙 醋、丙締酸下醋、丙締酸2-乙基己醋等丙締酸的Cl~C8烷基醋。烷基的碳原子数优选为4W 上。
[0076] 作为能够与丙締酸烷基醋共聚的其他乙締基单体，可W举出在分子内具有1个聚 合性碳一碳双键的化合物，更具体而言，可W举出甲基丙締酸甲醋之类的甲基丙締酸醋、苯 乙締之类的芳香族乙締基化合物、（甲基)丙締腊之类的乙締基氯化合物等。作为交联性单 体，可W举出在分子内具有至少2个聚合性碳一碳双键的交联性的化合物，更具体而言，可 W举出乙二醇二（甲基）丙締酸醋、下二醇二（甲基）丙締酸醋等多元醇的（甲基）丙締酸醋、 (甲基)丙締酸締丙醋等（甲基)丙締酸的締基醋、二乙締基苯等。
[0077] 丙締酸系橡胶粒子的含量相对于（甲基)丙締酸系树脂100重量份，优选为5重量份 W上，更优选为10重量份W上。如果丙締酸系橡胶粒子的含量太多，则膜的表面硬度降低， 另外，在对膜实施表面处理的情况下对表面处理剂中的有机溶剂的耐溶剂性可能降低。因 而，丙締酸系橡胶粒子的含量相对于（甲基）丙締酸系树脂100重量份，通常为80重量份W 下，优选为60重量份W下。
[0078] 第一、第二树脂膜3、4可W含有本发明的技术领域中的通常的添加剂。添加剂的具 体例例如包括紫外线吸收剂、红外线吸收剂、有机系染料、颜料、无机系色素、抗氧化剂、防 静电干扰剂、表面活性剂、润滑剂、分散剂、热稳定剂等。
[0079] 作为紫外线吸收剂，可W举出水杨酸醋化合物、二苯甲酬化合物、苯并Ξ挫化合 物、Ξ嗦化合物、（甲基)丙締酸氯基醋化合物、儀络合物等。
[0080] 第一、第二树脂膜3、4可W分别是未被拉伸的膜、或被单轴或双轴拉伸了的膜的任 意一种。双轴拉伸既可W是沿2个拉伸方向同时进行拉伸的同时双轴拉伸，也可W在沿规定 方向拉伸后沿另外的方向进行拉伸的逐次双轴拉伸。第一树脂膜3和/或第二树脂膜4可W 是担负保护偏振片2的作用的保护膜，也可W是像后述的相位差膜那样的兼具光学功能的 保护膜。相位差膜是显示出光学各向异性的光学膜。例如，可W通过对包含上述热塑性树脂 的膜进行拉伸(单轴拉伸或双轴拉伸等）、或在该热塑性树脂膜上形成液晶层等而制成被赋 予了任意的相位差值的相位差膜。
[0081] 第一树脂膜3及第二树脂膜4既可W是由相同的热塑性树脂构成的膜，也可W是由 彼此不同的热塑性树脂构成的膜。第一树脂膜3及第二树脂膜4在厚度、添加剂的有无或其 种类、相位差特性等方面既可W相同，也可W不同。
[0082] 第一树脂膜3和/或第二树脂膜4也可W在其外表面(与偏振片2相反一侧的表面） 具备硬涂层、防眩层、防反射层、光扩散层、防静电干扰层、防污层、导电层等表面处理层(涂 覆层）。
[0083] 第一树脂膜3及第二树脂膜4的厚度分别通常为1~150μπι，优选为5~1(Κ)μπι，更优 选为5~60μπι。该厚度也可W是50ymW下，甚至是30ymW下。减小第一、第二树脂膜3、4的厚 度，有利于带有粘合剂层的光学膜1及包含该光学膜1的光学层叠体的薄膜化，进而有利于 包含带有粘合剂层的光学膜1或光学层叠体的液晶显示装置的薄膜化。
[0084] 特别是对于面向智能手机、平板型终端运样的中小型的偏振板而言，从薄膜化的 要求考虑，作为第一树脂膜3和/或第二树脂膜4经常使用厚度30ymW下的薄的树脂膜，而此 种偏振板抑制偏振片2的收缩力的力弱，耐久性容易不充分。根据本发明，即使在将此种偏 振板作为光学膜10使用的情况下，也可W提供具有良好的耐久性的带有粘合剂层的光学膜 1、W及包含该光学膜1的光学层叠体。所谓带有粘合剂层的光学膜1及光学层叠体的耐久性 是指如下的性质，即，例如在高溫环境下、高溫高湿环境下、反复高溫与低溫的环境下等，可 W抑制粘合剂层20和与之相邻的光学构件的界面中的翅起或脱落、粘合剂层20的发泡等不 佳状况。
[0085] 另外，从偏振板的薄膜化的观点考虑，像图2所示的偏振板10a那样仅在偏振片2的 一面配置树脂膜的构成是有利的构成。该情况下通常在偏振片2的另一个面直接贴合粘合 剂层20而成为带有粘合剂层的光学膜1(参照图4)。在此种构成的偏振板的情况下，因粘合 剂层20中所含的离子性化合物而在高溫高湿环境下使偏振板的光学性能降低的问题变得 尤其明显。根据本发明，即使在将此种偏振板作为光学膜10使用的情况下，也可W提供具有 良好的光学耐久性(可W抑制光学特性的劣化的性质）的带有粘合剂层的光学膜1、W及包 含该光学膜1的光学层叠体。
[0086] 第一、第二树脂膜3、4可W夹隔着胶粘剂层或粘合剂层与偏振片2贴合。作为形成 胶粘剂层的胶粘剂，可W使用水系胶粘剂或活性能量射线固化性胶粘剂。
[0087] 作为水系胶粘剂，可W举出包含聚乙締醇系树脂水溶液的胶粘剂、水系二液型氨 基甲酸醋系乳液胶粘剂等。其中，适合使用包含聚乙締醇系树脂水溶液的水系胶粘剂。作为 聚乙締醇系树脂，除了可W使用对作为乙酸乙締醋的均聚物的聚乙酸乙締醋进行皂化处理 而得的乙締醇均聚物W外，还可W使用对乙酸乙締醋和能够与之共聚的其他单体的共聚物 进行皂化处理而得的聚乙締醇系共聚物、或将它们的径基部分地改性了的改性聚乙締醇系 聚合物等。水系胶粘剂可W含有醒化合物、环氧基化合物、Ξ聚氯胺系化合物、径甲基化合 物、异氯酸醋化合物、胺化合物、多价金属盐等交联剂。
[0088] 在使用水系胶粘剂的情况下，在将偏振片2与第一、第二树脂膜3、4贴合后，为了除 去水系胶粘剂中所含的水优选实施使之干燥的工序。也可W在干燥工序后，设置例如在20 ~45°C左右的溫度进行熟化的熟化工序。
[0089] 上述所谓活性能量射线固化性胶粘剂，是指因照射紫外线或电子束等活性能量射 线而固化的胶粘剂，例如可W举出含有聚合性化合物及光聚合引发剂的固化性组合物、含 有光反应性树脂的固化性组合物、含有粘结剂树脂及光反应性交联剂的固化性组合物等。 优选为紫外线固化性胶粘剂。作为聚合性化合物，可W举出光固化性环氧系单体、光固化性 (甲基)丙締酸系单体、光固化性氨基甲酸醋系单体等光聚合性单体、或来自于光聚合性单 体的低聚物。作为光聚合引发剂，可W举出含有因活性能量射线的照射而产生中性自由基、 阴离子自由基、阳离子自由基等活性中屯、的物质的光聚合引发剂。作为含有聚合性化合物 及光聚合引发剂的活性能量射线固化性胶粘剂，可W优选使用含有光固化性环氧系单体及 光阳离子聚合引发剂的固化性组合物、含有光固化性（甲基)丙締酸系单体及光自由基聚合 引发剂的固化性组合物、或运些固化性组合物的混合物。
[0090] 在使用活性能量射线固化性胶粘剂的情况下，在将偏振片2与第一、第二树脂膜3、 4贴合后，根据需要进行干燥工序，然后进行通过照射活性能量射线而使活性能量射线固化 性胶粘剂固化的固化工序。活性能量射线的光源没有特别限定，然而优选在波长400nmW下 具有发光分布的紫外线，具体而言，可W使用低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压 水银灯、化学灯、黑光灯、微波激发水银灯、金属面化物灯等。
[0091] 在将偏振片2与第一、第二树脂膜3、4贴合时，可W对它们的至少任意一方的贴合 面实施皂化处理、电晕处理、等离子体处理等表面活性化处理。在偏振片2的两面贴合树脂 膜的情况下用于将运些树脂膜贴合的胶粘剂既可W是同种的胶粘剂，也可W是不同种的胶 粘剂。
[0092] 偏振板10a、10b可W还包含其他的膜或层。其具体例除了后述的相位差膜W外，还 可W是亮度提高膜、防眩膜、防反射膜、扩散膜、聚光膜、粘合剂层20W外的粘合剂层、涂覆 层、保护膜等。保护膜是出于保护偏振板等光学膜10的表面免受损伤或污染的目的使用的 膜，惯例是在将带有粘合剂层的光学膜1贴合在例如金属层30上后，被剥离除去。
[0093] 保护膜通常由基材膜、和层叠于其上的粘合剂层构成。基材膜可W由热塑性树脂、 例如聚乙締系树脂、聚丙締系树脂等聚締控系树脂;聚对苯二甲酸乙二醇醋或聚糞二甲酸 乙二醇醋等聚醋系树脂;聚碳酸醋系树脂；（甲基)丙締酸系树脂等构成。
[0094] 〔1-2)相位差板
[0095] 相位差板中所含的相位差膜如上所述，是显示出光学各向异性的光学膜，作为可 W用于第一、第二树脂膜3、4中的相位差膜，可W是对包含上面例示的热塑性树脂、W及例 如聚乙締醇系树脂、聚芳醋系树脂、聚酷亚胺系树脂、聚酸讽系树脂、聚偏二氣乙締/聚甲基 丙締酸甲醋系树脂、液晶聚醋系树脂、乙締一乙酸乙締醋共聚物皂化物、聚氯乙締系树脂等 的树脂膜拉伸为1.01~6倍左右而得的拉伸膜。其中，优选为对聚碳酸醋系树脂膜或环状締 控系树脂膜、（甲基)丙締酸系树脂膜或纤维素系树脂膜进行单轴拉伸或双轴拉伸而得的拉 伸膜。另外，在本说明书中，零延迟膜也包含于相位差膜中（但是也可W作为保护膜使用。）。 除此W外，也可W将被称作单轴性相位差膜、宽视角相位差膜、低光弹性模量相位差膜等的 膜作为相位差膜使用。
[0096] 所谓零延迟膜，是指面内相位差值Re及厚度方向相位差值Rth都为一15~15nm的 膜。该相位差膜可W适用于WS模式的液晶显示装置。面内相位差值Re及厚度方向相位差值 R化优选都为一10~10加1，更优选都为一5~5加1。此处所说的面内相位差值Re及厚度方向相 位差值R化是波长590nm时的值。
[0097] 面内相位差值Re及厚度方向相位差值R化分别由下式定义：
[009引 Re=(nx_ny)Xd
[0099] Κ&=〔 (nx+ny)/2_nz) Xd
[0100] 式中，nx是膜面内的慢轴方向（X轴方向）的折射率，ny是膜面内的快轴方向（在面内 与X轴正交的y轴方向）的折射率，nz是膜厚度方向（垂直于膜面的Z轴方向）的折射率，d为膜 的厚度。
[0101] 作为零延迟膜，可W使用例如包含纤维素系树脂、链状聚締控系树脂及环状聚締 控系树脂等聚締控系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇醋系树脂或（甲基）丙締酸系树脂的树脂 膜。特别是由于相位差值的控制容易、获取也容易，因此优选使用纤维素系树脂、聚締控系 树脂或（甲基)丙締酸系树脂。
[0102] 另外，利用液晶性化合物的涂布、取向来体现出光学各向异性的膜、利用无机层状 化合物的涂布来体现出光学各向异性的膜也可W作为相位差膜使用。作为此种相位差膜， 有被称作溫度补偿型相位差膜的相位差膜，另外，还有由JX日矿日石能源(株）W "N胡莫"的 商品名销售的将棒状液晶倾斜取向而得的膜、由富±胶片(株）W"WV膜"的商品名销售的将 圆盘状液晶倾斜取向而得的膜、由住友化学(株）W "VAC膜"的商品名销售的完全双轴取向 型的膜、同样由住友化学(株)W "new VAC膜"的商品名销售的双轴取向型的膜等。
[0103] 层叠于相位差膜的至少一个面的树脂膜例如可W是上述的保护膜。
[0104] 〔2)粘合剂层
[0105] 层叠于光学膜10的至少一个面的粘合剂层20由含有（甲基)丙締酸系树脂(A)、娃 烧化合物(B)、W及离子性化合物(C)的粘合剂组合物构成，优选还含有异氯酸醋系交联剂 (D)。在该粘合剂组合物中硅烷化合物(B)为W下述式(I)表示的硅烷化合物：
[0106] [化7]
[0107]
[0108] 式中，A表示碳原子数1~20的烧二基或碳原子数3~20的2价的脂环式控基，构成 该烧二基及该脂环式控基的一C出一也可W由一0-或一C(=0)-置换，Ri表示碳原子数1~ 5的烷基，护、护、於、护及护各自独立地表示碳原子数1~5的烷基或碳原子数1~5的烷氧基。
[0109] 另外，在上述粘合剂组合物中离子性化合物(C)是由阳离子和阴离子构成的化合 物，该阴离子为选自下述组中的阴离子：
[0110] [化 8]
[0111]
[0112] 根据由上述的粘合剂组合物构成的粘合剂层20,即使在将粘合剂层20配置于包含 金属层的构成的基板中的情况下，也可W抑制该金属层的腐蚀，另外，可W提高带有粘合剂 层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠体的耐久性。此外，根据由上述的粘合剂组合 物构成的粘合剂层20,带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠体即使是 将粘合剂层20直接贴合于偏振片2上而成的构成，也可W显示出良好的光学耐久性。W下， 也将可W抑制金属层的腐蚀的性质称作"耐金属腐蚀性"。
[0113] 粘合剂层20的厚度通常为2~40皿，从带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学 膜1的光学层叠体的耐久性和带有粘合剂层的光学膜1的再加工性(1)口一夕性）等观点考 虑，优选为5~30μπι，更优选为10~25μπι。另外，如果粘合剂层20的厚度为lOymW上，则粘合 剂层20对于光学膜10的尺寸变化的追随性变得良好，如果为下，则再加工性变得良 好。
[0114] 粘合剂层20优选为在23~80°C的溫度范围中显示出0.1~5M化的储存弹性模量的 层。由此，就可W更加有效地提高带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠 体的耐久性。所谓巧23~8(TC的溫度范围中显示出0.1~5MPa的储存弹性模量"，是指在该 范围的任意的溫度下，储存弹性模量都为上述范围内的值。由于储存弹性模量通常随着溫 度升高而逐渐减小，因此如果23°C及80°C的储存弹性模量都落入上述范围，则可W在该范 围的溫度下显示出上述范围内的储存弹性模量。粘合剂层20的储存弹性模量可W使用市售 的粘弹性测定装置、例如REOMETRIC公司制的粘弹性测定装置"DYNAMIC ANALYZER RDA ΙΓ 测定。
[0115] 〔2-1)(甲基)丙締酸系树脂(A)
[0116] (甲基)丙締酸系树脂(A)是W来自于（甲基)丙締酸系单体的构成单元作为主成分 的(优选含有50重量％ W上的）聚合物或共聚物。（甲基)丙締酸系单体例如含有具有（甲基） 丙締酷基的单体，优选含有（甲基)丙締酸烷基醋。（甲基)丙締酸烷基醋所具有的烷基的碳 原子数优选为1~14,更优选为1~12,进一步优选为1~8,可W是直链状、支链状或环状。作 为（甲基)丙締酸烷基醋，也可W使用后述的向烷基中导入了取代基的含有取代基的丙締酸 烷基醋之类的含有取代基的（甲基)丙締酸烷基醋。（甲基)丙締酸烷基醋既可w仅使用巧中， 也可W并用2种W上。
[0117] (甲基）丙締酸烷基醋的具体例包括（甲基）丙締酸甲醋、（甲基）丙締酸乙醋、（甲 基)丙締酸正及异丙醋、（甲基)丙締酸正、异及叔下醋、丙締酸正及异戊醋、（甲基)丙締酸正 及异己醋、（甲基)丙締酸环己醋、（甲基)丙締酸正及异庚醋、（甲基)丙締酸正及异辛醋、（甲 基)丙締酸2-乙基己醋、（甲基)丙締酸正及异壬醋、（甲基)丙締酸正及异癸醋、（甲基)丙締 酸异冰片醋、（甲基)丙締酸正及异十二烷基醋、（甲基)丙締酸硬脂基醋等。
[0118] (甲基)丙締酸系树脂(A)优选含有来自于均聚物的玻璃化转变溫度Tg低于0°C的 丙締酸烷基醋(al)的构成单元、W及来自于均聚物的Tg为(TCW上的丙締酸烷基醋(a2)的 构成单元。该设置在提高带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠体的耐 金属腐蚀性及耐久性的方面有利。丙締酸烷基醋的均聚物的Tg例如可W采用POLYMER HANDB00K(Wil 巧一Interscience)等的文献值。
[0119] 丙締酸烷基醋(al)的具体例包括丙締酸乙醋、丙締酸正及异丙醋、丙締酸正及异 下醋、丙締酸正戊醋、丙締酸正及异己醋、丙締酸正庚醋、丙締酸正及异辛醋、丙締酸2-乙 基己醋、丙締酸正及异壬醋、丙締酸正及异癸醋、丙締酸正十二烷基醋等烷基的碳原子数为 2~12左右的丙締酸烷基醋。作为丙締酸烷基醋(al)的其他具体例，还可W举出向烷基的碳 原子数为2~12左右的丙締酸烷基醋的烷基中导入了取代基的含有取代基的丙締酸烷基 醋。含有取代基的丙締酸烷基醋的取代基是取代烷基的氨原子的基团，其具体例包括苯基、 烷氧基、苯氧基。作为含有取代基的丙締酸烷基醋，具体而言，可W举出丙締酸2-甲氧基乙 醋、丙締酸乙氧基甲醋、丙締酸苯氧基乙醋、苯氧基二乙二醇丙締酸醋等。虽然丙締酸烷基 醋(al)的烷基也可W具有脂环式结构，然而优选为直链状或支链状的烷基。
[0120] 丙締酸烷基醋（al)既可W仅使用1种，也可W并用巧巾W上。其中，丙締酸烷基醋 (al)优选含有选自丙締酸乙醋、丙締酸正下醋、丙締酸2-乙基己醋中的1种或巧巾W上。从 带有粘合剂层的光学膜1所具有的粘合剂层20对光学膜10的追随性、再加工性的观点考虑， 丙締酸烷基醋(al)优选含有丙締酸正下醋。
[0121] 丙締酸烷基醋(a2)是丙締酸烷基醋(al)W外的丙締酸烷基醋。丙締酸烷基醋(a2) 的具体例包括丙締酸甲醋、丙締酸环己醋、丙締酸异冰片醋、丙締酸硬脂基醋、丙締酸叔下 醋等。
[0122] 丙締酸烷基醋(a2)既可W仅使用巧巾，也可W并用巧巾W上。其中，从耐金属腐蚀性 及耐久性的观点考虑，丙締酸烷基醋(a2)优选含有丙締酸甲醋、丙締酸环己醋、丙締酸异冰 片醋等，更优选含有丙締酸甲醋。
[0123] 对于（甲基)丙締酸系树脂(A)中的来自于丙締酸烷基醋(a2)的构成单元的含量， 从带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠体的耐金属腐蚀性及耐久性的 观点考虑，在构成（甲基)丙締酸系树脂(A)的全部构成单元100重量份中，优选为10重量份 W上，更优选为15重量份W上，进一步优选为20重量份W上，特别优选为25重量份W上。另 外从粘合剂层20对光学膜10的追随性及再加工性的观点考虑，来自于丙締酸烷基醋(a2)的 构成单元的含量优选为70重量份W下，更优选为60重量份W下，进一步优选为50重量份W 下。
[0124] (甲基)丙締酸系树脂(A)可W含有来自于丙締酸烷基醋(al)及(a2)W外的其他单 体的构成单元。（甲基)丙締酸系树脂(A)既可W仅含有1种来自于该其他单体的构成单元， 也可W含有巧巾W上。将其他单体的具体例表示如下。
[0125] 1)具有极性官能团的单体。
[0126] 作为具有极性官能团的单体，可W举出具有径基、簇基、取代或未取代氨基、环氧 基等杂环基等取代基的（甲基)丙締酸醋。具体而言，可W举出（甲基）丙締酸2-径基乙醋、 (甲基）丙締酸3-径基丙醋、（甲基）丙締酸4-径基下醋、（甲基）丙締酸2-(2-?基乙氧 基）乙醋、（甲基）丙締酸2-氯一2-径基丙醋、（甲基）丙締酸3-氯一2-径基丙醋、二乙二 醇单（甲基)丙締酸醋等具有径基的单体;丙締酷基吗嘟、乙締基己内酷胺、N-乙締基一2- 化咯烧酬、乙締基化晚、（甲基)丙締酸四氨慷醋、己内醋改性丙締酸四氨慷醋、3,4一环氧基 环己基甲基（甲基)丙締酸醋、（甲基)丙締酸缩水甘油醋、2,5 -二氨巧喃等具有杂环基的单 体；（甲基）丙締酸氨基乙醋、（甲基)丙締酸N，N-二甲基氨基乙醋、（甲基）丙締酸二甲基氨 基丙醋等具有取代或未取代氨基的单体；（甲基)丙締酸、（甲基)丙締酸簇基乙醋等具有簇 基的单体。其中，优选具有径基的单体，从（甲基)丙締酸系树脂(A)与交联剂的反应性的方 面考虑，更优选具有径基的（甲基)丙締酸醋。
[0127] 也可W与具有径基的（甲基)丙締酸醋配合着包含上述其他的具有极性官能团的 单体，从防止可W层叠于粘合剂层20的外表面的隔膜的剥离力过度增大的观点考虑，优选 实质上不含有具有氨基的单体。另外，从提高针对IT0的耐腐蚀性的观点考虑，优选实质上 不含有具有簇基的单体。此处所说的实质上不含有，是指在构成（甲基)丙締酸系树脂(A)的 全部构成单元100重量份中为0.1重量份W下。
[01%] 2)丙締酷胺系单体
[0129] 例如为N-径甲基丙締酷胺、N-(2-^基乙基)丙締酷胺、N-(3-^基丙基)丙締 酷胺、N-(4-^基下基)丙締酷胺、N-巧一径基戊基)丙締酷胺、N-(6-^基己基)丙締酷 胺、N，N-二甲基丙締酷胺、N，N-二乙基丙締酷胺、N-异丙基丙締酷胺、N-(3-二甲基氨 基丙基)丙締酷胺、N-(1，1一二甲基一3 -氧代下基)丙締酷胺、N-〔2-（2 -氧代一1一咪 挫烷基）乙基）丙締酷胺、2-丙締酷基氨基一2-甲基一1-丙烷横酸、N-(甲氧基甲基）丙 締酷胺、N-(乙氧基甲基)丙締酷胺、N-(丙氧基甲基)丙締酷胺、N-(l-甲基乙氧基甲基） 丙締酷胺、Ν-α-甲基丙氧基甲基)丙締酷胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙締酷胺〔别名： N-(异下氧基甲基)丙締酷胺KN-(下氧基甲基)丙締酷胺、N-(l，l-二甲基乙氧基甲基） 丙締酷胺、N-(2-甲氧基乙基)丙締酷胺、N-(2-乙氧基乙基）丙締酷胺、N-(2-丙氧基 乙基)丙締酷胺、N-〔2-(l-甲基乙氧基）乙基)丙締酷胺、N-〔2-(l-甲基丙氧基）乙基） 丙締酷胺、N-〔2-(2-甲基丙氧基）乙基)丙締酷胺〔别名：N-(2-异下氧基乙基）丙締酷 胺）、N- (2 -下氧基乙基）丙締酷胺、N-〔2 -（ 1，1一二甲基乙氧基）乙基）丙締酷胺等。其 中，优选使用N-(甲氧基甲基)丙締酷胺、N-(乙氧基甲基)丙締酷胺、N-(丙氧基甲基)丙 締酷胺、N-(下氧基甲基)丙締酷胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙締酷胺。
[0130] 3)甲基丙締酸醋（即metaciylate)
[0131] 例如为甲基丙締酸甲醋、甲基丙締酸乙醋、甲基丙締酸丙醋、甲基丙締酸正下醋、 甲基丙締酸正辛醋、甲基丙締酸月桂醋等甲基丙締酸的直链状烷基醋；甲基丙締酸异下醋、 甲基丙締酸2-乙基己醋、甲基丙締酸异辛醋等甲基丙締酸的支链状烷基醋；甲基丙締酸异 冰片醋、甲基丙締酸环己醋、甲基丙締酸双环戊基醋、甲基丙締酸环十二烷基醋、甲基丙締 酸甲基环己醋、甲基丙締酸Ξ甲基环己醋、甲基丙締酸叔下基环己醋、甲基丙締酸环己基苯 醋等甲基丙締酸的脂环式烷基醋；甲基丙締酸2-甲氧基乙醋、甲基丙締酸乙氧基甲醋等甲 基丙締酸的烷氧基烷基醋；甲基丙締酸节醋等甲基丙締酸芳烷基醋；甲基丙締酸2-径基乙 醋、甲基丙締酸3-径基丙醋、甲基丙締酸4-径基下醋、甲基丙締酸2-(2-?基乙氧基）乙 醋、甲基丙締酸2-氯一2-径基丙醋、甲基丙締酸3-氯一2-径基丙醋、二乙二醇单甲基丙 締酸醋等具有径基的甲基丙締酸的烷基醋；甲基丙締酸氨基乙醋、甲基丙締酸N，N-二甲基 氨基乙醋、甲基丙締酸二甲基氨基丙醋等具有取代或未取代氨基的甲基丙締酸的烷基醋； 甲基丙締酸2-苯氧基乙醋、甲基丙締酸2-(2-苯氧基乙氧基）乙醋、（甲基)丙締酸的环氧 乙烧改性壬基苯酪醋、甲基丙締酸2-(邻苯基苯氧基）乙醋等具有苯氧基乙基的甲基丙締 酸的醋等。
[0132] 4)甲基丙締酷胺系单体
[0133] 例如为与上述1)中记载的丙締酷胺系单体对应的甲基丙締酷胺系单体。
[0134] 5)苯乙締系单体
[0135] 例如为苯乙締；甲基苯乙締、二甲基苯乙締、Ξ甲基苯乙締、乙基苯乙締、二乙基苯 乙締、Ξ乙基苯乙締、丙基苯乙締、下基苯乙締、己基苯乙締、庚基苯乙締、辛基苯乙締等烧 基苯乙締;氣苯乙締、氯苯乙締、漠苯乙締、二漠苯乙締、舰苯乙締等面代苯乙締；硝基苯乙 締；乙酷基苯乙締；甲氧基苯乙締;二乙締基苯等。
[0136] 6)乙締基系单体
[0137] 例如为乙酸乙締醋、丙酸乙締醋、下酸乙締醋、2-乙基己酸乙締醋、月桂酸乙締醋 等脂肪酸乙締基醋;氯乙締、漠乙締等面代乙締;偏二氯乙締等偏二面乙締；乙締基化晚、乙 締基化咯烧酬、乙締基巧挫等含氮芳香族乙締基单体;下二締、异戊二締、氯下二締等共辆 二締单体;丙締腊、甲基丙締腊等不饱和腊等。
[013引7)在分子内具有多个(甲基)丙締酷基的单体
[0139] 例如为1，4_下二醇二（甲基)丙締酸醋、1，6_己二醇二（甲基)丙締酸醋、1，9_壬 二醇二（甲基)丙締酸醋、乙二醇二（甲基)丙締酸醋、二乙二醇二（甲基)丙締酸醋、四乙二醇 二（甲基)丙締酸醋、Ξ丙二醇二（甲基)丙締酸醋等在分子内具有2个（甲基)丙締酷基的单 体己径甲基丙烷立（甲基)丙締酸醋等在分子内具有3个（甲基)丙締酷基的单体等。
[0140] 如上所述，（甲基)丙締酸系树脂(A)从带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学 膜1的光学层叠体的耐久性及耐金属腐蚀性的观点考虑，优选除了来自于（甲基)丙締酸烧 基醋的构成单元W外，还含有来自于具有极性官能团的单体的构成单元。具有极性官能团 的单体优选为具有极性官能团的（甲基)丙締酸醋系单体，更优选为具有径基的单体。来自 于具有极性官能团的单体的构成单元的含量在构成（甲基)丙締酸系树脂(A)的全部构成单 元100重量份中，优选为0.1~10重量份，更优选为0.25~5重量份，进一步优选为0.5~5重 量份。
[0141] 另外，从带有粘合剂层的光学膜1的再加工性的观点考虑，（甲基）丙締酸系树脂 (A)的来自于甲基丙締酸醋(metac巧late)、甲基丙締酷胺系单体等甲基丙締酸系单体的构 成单元的含量越小越好，具体而言，该构成单元的含量在构成（甲基)丙締酸系树脂(A)的全 部构成单元100重量份中，优选为10重量份W下，更优选为5重量份W下，进一步优选实质上 不含有该构成单元(在0.1重量份W下）。
[0142] (甲基)丙締酸系树脂(A)优选在凝胶渗透色谱(GPC)的流出曲线上的重均分子量 MwlOOO~250万的范围中具有单一的峰，更优选在MwlOOO~250万的范围中具有单一的峰、 并且含有来自于丙締酸烷基醋(al)及(a2)的构成单元。W该（甲基)丙締酸系树脂(A)作为 基础聚合物的粘合剂层20在提高带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠 体的耐久性的方面有利。在上述Mw的范围中的峰个数为2W上的情况下，有无法获得充分的 耐久性的趋势。
[0143] 在求算Mwl 000~250万的范围中的GPC流出曲线的峰个数时，依照实施例一项中记 载的GPC测定条件取得流出曲线。在所得的流出曲线的上述范围中所谓"具有单一的峰"是 指，在MwlOOO~250万的范围中仅具有1个极大值。本说明书中，在GPC流出曲线中，将S/^比 为30W上的曲线定义为峰。
[0144] (甲基)丙締酸系树脂(A)的基于GPC的标准聚苯乙締换算的Mw优选处于50万~250 万的范围，更优选处于60万~200万的范围。如果Mw为50万W上，则有利于带有粘合剂层的 光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠体的耐金属腐蚀性及耐久性的提高，带有粘合剂 层的光学膜1的再加工性也有提高的趋势。另外，如果Mw为250万W下，则粘合剂层20对于光 学膜10的尺寸变化的追随性变得良好。W重均分子量Mw与数均分子量Μη的比Mw/Mn表示的 分子量分布通常为2~10。（甲基）丙締酸系树脂(A)的Mw及Μη是依照实施例一项中记载的 GPC测定条件求出。
[0145] 在使（甲基）丙締酸系树脂(Α)溶解于乙酸乙醋中而制成浓度20重量％的溶液时， 25°C的粘度优选为20化· sW下，更优选为0.1~7Pa · S。该范围的粘度有利于带有粘合剂 层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠体的耐久性的提高、带有粘合剂层的光学膜1 的再加工性。上述粘度可W利用化ookfield粘度计测定。
[0146] (甲基）丙締酸系树脂(A)的利用差示扫描热量计(DSC)测定的玻璃化转变溫度Tg 优选为一60~一10°C，更优选为一55~一15°C。该范围的Tg有利于带有粘合剂层的光学膜 1、W及包含该光学膜1的光学层叠体的耐金属腐蚀性及耐久性的提高。
[0147] 粘合剂组合物也可W含有巧巾W上的属于（甲基）丙締酸系树脂(A)的（甲基)丙締 酸系树脂。另外，粘合剂组合物也可W含有与（甲基)丙締酸系树脂(A)不同的其他的（甲基） 丙締酸系树脂。其中，从带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠体的耐金 属腐蚀性及耐久性的观点考虑，（甲基)丙締酸系树脂(A)的含量在全部的（甲基)丙締酸系 树脂的合计中，优选为70重量％ W上，更优选为80重量％ W上，进一步优选为90重量％ W 上，粘合剂组合物特别优选作为基础聚合物仅含有（甲基)丙締酸系树脂(A)。
[0148] (甲基)丙締酸系树脂(A)或可W根据需要并用的其他的（甲基)丙締酸系树脂例如 可W利用溶液聚合法、整体聚合法、悬浮聚合法、乳液聚合法等公知的方法制造。在（甲基） 丙締酸系树脂的制造中通常使用聚合引发剂。相对于（甲基)丙締酸系树脂的制造中所用的 全部单体的合计100重量份，使用0.001~5重量份左右的聚合引发剂。另外，（甲基)丙締酸 系树脂也可W利用例如用紫外线等活性能量射线使聚合进行的方法来制造。
[0149] 作为聚合引发剂，使用热聚合引发剂、光聚合引发剂等。作为光聚合引发剂，例如 可W举出4-(2-?基乙氧基)苯基(2-径基一2-丙基)酬等。作为热聚合引发剂，例如可 W举出2,2'一偶氮二异下腊、2,2'一偶氮二(2-甲基下腊）、1，1'一偶氮二(环己烧一1-甲 腊）、2,2'一偶氮二(2,4一二甲基戊腊）、2,2'一偶氮二(2,4一二甲基一4-甲氧基戊腊）、二 甲基一2,2'一偶氮双(2-甲基丙酸醋）、2,2'一偶氮二(2-?基甲基丙腊)之类的偶氮系化 合物;过氧化月桂酷、叔下基过氧化氨、过氧化苯甲酯、过氧化苯甲酸叔下醋、氨过氧化枯 締、过氧化二碳酸二异丙醋、过氧化二碳酸二丙醋、过氧化新癸酸叔下醋、过氧化新戊酸叔 下醋、过氧化(3,5,5-Ξ甲基己酷)之类的有机过氧化物;过硫酸钟、过硫酸锭、过氧化氨之 类的无机过氧化物等。另外，也可W将并用了过氧化物和还原剂的氧化还原系引发剂等作 为聚合引发剂使用。
[0150] 作为（甲基）丙締酸系树脂的制造方法，在上面所示的方法中优选溶液聚合法。溶 液聚合法的一例是将所用的单体及有机溶剂混合，在氮气气氛下，添加热聚合引发剂，在40 ~90°C左右、优选在50~80°C左右揽拌3~15小时左右。为了控制反应，也可W在聚合中连 续地或间歇地添加单体或热聚合引发剂、或W溶解于有机溶剂中的状态添加单体或热聚合 引发剂。作为有机溶剂，例如可W使用甲苯、二甲苯之类的芳香族控类；乙酸乙醋、乙酸下醋 等醋类;丙醇、异丙醇等脂肪族醇类;丙酬、甲乙酬、甲基异下基酬等酬类等。
[0151] 〔2-2)硅烷化合物(B)
[0152] 粘合剂组合物含有硅烷化合物(B)。硅烷化合物(B)为W下述式（I)表示的硅烷化 合物：
[0153] [化 9]
[0154]
[01W]式中，A表示碳原子数1~20的烧二基或碳原子数3~20的2价的脂环式控基，构成 该烧二基及该脂环式控基的一C出一也可W由一0-或一C(=0)-置换，Ri表示碳原子数1~ 5的烷基，护、护、於、护及护各自独立地表示碳原子数1~5的烷基或碳原子数1~5的烷氧基。
[0156] 根据含有W上述式(I)表示的硅烷化合物(B)的粘合剂层20,与使用其他的硅烷化 合物的情况相比，可W提高带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠体的 耐金属腐蚀性及耐久性，另外，由此可W提高粘合剂层20与金属层30、玻璃基板等的密合 性。也可W使用巧巾W上的硅烷化合物(B)。
[0157] 能够构成上述式（I)中的A的碳原子数1~20的烧二基的具体例包括亚甲基、1，2 - 乙烧二基、1，3 -丙烷二基、1，4一下烧二基、1，5 -戊烧二基、1，6 -己烧二基、1，7 -庚烧二 基、1，8_辛烧二基、1，9_壬烧二基、1，10 -癸烧二基、1，12 -十二烧二基、1，14 -十四烧二 基、1，16-十六烧二基、1，18-十八烧二基、1，20-二十烧二基。碳原子数3~20的2价的脂 环式控基的具体例包括1，3 -氯代戊烧二基、1，4一环己烧二基。构成该烧二基及该脂环式 控基的一CH2-由_0_或_"=0)_取代后的基团的具体例包括_CH2CH2_0_ C出C出一、一C出C出一0 - C出C出一0 - C出C出一、一C出C出一0 - C出C出一0 - C出C出一0 - CH2CH2 -、一 CH2CH2 - C( = 0) - 0 - CH2CH2 -、一CH2CH2 - 0 - CH2CH2 - C( = 0) - 0 - C出C出_、一C出C出C出C出一0-C出C出_、一C出C出C出C出一0-C出C出C出C出_。
[015引作为能够构成上述式（I)中的1?1、护、护、於、护及1?6的碳原子数1~5的烷基，可^举 出甲基、乙基、正及异丙基、正、异及叔下基、正、异及叔戊基等各种戊基，作为能够构成上述 式（I)中的护、护、於、护及削勺碳原子数1~5的烷氧基，可^举出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、 异丙氧基、正下氧基、异下氧基、叔下氧基、正、异及叔戊氧基等各种戊氧基。该烷基及烧氧 基的碳原子数各自独立，优选为1~4,更优选为1~3,进一步优选为1或2。
[0159] 将W上述式(I)表示的硅烷化合物的具体例表示如下。
[0160] 双(Ξ甲氧基甲娃烷基）甲烧、
[0161] 双(Ξ乙氧基甲娃烷基）甲烧、
[0162] 双(Ξ丙氧基甲娃烷基）甲烧、
[0163] 双(Ξ下氧基甲娃烷基）甲烧、
[0164] 双(二戊氧基甲娃烷基）甲烧、
[01化]双(二甲氧基甲基甲娃烷基）甲烧、
[0166] 双(二甲氧基乙基甲娃烷基）甲烧、
[0167] 双(二甲氧基丙基甲娃烷基）甲烧、
[016引双(二乙氧基甲基甲娃烷基）甲烧、
[0169] 双(二丙氧基甲基甲娃烷基）甲烧、
[0170] 双（甲氧基二甲基甲娃烷基）甲烧、
[0171] 1 一甲基甲娃烷基）一1-(甲氧基二甲基甲娃烷基）甲烧、
[017^ 1 -甲基甲娃烷基）一1 一（二甲氧基甲基甲娃烷基）甲烧、
[0173] 1-(立甲氧基甲娃烷基）一1-(立乙氧基甲娃烷基）甲烧、
[0174] 双(二甲氧基乙氧基甲娃烷基）甲烧、
[0175] 1，2_双(Ξ甲氧基甲娃烷基）乙烧、
[0176] 1，2_双(Ξ乙氧基甲娃烷基）乙烧、
[0177] 1，2_双(Ξ丙氧基甲娃烷基）乙烧、
[017引 1，2_双(Ξ下氧基甲娃烷基）乙烧、
[01巧]1，2_双(Ξ戊氧基甲娃烷基）乙烧、
[0180] 1，2 -双(二甲氧基甲基甲娃烷基）乙烧、
[0181] 1，2 -双(二甲氧基乙基甲娃烷基）乙烧、
[0182] 1，2 -双(二甲氧基丙基甲娃烷基）乙烧、
[0183] 1，2 -双(二甲氧基乙基甲娃烷基）乙烧、
[0184] 1，2 -双(二甲氧基丙基甲娃烷基）乙烧、
[01化]1，2-双(二乙氧基甲基甲娃烷基）乙烧、
[01化]1，2-双(二丙氧基甲基甲娃烷基）乙烧、
[0187] 1，2 -双（甲氧基二甲基甲娃烷基）乙烧、
[018引 l-(s甲基甲娃烷基）一2-(甲氧基二甲基甲娃烷基）乙烧、
[0189] 1 一甲基甲娃烷基）一2 -（二甲氧基甲基甲娃烷基）乙烧、
[0190] 1-(Ξ甲氧基甲娃烷基）一2-(Ξ乙氧基甲娃烷基）乙烧、
[0191] 1，2 -双(二甲氧基乙氧基甲娃烷基）乙烧、
[0192] 1，3 -双(Ξ甲氧基甲娃烷基)丙烷、
[0193] 1，3_双(Ξ乙氧基甲娃烷基)丙烷、
[0194] 1，3_双(Ξ丙氧基甲娃烷基)丙烷、
[0195] 1，4一双(Ξ甲氧基甲娃烷基)下烧、
[0196] 1，4_双(Ξ乙氧基甲娃烷基)下烧、
[0197] 1，4一双(Ξ丙氧基甲娃烷基)下烧、
[019引 1，4一双(Ξ下氧基甲娃烷基)下烧、
[0199] 1，4一双(Ξ戊氧基甲娃烷基)下烧、
[0200] 1，4一双(二甲氧基甲基甲娃烷基)下烧、
[0201] 1，4一双(二甲氧基乙基甲娃烷基)下烧、
[0202] 1，4一双(二甲氧基丙基甲娃烷基)下烧、
[0203] 1，4_双(二乙氧基甲基甲娃烷基)下烧、
[0204] 1，4一双(二丙氧基甲基甲娃烷基)下烧、
[0205] 1，4一双（甲氧基二甲基甲娃烷基)下烧、
[0206] 1 一（Ξ甲基甲娃烷基）一4-(甲氧基二甲基甲娃烷基)下烧、
[0207] 1 一（Ξ甲基甲娃烷基）一4 一（二甲氧基甲基甲娃烷基)下烧、 [020引 1 - (Ξ甲氧基甲娃烷基）一4-(Ξ乙氧基甲娃烷基)下烧、
[0209] 1，4_双(二甲氧基乙氧基甲娃烷基)下烧、
[0210] 1，5-双(立甲氧基甲娃烷基)戊烧、
[0211] 1，5-双(Ξ乙氧基甲娃烷基)戊烧、
[0212] 1，5-双(立丙氧基甲娃烷基)戊烧、
[0213] 1，6-双(Ξ甲氧基甲娃烷基）己烧、
[0214] 1，6-双(Ξ乙氧基甲娃烷基）己烧、
[0215] 1，6_双(Ξ丙氧基甲娃烷基)己烧、
[0216] 1，6-双（ΞΤ氧基甲娃烷基）己烧、
[0217] 1，6_双(Ξ戊氧基甲娃烷基)己烧、
[0別引 1，6-双（二甲氧基甲基甲娃烷基）己烧、
[0219] 1，6-双（二甲氧基乙基甲娃烷基）己烧、
[0220] 1，6 -双(二甲氧基丙基甲娃烷基)己烧、
[0221] 1，6 -双(二甲氧基乙基甲娃烷基）己烧、
[0222] 1，6_双(二甲氧基丙基甲娃烷基)己烧、
[0223] 1，6 -双(二乙氧基甲基甲娃烷基）己烧、
[0224] 1，6 -双(二丙氧基甲基甲娃烷基)己烧、
[0225] 1，6_双（甲氧基二甲基甲娃烷基)己烧、
[0226] 1 一甲基甲娃烷基）一6-(甲氧基二甲基甲娃烷基)己烧、
[0227] 1 一甲基甲娃烷基）一6 -（二甲氧基甲基甲娃烷基)己烧、 [022引 1_(Ξ甲氧基甲娃烷基）_6_(Ξ乙氧基甲娃烷基)己烧、
[0229] 1，6 -双(二甲氧基乙氧基甲娃烷基）己烧、
[0230] 1，8 -双(Ξ甲氧基甲娃烷基)辛烧、
[0231] 1，8_双(Ξ乙氧基甲娃烷基)辛烧、
[0232] 1，8 -双(Ξ丙氧基甲娃烷基)辛烧、
[0233] 1，8 -双(Ξ下氧基甲娃烷基)辛烧、
[0234] 1，8 -双(Ξ戊氧基甲娃烷基)辛烧、
[0235] 1，8-双(二甲氧基甲基甲娃烷基)辛烧、
[0236] 1，8 -双(二甲氧基乙基甲娃烷基)辛烧、
[0237] 1，8 -双(二甲氧基丙基甲娃烷基)辛烧、
[023引 1，8 -双(二甲氧基乙基甲娃烷基)辛烧、
[0239] 1，8 -双(二甲氧基丙基甲娃烷基)辛烧、
[0240] 1，8 -双(二乙氧基甲基甲娃烷基）辛烧、
[0241] 1，8 -双(二丙氧基甲基甲娃烷基)辛烧、
[0242] 1，8 -双（甲氧基二甲基甲娃烷基)辛烧、
[0243] 1 一甲基甲娃烷基）一8-(甲氧基二甲基甲娃烷基)辛烧、
[0244] 1-(立甲基甲娃烷基）一8-(二甲氧基甲基甲娃烷基)辛烧、
[0245] 1-(Ξ甲氧基甲娃烷基）一8-(Ξ乙氧基甲娃烷基)辛烧、
[0246] 1，8 -双(二甲氧基乙氧基甲娃烷基)辛烧、
[0247] 1，10-双(Ξ甲氧基甲娃烷基)癸烧、
[024引 1，12 -双(Ξ甲氧基甲娃烷基)十二烧、
[0249] 1，14一双(Ξ甲氧基甲娃烷基)十四烧、
[0巧0] 1，16-双(Ξ甲氧基甲娃烷基)十六烧、
[0251] 1，18-双(Ξ甲氧基甲娃烷基)十八烧、
[0巧2] 1，20_双(Ξ甲氧基甲娃烷基)二十烧等。
[0253] 其中，从带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠体的耐金属腐 蚀性、粘合剂层20与金属层30或玻璃基板等的密合性的观点考虑，硅烷化合物(B)优选为W 下述式（II)表示的硅烷化合物：
[0254] [化 10]
[0 巧5]
[0巧6]式中，1?1、护、於、护及护分别表示与上述相同的含义，护表示碳原子数1~5的烷基，111 表示1~20的整数。能够构成R7的碳原子数1~5的烷基的具体例与上述相同。从与上述相同 的观点考虑，硅烷化合物(B)更优选为Wm为4~20的整数的上述式(II)表示的硅烷化合物， 进一步优选为Wm为6~8的整数的上述式（II)表示的硅烷化合物，特别优选为1，6 -双(Ξ 甲氧基甲娃烷基）己烧、1，6 -双(Ξ乙氧基甲娃烷基）己烧、1，8 -双(Ξ甲氧基甲娃烷基）辛 烧、1,8-双(立乙氧基甲娃烷基）辛烧等、队η为6~8的整数、且01?1、1?2、护、於、护、护及0护各 自独立地为碳原子数1~3(例如碳原子数1或2)的上述式（II)表示的硅烷化合物。合适的m 的例子为6或8。
[0257] 粘合剂组合物可W与W上述式（I)表示的硅烷化合物(B)-起还含有1种或巧中W 上的硅烷化合物(B)W外的其他硅烷化合物。作为其他硅烷化合物，例如可W举出乙締基Ξ 甲氧基硅烷、乙締基Ξ乙氧基硅烷、乙締基Ξ(2-甲氧基乙氧基)硅烷、3-环氧丙氧基丙基 Ξ甲氧基硅烷、3 -环氧丙氧基丙基Ξ乙氧基硅烷、3 -环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、 3-环氧丙氧基丙基乙氧基二甲基硅烷、2-(3、4一环氧基环己基）乙基Ξ甲氧基硅烷、3- 氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基Ξ甲氧基硅烷、3-甲基丙締酷氧基丙基Ξ甲氧基娃 烧、3 -琉基丙基二甲氧基硅烷等。
[0258] 其他硅烷化合物可W包括娃酬低聚物型的化合物。如果将娃酬低聚物的具体例W 单体之间的组合的形式来表述，则如下所示。
[0259] 3-琉基丙基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0260] 3 -琉基丙基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0%1] 3-琉基丙基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0262] 3-琉基丙基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物等含有琉基丙基的低聚物；
[0%3]琉基甲基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0264] 琉基甲基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0265] 琉基甲基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0266] 琉基甲基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物等含有琉基甲基的低聚物；
[0267] 3-环氧丙氧基丙基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0268] 3-环氧丙氧基丙基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物、
[0269] 3-环氧丙氧基丙基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0270] 3-环氧丙氧基丙基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物、
[0271] 3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0272] 3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物、
[0273] 3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0274] 3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物等含有3-环氧丙 氧基丙基的共聚物；
[0275] 3-甲基丙締酷氧基丙基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0276] 3-甲基丙締酷氧基丙基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0277] 3-甲基丙締酷氧基丙基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0278] 3-甲基丙締酷氧基丙基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0279] 3-甲基丙締酷氧基丙基甲基二甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0280] 3-甲基丙締酷氧基丙基甲基二甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0%1 ] 3-甲基丙締酷氧基丙基甲基二乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0282] 3-甲基丙締酷氧基丙基甲基二乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物等含有甲基丙 締酷氧基丙基的低聚物；
[0283] 3-丙締酷氧基丙基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0284] 3-丙締酷氧基丙基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0285] 3-丙締酷氧基丙基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[02化]3-丙締酷氧基丙基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0287] 3-丙締酷氧基丙基甲基二甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0288] 3-丙締酷氧基丙基甲基二甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0289] 3-丙締酷氧基丙基甲基二乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0290] 3-丙締酷氧基丙基甲基二乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物等含有丙締酷氧基 丙基的低聚物；
[0291] 乙締基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0292] 乙締基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0293] 乙締基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0294] 乙締基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[02Μ]乙締基甲基二甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0296] 乙締基甲基二甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物、
[0297] 乙締基甲基二乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷低聚物、
[0298] 乙締基甲基二乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷低聚物等含有乙締基的低聚物；
[0299] 3-氨基丙基Ξ甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0300] 3-氨基丙基Ξ甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物、
[0301] 3-氨基丙基Ξ乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0302] 3-氨基丙基Ξ乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物、
[0303] 3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0304] 3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物、
[03化]3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷一四甲氧基硅烷共聚物、
[0306] 3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷一四乙氧基硅烷共聚物等含有氨基的共聚物等。
[0307] 其中，从带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠体的耐金属腐 蚀性、粘合剂层20与金属层30或玻璃基板等的密合性的观点考虑，W上述式(I)表示的硅烷 化合物(B)的含量在全部的硅烷化合物的合计中，优选为70重量％^上，更优选为80重量％ W上，进一步优选为90重量％ ^上，特别优选粘合剂组合物作为硅烷化合物仅含有硅烷化 合物(B)。
[0308] 粘合剂组合物中的硅烷化合物(B)的含量相对于（甲基)丙締酸系树脂(A)IOO重量 份，通常为0.01~10重量份，优选为0.03~5重量份，更优选为0.05~2重量份，进一步优选 为0.1~1重量份。如果硅烷化合物(B)的含量为0.01重量份W上，则容易获得带有粘合剂层 的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠体的耐金属腐蚀性提高效果、W及粘合剂层20 与金属层30或玻璃基板等的密合性提高效果。另外如果含量为10重量份W下，则可W抑制 硅烷化合物(B)从粘合剂层20中的渗出。
[0309] 〔2-3)离子性化合物(C)
[0310] 粘合剂组合物含有离子性化合物(C)。离子性化合物(C)是由阳离子和阴离子构成 的化合物，其阴离子为选自下述组中的阴离子： 筆][化11]
[0312]
[0313] 阳离子可W是有机阳离子、无机阳离子的任意一种。通过使用离子性化合物(C)， 不仅可W对粘合剂层20赋予良好的防静电干扰性能，还可W赋予优异的耐金属腐蚀性和光 学耐久性。粘合剂组合物可W含有1种或巧巾W上的离子性化合物(C)。在粘合剂组合物含有 2种W上的离子性化合物(C)的情况下，运些阴离子只要是选自上述组中，则既可W相同，也 可w不同。
[0314] 有机阳离子的具体例包括化晚鐵阳离子、咪挫鐵阳离子、赃晚鐵阳离子、化咯烧鐵 阳离子、四氨化晚鐵阳离子、二氨化晚鐵阳离子、四氨喀晚鐵阳离子、二氨喀晚鐵阳离子、化 挫鐵阳离子、化挫嘟鐵阳离子、锭阳离子、梳阳离子、鱗阳离子等。有机阳离子也可W具有取 代基。无机阳离子的具体例包括裡阳离子an、钢阳离子〔Na+K钟阳离子化?、飽阳离子 〔Cs+)等碱金属离子;被阳离子〔Be2+K儀阳离子〔Mg2+K巧阳离子〔Ca2+)等碱±类金属离子 等。
[0315] 其中从与（甲基）丙締酸系树脂(A)的相容性的观点考虑，阳离子优选为有机阳离 子，从防静电干扰性能的观点考虑，更优选为化晚鐵阳离子、咪挫鐵阳离子、赃晚鐵阳离子、 化咯烧鐵阳离子、四氨化晚鐵阳离子、二氨化晚鐵阳离子、四氨喀晚鐵阳离子、二氨喀晚鐵 阳离子、化挫鐵阳离子、化挫嘟鐵阳离子、锭阳离子等含有氮原子的有机阳离子(也可W具 有取代基。），进一步优选为具有包含不饱和键的含有氮原子的杂环结构的阳离子。
[0316] 属于具有包含不饱和键的含有氮原子的杂环结构的阳离子的1种、可W具有取代 基的化晚鐵阳离子的合适的具体例是W下述式（III)表示的化晚鐵阳离子：
[0317] [化 12]
[031 引
[0319] 上述式（III)中，R8~R"各自独立地表示氨原子、可W具有取代基的烷基、可W具 有取代基的締基、可W具有取代基的烘基、可W具有取代基的芳基、可W具有取代基的杂环 基、径基、酸基、簇基、幾基、或面素原子，也可W在相邻的取代基之间形成环。
[0320] 作为可W具有取代基的烷基，优选碳原子数1~30的烷基，其具体例例如包括甲 基、乙基、丙基、下基、己基、辛基、癸基、十二烷基、十八烷基、异丙基、异下基、仲下基、叔下 基、1-乙基戊基、环戊基、环己基、Ξ氣甲基、2-乙基己基、苯甲酯甲基、1-糞酷甲基、2- 糞酷甲基、4-甲基硫基苯甲酯甲基、4-苯基硫基苯甲酯甲基、4-二甲基氨基苯甲酯甲基、 4-氯基苯甲酯甲基、4-甲基苯甲酯甲基、2-甲基苯甲酯甲基、3-氣苯甲酯甲基、3-Ξ氣 甲基苯甲酯甲基、3-硝基苯甲酯甲基。
[0321] 作为可W具有取代基的締基，优选碳原子数2~10的締基，其具体例例如包括乙締 基、締丙基、苯乙締基。作为可W具有取代基的烘基，优选碳原子数2~10的烘基，其具体例 例如包括乙烘基、丙烘基、烘丙基。
[0322] 作为可W具有取代基的芳基，优选碳原子数6~30的芳基，其具体例例如包括苯 基、联苯基、1-糞基、2-糞基、9-蔥基、9-菲基、1-巧基、5-并四苯基、1-巧基、2-奧 基、9-巧基、Ξ联苯基、四联苯基、邻、间、W及对甲苯基、二甲苯基、邻、间、W及对异丙苯 基、藥基、并环戊二締基、联糞基、Ξ联糞基、四联糞基、并环庚Ξ締基化ep化lenyl)、伸联苯 基、二环戊二締并苯基（indacenyl)、巧蔥基、起基、乙締合蔥基（ア^rアシHJレ二瓜基）、蓝 基(phenalenyl)、巧基、蔥基、联蔥基、Ξ联蔥基、四联蔥基、蔥哇嘟基、菲基、苯并菲基、巧 基、疆;基、并四苯基、屯曜締基(Plei曰denyl)、畦基、巧基、五苯基、稠五苯基、联四苯基、六苯 基、稠六苯基、茹基（瓜t''ir二瓜基）、晕苯基（3 口幸二瓜基）、联伸s糞基 (trina曲th^en^)、屯苯基、稠屯苯基、巧蔥基（t°弓シbレ二瓜基）、间二蔥嵌四并苯基(義 基）（ovalenyl)。
[0323] 作为可W具有取代基的杂环基，优选包含氮原子、氧原子、硫原子、憐原子的芳香 族或脂肪族的杂环，其具体例例如包括嚷吩基、苯并[b]嚷吩基、糞并[2,3-b]嚷吩基、嚷蔥 基、巧喃基、化喃基、异苯并巧喃基、色締基、咕吨基、吩嗯嗦基、2H-化咯基、化咯基、咪挫 基、化挫基、化晚基、化嗦基、喀晚基、化嗦基、吗I嗦基、异吗I噪基、3H-吗I噪基、吗I噪基、1H- 吗I挫基、嚷岭基、4H-哇嗦基、异哇嘟基、哇嘟基、献嗦基、糞晚基、哇嗯嘟基、哇挫嘟基、增嘟 基、噪晚基、4址一巧挫基、巧挫基、β-巧嘟基、菲晚基、日丫晚基、巧晚基、菲咯嘟基、吩嗦基、 吩化嗦基(phenarsaziny 1)、异嚷挫基、吩嚷嗦基、异嗯挫基、巧叮基、吩嗯嗦基、异色满基、 色满基、化咯晚基、化咯嘟基、咪挫烷基、咪挫嘟基、化挫烷基、化挫嘟基、赃晚基、赃嗦基、吗I 噪P林基、异吗I噪P林基、哇巧环基、吗P林基、thioxant虹y 1。
[0324] 能够取代上述可W具有取代基的烷基、可W具有取代基的締基、可W具有取代基 的烘基、可W具有取代基的芳基、W及可W具有取代基的杂环基的氨原子的取代基的具体 例例如包括氣原子、氯原子、漠原子、舰原子等面素原子；甲氧基、乙氧基、叔下氧基等烧氧 基;苯氧基、对甲苯氧基等芳氧基、甲氧基幾基、下氧基幾基、苯氧基幾基、乙締基氧基幾基、 芳氧基幾基等烷氧基幾基；乙酷氧基、丙酷氧基、苯甲酯氧基等酷氧基；乙酷基、苯甲酯基、 异下酷基、丙締酷基、甲基丙締酷基、甲草酷基等酷基；甲硫基、叔下硫基等烧硫基;苯硫基、 对甲苯硫基等芳硫基；甲基氨基、环己基氨基等烷基氨基；二甲基氨基、二乙基氨基、吗嘟 基、赃晚基等二烷基氨基;苯基氨基、对甲苯基氨基等芳基氨基；甲基、乙基、叔下基、十二烧 基等烷基;苯基、对甲苯基、二甲苯基、异丙苯基、糞基、蔥基、菲基等芳基;径基、簇基、横酷 胺基、甲酯基、琉基、横基、甲横酷基、对甲苯横酷基、氨基、硝基、亚硝基、氯基、Ξ氣甲基、Ξ 氯甲基、二甲基甲娃烷基、憐酸亚基(phosphiniCO)、麟酸基、烷基横酷基、芳基横酷基、二烧 基锭基、二甲基梳基、Ξ苯基苯甲酯甲基鱗基。
[0325] W上述式（III)表示的化晚鐵阳离子优选为N-取代化晚鐵阳离子。该情况下，r8 优选为可W具有取代基的烷基，更优选为碳原子数1~20的直链状、支链状或环状的烷基。 碳原子数优选为1~16。护~RU各自独立，优选为氨原子、碳原子数1~20的直链状、支链或 环状的烷基、径基、或面素原子，更优选为氨原子或碳原子数1~20的直链状的烷基。
[0326] 如果要从防静电干扰性能、耐金属腐蚀性及光学耐久性的观点考虑举出离子性化 合物(C)的合适例，则如下所示。
[0327] 1)如下的离子性化合物，其阳离子为W下述式(III)表示的化晚鐵阳离子：
[032引[化 13]
[0329]
[0330] (式中，优选护为碳原子数1~16的直链状、支链状或环状的烷基，R9~RU各自独立 地为氨原子或碳原子数1~20的直链状的烷基），阴离子为选自上述组中的任意一种阴离 子。
[0331] 2)如下的离子性化合物，其阳离子为裡阳离子〔Li + K钢阳离子〔Na+K钟阳离子化 ?等无机阳离子，阴离子为选自上述组中的任意一种阴离子。
[0332] 粘合剂组合物中的离子性化合物(C)的含量相对于（甲基)丙締酸系树脂(A)IOO重 量份，优选为0.1~10重量份，更优选为0.2~8重量份，进一步优选为0.3~5重量份，特别优 选为0.5~3重量份。如果离子性化合物(C)的含量为0.1重量份W上，则有利于防静电干扰 性能的提高，如果为10重量份W下，则有利于带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1 的光学层叠体的耐金属腐蚀性及耐久性。
[0333] 粘合剂组合物可W与上述具有规定的阴离子的离子性化合物(C) 一起，还并用其 W外的防静电干扰剂，从带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠体的耐 金属腐蚀性等观点考虑，粘合剂组合物优选作为防静电干扰剂仅含有上述具有规定的阴离 子的离子性化合物(C)。
[0334] 〔2-4)异氯酸醋系交联剂(D)
[0335] 粘合剂组合物优选含有异氯酸醋系交联剂(D)。通过将异氯酸醋系交联剂(D)作为 交联剂使用，就可W提高带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠体的耐 金属腐蚀性及耐久性。异氯酸醋系交联剂(D)既可W仅单独使用1种，也可W并用巧巾W上。
[0336] 异氯酸醋系交联剂(D)是在分子内具有至少2个异氯酸醋基（一NC0)的化合物，具 体而言，可W举出甲苯二异氯酸醋、六亚甲基二异氯酸醋、异佛尔酬二异氯酸醋、二甲苯二 异氯酸醋、氨化二甲苯二异氯酸醋、二苯基甲烧二异氯酸醋、氨化二苯基甲烧二异氯酸醋、 糞二异氯酸醋、Ξ苯基甲烧Ξ异氯酸醋等。另外异氯酸醋系交联剂(D)也可W是运些异氯酸 醋化合物的多元醇化合物加合物（例如丙Ξ醇或Ξ径甲基丙烷的加合物）、异氯脈酸醋化 物、缩二脈型化合物、W及与聚酸多元醇或聚醋多元醇、丙締酸类多元醇、聚下二締多元醇、 聚异戊二締多元醇等发生加成反应而得的氨基甲酸醋预聚物型的异氯酸醋化合物等衍生 物。在上述当中，特别优选甲苯二异氯酸醋、六亚甲基二异氯酸醋、二甲苯二异氯酸醋或运 些异氯酸醋化合物的多元醇化合物加合物，从带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜 1的光学层叠体的耐久性的观点考虑，更优选二甲苯二异氯酸醋或其多元醇化合物加合物。
[0337] 异氯酸醋系交联剂(D)的含量相对于（甲基)丙締酸系树脂(A)IOO重量份，优选为 0.08~2.5重量份，更优选为0.1~2重量份(例如1重量份W下）。如果异氯酸醋系交联剂(D) 的含量处于该范围中，则在兼顾带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1的光学层叠 体的耐金属腐蚀性及耐久性的方面有利。
[0338] 粘合剂组合物可W与异氯酸醋系交联剂(D)-起，并用其W外的交联剂，例如环氧 化合物、氮丙晚化合物、金属馨合物化合物、过氧化物等，然而从带有粘合剂层的光学膜1、 W及包含该光学膜1的光学层叠体的耐金属腐蚀性及耐久性的观点考虑，粘合剂组合物优 选作为交联剂仅含有异氯酸醋系交联剂(D)，特别优选实质上不含有过氧化物。此处所说的 实质上不含有，是指相对于（甲基)丙締酸系树脂(A)IOO重量份的含量为0.01重量份W下。
[0339] 〔2-引其他成分
[0340] 粘合剂组合物可W含有1种或巧巾W上的溶剂、交联催化剂、紫外线吸收剂、耐候稳 定剂、增粘剂、增塑剂、软化剂、染料、颜料、无机填料、光散射性微粒等添加剂。除此W外，向 粘合剂组合物中配合紫外线固化性化合物，在形成粘合剂层后照射紫外线而使之固化，形 成更硬的粘合剂层也是有用的做法。作为交联催化剂，例如可w举出六亚甲基二胺、乙二 胺、聚亚乙基亚胺、六亚甲基四胺、二亚乙基Ξ胺、Ξ亚乙基四胺、异佛尔酬二胺、Ξ亚甲基 二胺、聚氨基树脂及Ξ聚氯胺树脂等胺系化合物。
[0341] 粘合剂组合物可W含有能够提高带有粘合剂层的光学膜1、W及包含该光学膜1的 光学层叠体的耐金属腐蚀性的防诱剂。作为防诱剂，可W举出苯并Ξ挫系化合物、其他的Ξ 挫系化合物等Ξ挫系化合物;苯并嚷挫系化合物、其他的嚷挫系化合物等嚷挫系化合物;节 基咪挫系化合物、其他的咪挫系化合物等咪挫系化合物;咪挫嘟系化合物；哇嘟系化合物； 化晚系化合物;喀晚系化合物；吗I噪系化合物;胺系化合物;脈系化合物;苯甲酸钢;苄基琉 基系化合物;二仲下基硫酸;及二苯基亚讽。
[0342] 然而，根据本发明，即使不含有防诱剂也可W获得充分的耐金属腐蚀性，因此防诱 剂的含量越小越好。特别是，粘合剂组合物优选实质上不含有作为防诱剂的Ξ挫系化合物， 更优选实质上不含有选自上述的化合物组中的防诱剂。此处所说的实质上不含有，是指相 对于（甲基)丙締酸系树脂(A)IOO重量份的含量为0.01重量份W下。
[0343] 〔3)带有粘合剂层的光学膜的构成及制造方法
[0344] 带有粘合剂层的光学膜1包含光学膜10和层叠于其至少一个面的粘合剂层20(图 1)。也可W在光学膜10的两面层叠粘合剂层20。通常，粘合剂层20被直接层叠于光学膜10的 表面。在将粘合剂层20设于光学膜10的表面时，优选对光学膜10的贴合面和/或粘合剂层20 的贴合面实施底漆层的形成、或表面活性化处理、例如等离子体处理、电晕处理等，更优选 实施电晕处理。
[0345] 在光学膜10为如图2所示的单面保护偏振板的情况下，粘合剂层20通常优选被直 接层叠于偏振片面，即偏振片2的与第一树脂膜3相反一侧的面。在光学膜10为如图3所示的 双面保护偏振板的情况下，粘合剂层20既可W层叠于第一、第二树脂膜3、4的任意一方的外 表面，也可W层叠于两方的外表面。
[0346] 虽然也可W在光学膜10与粘合剂层20之间另外设置防静电干扰层，然而由于本发 明的粘合剂层20可W利用单独的粘合剂层赋予优异的防静电干扰性，因此从光学层叠体的 薄膜化、层叠体制作工序的简化的方面考虑，优选在光学膜10与粘合剂层20之间不具有防 静电干扰层。
[0347] 带有粘合剂层的光学膜1也可W包含层叠于粘合剂层20的外表面的隔膜（剥离 膜）。该隔膜通常在粘合剂层20的使用时(例如向金属层30上层叠时)被剥离除去。隔膜例如 可W是对由聚对苯二甲酸乙二醇醋、聚对苯二甲酸下二醇醋、聚碳酸醋、聚芳醋等各种树脂 构成的膜的形成有粘合剂层20的面实施了娃酬处理等脱模处理的膜。
[0348] 带有粘合剂层的光学膜1可W如下获得，即，将构成上述粘合剂组合物的各成分溶 解或分散于溶剂中而制成含有溶剂的粘合剂组合物，然后，将其涂布于光学膜10的表面并 干燥而形成粘合剂层20。另外，带有粘合剂层的光学膜1也可W如下获得，即，在隔膜的脱模 处理面与上面相同地形成粘合剂层20,将该粘合剂层20层叠(转印）于光学膜10的表面。
[0349] <光学层叠体>
[0350] 图4及图5是表示本发明的光学层叠体的层构成的例子的示意剖面图。在1个实施 方式中本发明的光学层叠体如图4及图5所示，包含带有粘合剂层的光学膜1、和层叠于其粘 合剂层20侧的金属层30。图4中所示的光学层叠体5是将图2中所示的偏振板10a作为光学膜 10使用的例子，图5中所示的光学层叠体6是将图3中所示的偏振板10b作为光学膜10使用的 例子。在图4及图5中所示的光学层叠体5、6中，带有粘合剂层的光学膜1被W使其粘合剂层 20与金属层30直接接触的方式层叠于金属层30上。根据本发明，在像运样使粘合剂层20与 金属层30直接接触的构成的光学层叠体中，也可W有效地抑制金属层30的腐蚀。
[0351] 图6是表示本发明的光学层叠体的层构成的另一例的示意剖面图。在该另一实施 方式中本发明的光学层叠体像图6中所示的光学层叠体7那样，带有粘合剂层的光学膜1的 粘合剂层20被夹隔着树脂层50与金属层30层叠。粘合剂层20与树脂层50直接接触。在该光 学层叠体7中，也可W有效地抑制金属层30的腐蚀。配置于粘合剂层20与金属层30之间的树 脂层50例如也可W是固化性树脂的固化物层。作为能够形成树脂层50的固化性树脂可W使 用公知的固化性树脂，例如可W举出日本特开2009-217037号公报中记载的固化性树脂。
[0352] 图7是表示本发明的光学层叠体的层构成的另一例的示意剖面图。在该另一实施 方式中本发明的光学层叠体像图7中所示的光学层叠体8那样，也可W不具有金属层30。该 情况下，带有粘合剂层的光学膜1的粘合剂层20例如被与基板40层叠。基板40如后所述，例 如为玻璃基板。
[0353] 金属层30例如可W是含有选自侣、铜、银、金、铁、锡、锋、儀、钢、铭、鹤、铅及含有选 自它们中的巧巾W上的金属的合金中的1种W上的层，从导电性的观点考虑，优选为含有选 自侣、铜、银及金中的金属元素的层，从导电性及成本的观点考虑，更优选为含有侣元素的 层，进一步优选为作为主成分含有侣元素的层。所谓作为主成分含有，是指构成金属层30的 金属成分为全部金属成分的30重量％ ^上、进一步为50重量％ W上。
[0354] 金属层30例如也可W是IT0等金属氧化物层，然而由于本发明的带有粘合剂层的 光学膜1尤其对于金属单质或合金的耐腐蚀性良好，因此金属层30优选包含由上述的金属 元素构成的金属单质和/或含有上述的金属元素的巧巾W上的合金。然而，光学层叠体也可 W与此种金属层30-起，还具有由IT0等金属氧化物构成的透明电极层。
[0355] 金属层30的形态(例如厚度等）、制备方法没有特别限定，除了可W是金属锥W外， 还可W是利用真空蒸锻法、瓣射法、离子锻法、喷墨印刷法、凹版印刷法形成的金属层，优选 为利用瓣射法、喷墨印刷法、凹版印刷法形成的金属层，更优选为利用瓣射形成的金属层。 在利用瓣射形成的金属层和金属锥中，前者的一方有耐腐蚀性差的趋势，然而根据本发明 的光学层叠体，对于利用瓣射形成的金属层也具有良好的耐金属腐蚀性。金属层30的厚度 通常为下，优选为UimW下，更优选为0.祉mW下。另外金属层30的厚度通常为Ο.ΟΙμπι W上。此外，在金属层30为金属布线层的情况下，其金属布线层所具有的金属布线的线宽通 常为lOymW下，优选为扣mW下，进一步优选为下。另外，金属布线的线宽通常为Ο.ΟΙμ mW上、优选为O.lymW上、进一步优选为0.5ymW上。对于由该薄膜的金属层30或细线的金 属布线构成的金属层30,本发明的光学层叠体也显示出良好的耐金属腐蚀性。特别是在金 属布线例如厚度为下、且线宽为lOymW下时，或者厚度为化mW下、且线宽为lOymW 下、利用瓣射法形成时，也可W抑制其腐蚀，特别是可W抑制点腐蚀。
[0356] 金属层30例如可W是触摸输入式液晶显示装置所具有的触摸输入元件的金属布 线层（即电极层）。该情况下，金属层30通常被W规定的形状图案化。将金属层30为金属布线 层的情况的一例表示于图8中。图8中所示的光学层叠体中也可W省略树脂层50。在被图案 化的金属层30上层叠粘合剂层20的情况下，粘合剂20也可W具有不与金属层30接触的部 分。金属层30也可W是含有上述金属或合金的连续膜。
[0357] 另外，金属层30既可W是单层结构，也可W是2层或3层W上的多层结构。作为多层 结构的金属层，例如可W举出W钢/侣/钢表示的3层结构的含金属的层(金属网等）。
[0358] 也可W如图4及图5等所示，将例如为金属布线层的金属层30形成于基板40上，该 情况下，本发明的光学层叠体可W包含该基板40。在基板40上的金属层30的形成例如可W 利用瓣射进行。基板40可W是构成触摸输入元件中所含的液晶单元的透明基板。基板40优 选为玻璃基板。作为玻璃基板的材料，例如可W举出钢巧玻璃、低碱玻璃、无碱玻璃等。金属 层30既可W形成于基板40的全面，也可W形成于其一部分。在基板40上形成被图案化的金 属层30等情况下，在基板40的表面的一部分形成金属层30时，粘合剂层20的一部分会与例 如由玻璃构成的基板40直接接触，然而由于本发明的光学层叠体的粘合剂层20与玻璃的密 合性也优异，因此光学层叠体、W及具备该光学层叠体的液晶显示装置在此种情况下的耐 久性也优异。
[0359] 通过在金属层30(或上述树脂层)上将带有粘合剂层的光学膜1夹隔着其粘合剂层 20贴合，就可W得到光学层叠体5、6。在将带有粘合剂层的光学膜1与金属层30贴合而制作 出光学层叠体后，在有什么不佳状况的情况下，就需要将带有粘合剂层的光学膜1从金属层 30中剥离，重新将其他的带有粘合剂层的光学膜1贴合在金属层30上，即需要所谓的再加工 操作。本发明的带有粘合剂层的光学膜1很难在从金属层30中剥离后的金属层30的表面产 生模糊、残胶等，再加工性优异。根据本发明的带有粘合剂层的光学膜1，即使在贴合粘合剂 层20的表面不是金属层30而是玻璃基板或IT0层时，也可W显示出良好的再加工性。
[0360] <液晶显示装置>
[0361] 本发明的液晶显示装置包含上述本发明的带有粘合剂层的光学膜1，在更典型的 情况下包含上述光学层叠体。本发明的液晶显示装置可W抑制金属层30的腐蚀，另外，显示 出良好的耐久性。
[0362] 本发明的液晶显示装置优选为具有触摸面板功能的触摸输入式液晶显示装置。触 摸输入式液晶显示装置具备包含液晶单元的触摸输入元件、和背光灯。触摸面板的构成可 W是Out-cell型、On-cell型、In-cell型等W往公知的任何方式，另外触摸面板的动作方式 可W是电阻膜方式、电容方式(表面型电容方式、投射型电容方式)等W往公知的任何方式。 本发明的带有粘合剂层的光学膜1既可W配置于触摸输入元件(液晶单元）的可视侧，也可 W配置于背光灯侧，还可W配置于两方侦心液晶单元的驱动方式可W是TN方式、VA方式、IPS 方式、多畴方式、0CB方式等W往公知的任何方式。本发明的液晶显示装置中，光学层叠体5、 6所具有的基板40可W是上述液晶单元中所包含的基板(典型的情况是玻璃基板）。
[03创[实施例]
[0364] W下，给出实施例及比较例而对本发明进行更具体的说明，然而本发明并不受运 些例子限定。W下，表示使用量、含量的份及％只要没有特别指出，就是重量基准。
[0365] <制造例1:粘合剂层用（甲基)丙締酸系树脂(A-1)的制造>
[0366] 向具备冷凝管、氮气导入管、溫度计及揽拌机的反应容器中，加入将表1中所示的 组成(表1的数值为重量份。）的单体与乙酸乙醋81.8份混合而得的溶液。将反应容器内的空 气用氮气置换后，使内溫为60°C。其后，添加在乙酸乙醋10份中溶解有偶氮二异下腊0.12份 的溶液。在相同溫度保持1小时后，在将内溫保持为54~56°C的同时，W添加速度17.3份/化 将乙酸乙醋连续地加入反应容器内，使得聚合物的浓度大致上为35%。在从乙酸乙醋的添 加开始直到经过12小时将内溫保持为54~56°C后，加入乙酸乙醋而将聚合物的浓度调整为 20%，得到（甲基）丙締酸系树脂(A-1)的乙酸乙醋溶液。（甲基）丙締酸系树脂(A-1)的重 均分子量Mw为139万，重均分子量Mw与数均分子量Μη的比Mw/Mn为5.32。在凝胶渗透色谱 (GPC)的流出曲线中，Mwl39万的成分显示出单一的峰，在MwlOOO~250万的范围中没有看到 其他的峰。
[0367] <制造例2:粘合剂层用（甲基)丙締酸系树脂(A-2)的制造>
[0368] 除了将单体的组成设为如表1所示W外，与制造例1相同地得到（甲基)丙締酸系树 脂(A-2)的乙酸乙醋溶液(树脂浓度:20%)。（甲基)丙締酸系树脂(A-2)的重均分子量Mw 为141万，Mw/Mn为4.71。在GPC的流出曲线中，Mwl41万的成分显示出单一的峰，在MwlOOO~ 250万的范围中没有看到其他的峰。
[0369] 在上面的制造例中，重均分子量Mw及数均分子量Μη如下测定，在GPC装置中作为色 谱柱串联配置4根Tosoh(株）制的"TSKgel X1；'、W及1根昭和电工（株）制的"Shodex GPC KF-802"合计5根，作为洗脱液使用四氨巧喃，在试样浓度5mg/mL、试样导入量10化L、溫度 40°C、流速ImL/分钟的条件下，利用标准聚苯乙締换算进行测定。获得GPC的流出曲线时的 条件也设为与之相同。
[0370] 玻璃化转变溫度Tg是使用SII Nano Technology株式会社制的差示扫描热量计 (DSCrEXSTAR DSCeOOO"，在氮气气氛下，在测定溫度范围一80~50°C、升溫速度10°C/分钟 的条件下进行测定。
[0371] 将各制造例中的单体的组成（表1的数值为重量份。）、W及GPC的流出曲线上的 MwlOOO~250万的范围中的峰数(表1中表述为"GPC峰数"）集中表示于表1中。
[0372] [表 1]
[0373]
[0374] 位于表1的"单体组成"一栏中的缩略语是指下面的单体。
[0375] BA:丙締酸下醋(均聚物的玻璃化转变溫度：一54°C)、
[0376] ΜΑ:丙締酸甲醋(均聚物的玻璃化转变溫度:10°C)、
[0377] HEA:丙締酸2_径基乙醋。
[037引 < 实施例1~8、比较例1~9>
[0379] (1)粘合剂组合物的制备
[0380] 向上述制造例中得到的（甲基）丙締酸系树脂的乙酸乙醋溶液（树脂浓度：20%) 中，相对于该溶液的固体成分100份，分别混合表2中所示的量(重量份)的表2中所示的硅烷 化合物(B)、离子性化合物(C)、W及异氯酸醋系交联剂(D)，再W使固体成分浓度为14%的 方式添加乙酸乙醋而得到粘合剂组合物。对于表2中所示的各配合成分的配合量，在所使用 的商品含有溶剂等时，是作为其中所含的有效成分的重量份数。
[0381] [表 2]
[0382]
[0383] 表2中W缩略语表示的各配合成分的详情如下所示。
[0384] (硅烷化合物）
[03化]B-1: W下式表示的硅烷化合物：
[0；386][化 14]
[0387]
[038引 B-2:W下式表示的硅烷化合物：
[03例[化1引
[0390]
[0391] B-3 :3-环氧丙氧基丙基Ξ甲氧基硅烷、从信越化学工业（株）获取的商品名 乂ΒΜ403"。
[0392] (离子性化合物）
[0393] c-l:W下式表示的离子性化合物：
[0394] [化 16]
[0395]
[0396] C-2:W下式表示的离子性化合物：
[0397] [化 17]
[039引
[0399] C - 3:双(Ξ氣甲横酷基)酷亚胺裡、
[0400] C-4:双(氣横酷基)酷亚胺钟、
[0401] C-5:N-癸基化晚鐵双(氣横酷基)酷亚胺盐、
[0402] C-6:N-甲基化晚鐵四（五氣苯基)棚酸盐、
[0403] C-7:N-癸基化晚鐵四（五氣苯基)棚酸盐、
[0404] C-8:N-辛基一4-甲基化晚鐵六氣憐酸盐。
[0405] (异氯酸醋系交联剂）
[0406] D-1:二甲苯二异氯酸醋的Ξ径甲基丙烷加合物的乙酸乙醋溶液（固体成分浓度 75 % )、从Ξ井化学(株)获取的商品名叮AKENATE D-11 or。
[0407] (2)粘合剂层的制作
[0408] 将上述（1)中制备的各粘合剂组合物使用施胶器W使干燥后的厚度为20μπι的方 式，涂布在由实施了脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇醋膜构成的隔膜〔从LINTEC(株)获取 的商品名叩LR-38205Γ )的脱模处理面，在100°C干燥1分钟而制作出粘合剂层（粘合剂 片）。
[0409] (3)带有粘合剂层的光学膜(P-1)的制作
[0410] 将平均聚合度约2400、皂化度99.9摩尔％、厚度60皿的聚乙締醇膜〔（株化uraray 制的商品名"Kuraray Vinylon VF-阳#6000")浸溃于37°C的纯水中后，在30°C浸溃于含有 舰和舰化钟的水溶液(舰/舰化钟/水(重量比）=0.04/1.5/100)中。其后，在56.5 °C浸溃于 含有舰化钟和棚酸的水溶液(舰化钟/棚酸/水(重量比）= 12/3.6/100)中。将膜用10°C的纯 水清洗后，在85°C干燥，得到在聚乙締醇上吸附了舰并取向了的厚约23μπι的偏振片。拉伸主 要在舰染色及棚酸处理的工序中进行，总的拉伸倍率为5.3倍。
[0411] 在所得的偏振片的一面，夹隔着由聚乙締醇系树脂的水溶液构成的胶粘剂贴合厚 25μηι的由Ξ乙酷纤维素膜构成的透明保护膜I； Konica Mino 1 ta Opt (株）制的商品名 "KC2UA")。然后在上述偏振片的与Ξ乙酷纤维素膜相反一侧的面，夹隔着由聚乙締醇系树 脂的水溶液构成的胶粘剂贴合厚23WI1的由环状聚締控系树脂构成的零相位差膜〔日本Zeon (株)制的商品名"ZEONOr )，制作出偏振板。然后，对零相位差膜的与接触偏振片的面相反 一侧的面，实施用于提高密合性的电晕放电处理后，利用层压机贴合上述(2)中制作的粘合 剂层的与隔膜相反一侧的面（粘合剂层面）后，在溫度23°C、相对湿度65%的条件下熟化7 天，得到带有粘合剂层的光学膜(P-1)。
[0412] (4)带有粘合剂层的光学膜(P-2)的制作
[0413] 将平均聚合度约2400、皂化度99.9摩尔％、厚度30皿的聚乙締醇膜〔（株化uraray 制的商品名"Kuraray Vinylon VF-阳#3000")浸溃于37°C的纯水中后，在30°C浸溃于含有 舰和舰化钟的水溶液(舰/舰化钟/水(重量比）=0.04/1.5/100)中。其后，在56.5 °C浸溃于 含有舰化钟和棚酸的水溶液(舰化钟/棚酸/水(重量比）= 12/3.6/100)中。将膜用10°C的纯 水清洗后，在85°C干燥，得到在聚乙締醇上吸附了舰并取向了的厚度约12μπι的偏振片。拉伸 主要在舰染色及棚酸处理的工序中进行，总的拉伸倍率为5.3倍。
[0414] 在所得的偏振片的一面，夹隔着由聚乙締醇系树脂的水溶液构成的胶粘剂贴合厚 25μηι的由Ξ乙酷纤维素膜构成的透明保护膜I； Konica Mino 1 ta Opt (株）制的商品名 "KC2UA")，制作出偏振板。然后在偏振片的与贴合有保护膜的面相反一侧的面，利用层压机 贴合上述(2)中制作的粘合剂层的与隔膜相反一侧的面(粘合剂层面)后，在溫度23°C、相对 湿度65%的条件下熟化7天，得到带有粘合剂层的光学膜(P-2)。
[0415] (5)带有粘合剂层的光学膜的耐金属腐蚀性评价
[0416] 将上述(3)中制作的带有粘合剂层的光学膜(P-1)裁割为20mmX50mm的大小的试 验片，夹隔着粘合剂层贴合在带有金属层的玻璃基板的金属层侧。作为带有金属层的玻璃 基板，使用了在无碱玻璃表面利用瓣射层叠了厚度约500nm的金属侣层的玻璃基板 (Geomatec公司制）。将所得的光学层叠体在溫度60°C、相对湿度90%的烘箱中保管500小时 后，从玻璃基板的背面照射光从偏振板表面透过放大镜(Lupe)观察贴合了带有粘合剂层的 光学膜的部分的金属层的状态，对于点腐蚀(直径为O.lmmW上且能够透过光的孔的产生）， 利用W下的基准进行评价。将结果表示于表3中。
[0417] 5:在金属层表面完全看不到点腐蚀及白浊、
[0418] 4:在金属层表面产生的点腐蚀的个数为2个W下、
[0419] 3:在金属层表面产生的点腐蚀的个数为3个~5个、
[0420] 2:在金属层表面产生的点腐蚀的个数为6个W上、
[0421] 1:在金属层表面的全面产生多个点腐蚀，并且还产生了白浊。
[0422] (6)带有粘合剂层的光学膜的耐久性评价
[0423] 将上述(3)中制作的带有粘合剂层的光学膜(P-l)W使偏振板的拉伸轴方向为长 边的方式裁割为200mmX 150mm的大小后剥离隔膜，将露出的粘合剂层面贴合在玻璃基板 上。将所得的粘贴有玻璃基板的试验片(粘贴有玻璃基板的带有粘合剂层的光学膜)在高压 蓋中、W溫度50°C、压力化g/cm2(490.3kPa)加压20分钟。作为玻璃基板，使用了Corning公 司制的无碱玻璃，商品名为巧agle XG"。对所得的光学层叠体，实施了下面的巧巾耐久性试 验。
[0424] 〔耐久性试验）
[0425] ?在溫度85°C的干燥条件下保持750小时的耐热试验、
[0心6] ?在溫度60°C、相对湿度90%的环境下保持750小时的耐湿热试验、
[0427] ?在溫度85°C的干燥条件下保持30分钟，然后在溫度一40°C的干燥条件下保持30 分钟，将该操作设为1个循环，将该操作反复进行400次循环的耐热冲击化S)试验。
[0428] 目视观察各试验后的光学层叠体，利用目视观察了有无粘合剂层的翅起、脱落、发 泡等外观变化，依照下述的评价基准评价了耐久性。将结果表示于表3中。
[0429] 4:完全看不到翅起、脱落、发泡等外观变化、
[0430] 3:几乎看不到翅起、脱落、发泡等外观变化、
[0431] 2:翅起、脱落、发泡等外观变化略明显、
[043^ 1:明显地看到翅起、脱落、发泡等外观变化。
[0433] (7)带有粘合剂层的光学膜的再加工性评价
[0434] 将上述(3)中制作的带有粘合剂层的光学膜(P-1)裁割为25mmX 150mm的大小的 试验片。从试验片中剥离隔膜，将其粘合剂面粘贴在玻璃基板上。将所得的粘贴有玻璃基板 的试验片(粘贴有玻璃基板的带有粘合剂层的光学膜)在高压蓋中、W溫度5(TC、压力化g/ cm2(490.3kPa)加压20分钟。然后，在50°C的烘箱中保管48小时，再在溫度23°C、相对湿度 50%的气氛中，从试验片中将光学膜与粘合剂层一起W300mm/分钟的速度沿180°方向剥 离。观察剥离后的玻璃基板表面的状态，利用W下的基准进行了评价。将结果表示于表3中。
[0435] 4:在玻璃基板的表面完全看不到模糊等、
[0436] 3:在玻璃基板的表面几乎看不到模糊等、
[0437] 2:在玻璃基板的表面可W看到模糊等、
[0438] 1:在玻璃基板的表面可W看到粘合剂层的残留。
[0439] (8)带有粘合剂层的光学膜的脱色性评价
[0440] 将上述(4)中制作的带有粘合剂层的光学膜(P-2)裁割为30mmX30mm的大小后剥 离隔膜，将露出的粘合剂层面贴合在玻璃基板上。作为玻璃基板，使用了 Corning公司制的 无碱玻璃，商品名为巧agle XG"。对所得的光学层叠体，使用带有积分球的分光光度计〔日 本分光(株)制的制品名"V7100")测定出波长380~780皿的范围中的MD透射率和TD透射率， 算出各波长下的单体透射率、偏振度，再利用JIS Z 8701:1999"颜色的表示方法一XYZ表色 系及XioYioZio表色系"的2度视野(C光源)进行可见度修正，求出耐久试验前的可见度修正单 体透射率(Ty)及可见度修正偏振度(Py)。而且，将光学层叠体W使偏振板的Ξ乙酷纤维素 膜侧为检测器侧、从玻璃基板侧射入光的方式安置于带有积分球的分光光度计中。
[0441 ]单体透射率及偏振度分别由下式定义：
[0442] 单体透射率(λ) =0.5 X (Τρ(λ)巧。(入)）
[0443] 偏振度(λ) = 1〇〇Χ(Τρ(λ)-Τ(3(λ))/(Τρ(λ)+Τ(3(λ))
[0444] Τρ(λ)是利用入射的波长λ(ηπι)的直线偏振光与平行尼科尔棱镜的关系测定的光 学层叠体的透射率（％)，Tc(A)是利用入射的波长λ(ηπι)的直线偏振光与正交尼科尔棱镜的 关系测定的光学层叠体的透射率（％)。
[0445] 然后，将该光学层叠体在溫度80°C、相对湿度90%的湿热环境下放置24小时，再在 溫度23°C、相对湿度60%的环境下放置24小时后，利用与耐久试验前相同的方法求出耐久 试验后的Ty及Py。其后，从试验后的Py及Ty中分别减去试验前的Py及Ty而算出耐久试验前 后的变化量，求出偏振度变化量（A巧)及单体透射率变化量（Δ Ty)。将Δ巧表示于表3中。
[0446] [表引
[0447]
[044引 < 制造例3:粘合剂层用（甲基)丙締酸系树脂(A-1)的制造>
[0449]向具备冷凝管、氮气导入管、溫度计及揽拌机的反应容器中，加入将表4中所示的 组成(表4的数值为重量份。）的单体与乙酸乙醋81.8份混合而得的溶液。将反应容器内的空 气用氮气置换后，使内溫为60°C。其后，添加在乙酸乙醋10份中溶解有偶氮二异下腊0.12份 的溶液。在相同溫度保持1小时后，在将内溫保持为54~56°C的同时，W添加速度17.3份/化 将乙酸乙醋连续地加入反应容器内，使得聚合物的浓度大致上为35%。在从乙酸乙醋的添 加开始直到经过12小时将内溫保持为54~56 °C后，加入乙酸乙醋而将聚合物的浓度调整为 20%，得到（甲基）丙締酸系树脂(A-1)的乙酸乙醋溶液。（甲基）丙締酸系树脂(A-1)的重 均分子量Mw为139万，重均分子量Mw与数均分子量Μη的比Mw/Mn为5.32。在凝胶渗透色谱 (GPC)的流出曲线中，Mwl39万的成分显示出单一的峰，在MwlOOO~250万的范围中没有看到 其他的峰。
[0450] 在上面的制造例中，重均分子量Mw及数均分子量Μη如下测定，在GPC装置中作为色 谱柱串联配置4根Tosoh(株）制的"TSKgel X1；'、W及1根昭和电工（株）制的"Shodex GPC KF-802"合计5根，作为洗脱液使用四氨巧喃，在试样浓度5mg/mL、试样导入量10化L、溫度 40°C、流速ImL/分钟的条件下，利用标准聚苯乙締换算进行测定。获得GPC的流出曲线时的 条件也设为与之相同。
[0451 ]玻璃化转变溫度Tg是使用SII Nano Technology株式会社制的差示扫描热量计 (DSCrEXSTAR DSCeOOO"，在氮气气氛下，在测定溫度范围一80~50°C、升溫速度10°C/分钟 的条件下进行测定。
[0452]将各制造例中的单体的组成（表4的数值为重量份。）、W及GPC的流出曲线上的 Mwl 000~250万的范围中的峰数(表4中表述为"GPC峰数"）集中表示于表4中。
[045；3] 「表 41
[0454]
[0455] 位于表4的"单体组成"一栏中的缩略语是指下面的单体。
[0456] BA:丙締酸下醋(均聚物的玻璃化转变溫度：一54°C)、
[0457] ΜΑ:丙締酸甲醋(均聚物的玻璃化转变溫度:10°C)、
[045引 HEA:丙締酸2_径基乙醋。
[0459] <实施例9、比较例10~11>
[0460] (1)粘合剂组合物的制备
[0461] 向上述制造例中得到的（甲基）丙締酸系树脂的乙酸乙醋溶液（树脂浓度：20%) 中，相对于该溶液的固体成分100份，分别混合表5中所示的量(重量份)的表5中所示的硅烷 化合物(B)、离子性化合物(C)、W及异氯酸醋系交联剂(D)，再W使固体成分浓度为14%的 方式添加乙酸乙醋而得到粘合剂组合物。对于表5中所示的各配合成分的配合量，在所使用 的商品含有溶剂等时，是作为其中所含的有效成分的重量份数。
[046^ [表引
[0463]
[0464] 表5中W缩略语表示的各配合成分的详情如下所示。
[04化](硅烷化合物）
[0466] B-1:下式所示的硅烷化合物：
[0467] 【化18】
[0468]
[0469] B-3: 3-环氧丙氧基丙基Ξ甲氧基硅烷、从信越化学工业（株）获取的商品名 乂BM403"。
[0470] (离子性化合物）
[0471] C-5:N-癸基化晚鐵双(氣横酷基)酷亚胺盐、
[0472] C-8 :N-辛基一4-甲基化晚鐵六氣憐酸盐。
[0473] (异氯酸醋系交联剂）
[0474] D-1:二甲苯二异氯酸醋的Ξ径甲基丙烷加合物的乙酸乙醋溶液（固体成分浓度 75 % )、从Ξ井化学(株)获取的商品名叮AKENATE D-11 or。
[0475] (2)粘合剂层的制作
[0476] 将上述（1)中制备的各粘合剂组合物使用施胶器W使干燥后的厚度为20μπι的方 式，涂布在由实施了脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇醋膜构成的隔膜〔从LINTEC(株)获取 的商品名叩LR-38205Γ )的脱模处理面，在100°C干燥1分钟而制作出粘合剂层（粘合剂 片）。
[0477] (3)带有粘合剂层的光学膜(P-1)的制作
[0478] 将平均聚合度约2400、皂化度99.9摩尔％、厚度60皿的聚乙締醇膜〔（株化uraray 制的商品名"Kuraray Vinylon VF-阳#6000")浸溃于37°C的纯水中后，在30°C浸溃于含有 舰和舰化钟的水溶液(舰/舰化钟/水(重量比）=0.04/1.5/100)中。其后，在56.5 °C浸溃于 含有舰化钟和棚酸的水溶液(舰化钟/棚酸/水(重量比）= 12/3.6/100)中。将膜用10°C的纯 水清洗后，在85°C干燥，得到在聚乙締醇上吸附了舰并取向了的厚约23μπι的偏振片。拉伸主 要在舰染色及棚酸处理的工序中进行，总的拉伸倍率为5.3倍。
[0479] 在所得的偏振片的一面，夹隔着由聚乙締醇系树脂的水溶液构成的胶粘剂贴合厚 25μηι的由Ξ乙酷纤维素膜构成的透明保护膜I； Konica Mino 1 ta Opt (株）制的商品名 "KC2UA")。然后在上述偏振片的与Ξ乙酷纤维素膜相反一侧的面，夹隔着由聚乙締醇系树 脂的水溶液构成的胶粘剂贴合厚23WI1的由环状聚締控系树脂构成的零相位差膜〔日本Zeon (株)制的商品名"ZEONOr )，制作出偏振板。然后，对零相位差膜的与接触偏振片的面相反 一侧的面，实施用于提高密合性的电晕放电处理后，利用层压机贴合上述(2)中制作的粘合 剂层的与隔膜相反一侧的面（粘合剂层面）后，在溫度23°C、相对湿度65%的条件下熟化7 天，得到带有粘合剂层的光学膜(P-1)。
[0480] (4)带有粘合剂层的光学膜的耐金属腐蚀性评价
[0481] 将上述(3)中制作的带有粘合剂层的光学膜(P-1)裁割为20mmX50mm的大小的试 验片，夹隔着粘合剂层贴合在带有金属层的玻璃基板的金属层侧。作为带有金属层的玻璃 基板，使用了在无碱玻璃表面利用瓣射层叠了厚度约500nm的银合金银作为主成分、且 含有钮及铜的合金、APC)层的玻璃基板(Geomatec公司制）。将所得的光学层叠体在溫度60 °C、相对湿度90%的烘箱中保管500小时后，从玻璃基板的背面投射光而从偏振板表面通过 放大镜观察贴合了带有粘合剂层的光学膜的部分的金属层的状态，对于点腐蚀（直径为 O.lmmW上且能够透过光的孔的产生），利用W下的基准进行评价。将结果表示于表6中。
[0482] 5:在金属层表面完全看不到点腐蚀及白浊、
[0483] 4:在金属层表面产生的点腐蚀的个数为2个W下、
[0484] 3:在金属层表面产生的点腐蚀的个数为3个~5个、
[0485] 2:在金属层表面产生的点腐蚀的个数为6个W上、
[0486] 1:在金属层表面的全面产生多个点腐蚀，并且还产生了白浊。
[0487] [表6]
[0488]
[0489] 符号的说明
[0490] 1带有粘合剂层的光学膜，2偏振片，3第一树脂膜，4第二树脂膜，5、6、7、8光 学层叠体，10光学膜，l〇a、l化偏振板，20粘合剂层，30金属层，40基板，50树脂层。
【主权项】
1. 一种带有粘合剂层的光学膜，其包含光学膜、以及层叠于其至少一个面上的粘合剂 层， 所述粘合剂层由含有（甲基)丙烯酸系树脂(A)、硅烷化合物(B)、以及离子性化合物(C) 的粘合剂组合物构成， 所述硅烷化合物(B)为以下述式(I)表示的硅烷化合物：式中，A表示碳原子数1~20的烷二基、或碳原子数3~20的2价的脂环式烃基，构成该烷 二基及该脂环式烃基的一CH2-也可以由一0 -或一C(=0)-置换，R1表示碳原子数1~5的 烷基，R2、R3、R 4、R5及R6各自独立地表示碳原子数1~5的烷基或碳原子数1~5的烷氧基； 所述离子性化合物(C)的阴离子为选自下述组中的阴离子：2. 根据权利要求1所述的带有粘合剂层的光学膜，其中， 以所述式(I)表示的硅烷化合物(B)是以下述式(II)表示的硅烷化合物：式中，1?1、妒、1?4、1?5及1?6分别表示与上述相同的含义，1? 7表示碳原子数1~5的烷基，111表示 1~20的整数。3. 根据权利要求2所述的带有粘合剂层的光学膜，其中， 所述式(Π )中的m为4~20的整数。4. 根据权利要求2所述的带有粘合剂层的光学膜，其中， 所述式(Π )中的m为6~8的整数。5. 根据权利要求2所述的带有粘合剂层的光学膜，其中， 所述式(Π )中的m为6。6. 根据权利要求1所述的带有粘合剂层的光学膜，其中， 所述硅烷化合物(B)为1，6-双(三甲氧基甲硅烷基）己烷。7. 根据权利要求1所述的带有粘合剂层的光学膜，其中， 所述离子性化合物(C)的阳离子为具有包含不饱和键的含有氮原子的杂环结构的阳离 子。8. 根据权利要求1所述的带有粘合剂层的光学膜，其中， 所述离子性化合物(C)的阳离子为以下述式(III)表示的吡啶鑰阳离子：式中，R8~R13各自独立地表示氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的烯 基、可以具有取代基的炔基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的杂环基、羟基、醚 基、羧基、羰基或卤素原子，也可以在相邻的取代基之间形成环。9. 根据权利要求1所述的带有粘合剂层的光学膜，其中， 所述粘合剂组合物中的所述硅烷化合物(B)的含量相对于所述（甲基）丙烯酸系树脂 (A) 100重量份为0.01~10重量份。10. 根据权利要求1所述的带有粘合剂层的光学膜，其中， 所述（甲基)丙烯酸系树脂(A)含有来自于具有羟基的单体的构成单元。11. 根据权利要求1所述的带有粘合剂层的光学膜，其中， 所述（甲基）丙烯酸系树脂(A)含有来自于丙烯酸烷基酯(al)的构成单元、以及来自于 丙烯酸烷基酯(a2)的构成单元， 所述丙烯酸烷基酯(al)的均聚物的玻璃化转变温度低于(TC，所述丙烯酸烷基酯(a2) 的均聚物的玻璃化转变温度为〇°C以上。12. 根据权利要求1所述的带有粘合剂层的光学膜，其中， 所述（甲基)丙烯酸系树脂(A)的重均分子量为50万~250万。13. 根据权利要求1所述的带有粘合剂层的光学膜，其中， 所述粘合剂组合物还含有异氰酸酯系交联剂(D)。14. 根据权利要求1所述的带有粘合剂层的光学膜，其中， 所述粘合剂组合物实质上不含有三唑系化合物。15. -种液晶显示装置，其包含权利要求1~14中任一项所述的带有粘合剂层的光学 膜。16. -种粘合剂组合物，其含有（甲基）丙烯酸系树脂(A)、硅烷化合物(B)、以及离子性 化合物(C)， 所述硅烷化合物（B)为W下彳未式〈T ?券完的KMSik合物I.式中，A表示碳原子数1~20的烷二基或碳原子数3~20的2价的脂环式烃基，构成该烷 二基及该脂环式烃基的一CH2-也可以由一0 -或一C(=0)-置换，R1表示碳原子数1~5的 烷基，R2、R3、R 4、R5及R6各自独立地表示碳原子数1~5的烷基、或碳原子数1~5的烷氧基； 所述离子性化合物(C)的阴离子为选自下述组中的阴离子：所述粘合剂组合物被用于形成层叠在金属层上的粘合剂层。17. -种带有粘合剂层的光学膜，其包含光学膜、和层叠于该光学膜的至少一个面上的 粘合剂层，且用于夹隔着所述粘合剂层贴合于金属层上， 所述粘合剂层由如下的粘合剂组合物形成： 含有（甲基)丙烯酸系树脂(A)、硅烷化合物(B)、以及离子性化合物(C)， 所述硅烷化合物(B)为以下述式(I)表示的硅烷化合物：式中，A表示碳原子数1~20的烷二基、或碳原子数3~20的2价的脂环式烃基，构成该烷 二基及该脂环式烃基的一CH2-也可以由一0 -或一C(=0)-置换，R1表示碳原子数1~5的 烷基，R2、R3、R 4、R5及R6各自独立地表示碳原子数1~5的烷基或碳原子数1~5的烷氧基； 所述离子性化合物(C)的阴离子为选自下述组中的阴离子：18. -种光学层叠体，其包含： 权利要求1~14中任一项所述的带有粘合剂层的光学膜，和 层叠在该带有粘合剂层的光学膜的粘合剂层侧的金属层。
【文档编号】C09J11/06GK106010384SQ201610187070
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年3月29日
【发明人】浅津悠司, 阪上智惠, 韩银九
【申请人】住友化学株式会社