一种玻璃基板清洗上片装置的制作方法

本发明涉及玻璃基板减薄制造设备技术领域，具体是一种玻璃基板清洗上片装置。

背景技术：

智能手机、平板电脑等电子产品为获得轻薄化、提升透光率、改善用户体验等目的，通常需要对TFT-LCD液晶玻璃基板进行减薄工艺处理；玻璃基板减薄主要包括点胶、蚀刻、清洗、蚀刻后检验等工序。

在使用清洗线进行玻璃基板清洗工序时，玻璃基板的上下片主要通过人工直接拿取进行，人工拿取玻璃基板的边缘时，力度以及拿取的位置都不容易掌握，受到操作人员水平的制约，稍有不慎易出现破片现象。

而且，人工拿取造成的破损是整个玻璃基板减薄过程中破损的主要原因，尤其对于大尺寸基板进行清洗时，上下片拿取难度更大，更易出现破损、报废的情况，造成较大的损失。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种玻璃基板清洗上片装置，通过该装置能够在玻璃基板清洗工序中方便地进行上下片的操作，降低玻璃基板的破片率，并且提高工作效率。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种玻璃基板清洗上片装置，包括由两条横杆与两条纵杆相连构成的矩形框架，矩形框架与玻璃基板尺寸相适应，矩形框架内设有两排以上的横梁组，各排横梁组之间均匀间隔分布；每排横梁组均包含两根并排设置的横梁，每排横梁组的两根横梁之间沿轴向均设有一组承托滚轮；矩形框架的其中一条横杆与纵杆顶部分别设有横PVC条与纵PVC条，每根PVC条的内侧均设有缓冲泡棉；所述矩形框架底部至承托滚轮顶部的总高度小于清洗机运输滚轮的半径。

本发明的有益效果是：

上片时，玻璃基板水平放置于矩形框架上，承托滚轮对玻璃基板进行承托，横PVC条与纵PVC条对玻璃基板起到定位作用，将玻璃基板限制在矩形框架侧部，再将矩形框架整体放置于清洗机运输辊道上，由于矩形框架底部至承托滚轮顶部的总高度小于清洗机运输滚轮的半径，所以玻璃基板被清洗机运输滚轮托起，之后启动清洗机运输辊道即可将玻璃基板运走，而矩形框架则仍然留在原位，取下矩形框架即可进行下一次上片操作；

下片时，先将矩形框架放置于清洗机运输辊道上，清洗后的玻璃基板由清洗机运输辊道运送至矩形框架上方对应位置，抬起矩形框架即可实现下片操作；

本发明无论上片还是下片，均无需人工触碰玻璃基板，避免传统上下片时对玻璃基板造成的破损情况，降低了破片率；并且操作简单方便，极大地提高了生产效率。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：

图1是本发明的结构示意图；

图2是图1的局部放大示意图；

图3是图1的A-A剖视图；

图4是图3的局部放大示意图；

图5是本发明的使用俯视图；

图6是本发明的使用侧视图；

图7是图6的局部放大示意图。

具体实施方式

结合图1～4所示，本发明提供一种玻璃基板清洗上片装置，包括由两条横杆1a与两条纵杆1b相连构成的矩形框架1，矩形框架1与玻璃基板尺寸相适应，本实施例采用截面尺寸20mm*20mm的铝型材为横杆与纵杆，制作得到横纵尺寸1600mm*1030mm的矩形框架1；

矩形框架1内设有两排以上的横梁组2，各排横梁组之间均匀间隔分布；本实施例设置七排横梁组，相邻的横梁组之间间隔72mm；每排横梁组均包含两根并排设置的横梁，每排横梁组的两根横梁之间间距28mm、并且沿轴向均设有一组承托滚轮3；每排相邻的承托滚轮之间间距103mm；矩形框架的其中一条横杆与纵杆顶部分别设有横PVC条4与纵PVC条5，横PVC条4的尺寸为1600mm*20mm*10mm，纵PVC条5的尺寸为1030*20mm*10mm；每根PVC条的内侧均设有缓冲泡棉6；结合图5～7所示，所述矩形框架1底部至承托滚轮3顶部的总高度小于清洗机运输滚轮7a的半径。

上片时，玻璃基板8水平放置于矩形框架1上，承托滚轮3对玻璃基板8进行承托，横PVC条4与纵PVC条5对玻璃基板8起到定位作用，将玻璃基板8限制在矩形框架1侧部，缓冲泡棉6对玻璃基板8的边沿起到保护作用；再将矩形框架1整体放置于清洗机运输辊道7上，横梁组2与清洗机运输辊道7的各排运输滚轮相互交错；由于矩形框架1底部至承托滚轮3顶部的总高度小于清洗机运输滚轮7a的半径，所以玻璃基板8被清洗机运输滚轮7a托起，之后启动清洗机运输辊道7即可将玻璃基板8运走，而矩形框架1则仍然留在原位，取下矩形框架1即可进行下一次上片操作；

下片时，先将矩形框架1放置于清洗机运输辊道7上，清洗后的玻璃基板由清洗机运输辊道运送至矩形框架1上方对应位置，抬起矩形框架1即可实现下片操作。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。