一种高质量定制镜片坯件及其成型方法与流程

文档序号:22678380发布日期:2020-10-28 12:36阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种高质量定制镜片坯件成型方法,其特征在于,所述高质量定制镜片坯件成型方法包括以下步骤:

步骤一,将定位在镜片模具上的镜片坯件树脂材料加热至软化后,利用行星搅拌机混合设备将镜片坯件树脂材料和辅助试剂进行混合处理;

步骤二,利用搅拌桨和分散轴公转同自转,使搅拌无死角,物料上下和水平高速翻滚流动,分散盘又对物料不断剪切、打散;

步骤三,混合材料混合均匀后,输送到脱气处理器;通过氩气输送管向脱气处理器真空室输送氩气,对混合材料中的气体脱出;

步骤四,将脱气完成后的混合材料进行熔融处理,利用注射器将熔融状态的混合材料注入到镜片成型模具空腔中;

步骤五,控制注入的压力和速度,使模具在承受住注射压力情况下进行闭合,将注料完成的模具进行加热和冷却,固化成型后得到基镜片;

步骤六,将冷却至室温的基镜片采用工业洗洁精和纯水进行清洗、烘干,并将基镜片浸入甲基硅树脂强化溶液中,进行加硬处理;然后将加硬处理后的基镜片取出并送至烘干箱内干燥固化;

步骤七,将干燥固化后的基镜片进行退火处理;将退火处理后的镜片置于真空镀膜舱内,用霍尔离子源对镜片基片离子轰击5~8min,进行二次清洗;

步骤八,将二次清洗后的基镜片放水清洗机台磨料3~5min,打开排水阀门待水漏干90%,关闭阀门,待水注满阀门管内空间后加入基镜片;

步骤九,倒入研磨液,沿四周倒入,使研磨液在机台内均匀,研磨时间为100~120min;研磨完成后,打开阀门,加水清洗,清洗时间为6~7min;

步骤十,将清洗后的镜片进行着色处理后,通过镀膜机采用真空蒸镀的方式分别在镜片上镀上超韧层、减反射膜层、抗磨损膜层和防水膜。

2.如权利要求1所述的高质量定制镜片坯件成型方法,其特征在于,步骤一中,所述利用行星搅拌机对原料进行混合过程中,设定负压为:0.05~0.08mpa,温度为50~130℃,利用正压出料。

3.如权利要求1所述的高质量定制镜片坯件成型方法,其特征在于,步骤三中,在所述混合材料脱气过程中,需要对混合材料进行多次循环脱气,每隔25min循环一次。

4.如权利要求1所述的高质量定制镜片坯件成型方法,其特征在于,步骤五中,所述根据镜片冷却的要求,设定一定时间段的保温时间;

根据时间段,通入一定的氮气,并且按照降温的时间段,分阶段进行关闭冷却风机、电源,至冷却至室温。

5.如权利要求4所述的高质量定制镜片坯件成型方法,其特征在于,所述氮气的通入时间为30~35min,在氮气通入前,检测镜片的温度,根据检测的镜片温度值确定是否对氮气进行加热,在温度未达到设定值时,对氮气进行加热后,再通入至工艺要求的温度。

6.如权利要求1所述的高质量定制镜片坯件成型方法,其特征在于,步骤六中,所述加硬处理的温度是110~130℃,加硬处理的时间是2~2.5h;所述烘干温度为120~125℃,固化时间60~80min。

7.如权利要求1所述的高质量定制镜片坯件成型方法,其特征在于,步骤七中,所述退火处理的退火温度为150~160℃,退火时间2~4h;退火处理过程通过若干个晶圆支架进行,每个所述晶圆支架用于支撑单片所述待处理晶圆,其中,所述晶圆支架的数量依据所述待处理晶圆在所述退火腔室中加热至所述退火温度的时间和退火时间,以及所述待处理晶圆在所述预热装置中升温至所述第一温度的时间而设定。

8.一种利用如权利要求1~7任意一项所述的高质量定制镜片坯件成型方法制作的高质量定制镜片坯件,其特征在于,所述高质量定制镜片坯件设置有:

胚体;

胚体设置有基镜片,基镜片为树脂材料;

基镜片上表面设置有超韧层,超韧层的上表面设置有减反射膜层,减反射膜层的上表面设置有抗磨损膜层,基镜片的下表面设置有抗磨损膜层。

9.如权利要求8所述的高质量定制镜片坯件,其特征在于,所述胚体的表面设置有防水膜,且防水膜包裹整个胚体。

10.如权利要求8所述的高质量定制镜片坯件,其特征在于,所述胚体呈四角为圆弧的矩形,所述胚体长度为79.27mm,宽度为62mm。


技术总结
本发明属于镜片成型技术领域,公开了一种高质量定制镜片坯件及其成型方法,将镜片坯件树脂材料和辅助试剂进行混合,利用行星搅拌机混合设备,利用搅拌桨和分散轴公转同自转,使搅拌无死角,物料上下和水平高速翻滚流动,分散盘又对物料不断剪切、打散;混合材料混合均匀后,输送到脱气处理器;通过氩气输送管向脱气处理器真空室输送氩气,对混合材料中的气体脱出;将脱气完成后的混合材料,利用注射体将混合材料注入到模具型腔中,将注料完成的模具进行加热和冷却;将冷却至室温的坯件进行研磨抛光,利用镀膜机在坯件上镀上超韧层、减反射膜层、抗磨损膜层和防水膜。本发明制备的镜片坯件,没有气泡,制备均匀,有利于后续的处理。

技术研发人员:吴国强
受保护的技术使用者:吴国强
技术研发日:2020.07.14
技术公布日:2020.10.27
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