专利名称：蓄压式均匀气冷结构的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种蓄压式均匀气冷结构。
背景技术：
以特定频率的光源照射相对应能隙的物体，可令原本位于价带的电 子跳跃至传导带，以产生较大的活性与特定的反应，此种利用特定光源 照射的处理方式，被广泛的运用于各式制造设备的中；
操作高频率光源，例如紫外线等高频率光源时，无可避免的会伴随 产生相当多的热量，这些热量往往并非制造中所需要的，甚至是制造中 必需避免的，因此制造设备中便需要搭配各式降、温设计，其中较常见的 为气冷系统，借由压縮机等设备将低温气体导入制造设备中，以使受光 照的基板等物体，可由气流带走多余的热量，使得基板等物体可保持在 一定的温度下，以维持产品质量；
现有的制造设备冷却装置如美国专利U S3994073、 US4 6 4 6 4 4 6号等，其皆简单的以一压縮机或鼓风机，将低温气体由一 进气端吹入制造设备的处理区，再由排气端将温度升高后的气体排出， 此种方式若使用于具有较大处理区的制造设备上，则进气端离进气口较 近与较远处，其气体压力分布明显不同，故其所流经的气体流量相差甚 多，造成处理区的气流不均匀，进而使处理区内受光照的基板等物体散 热效果不一，部分基板无法有效散热，质量不佳良率下降；
再者，现有结构在排气端亦有着相同的气流不平均的问题，若处理 区空间较大，则远离排气端排气口处的气体流速较慢，而靠近排气口处 的气体流速较快，如此更会恶化气流不均匀的情况。
发明内容
本发明所要解决的主要技术问题在于，克服现有技术存在的上述缺 陷，而提供一种蓄压式均匀气冷结构，其可改善现有的制造设备冷却气
流会随着距离进气口、排气口的远近而无法均匀，散热效果不佳令产品 良率下降等缺点。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是
一种蓄压式均匀气冷结构，其特征在于，其本体具有一进气端、一 排气端，以及一位于进气端与排气端间的处理区，该进气端设有一蓄压 空间，该蓄压空间与处理区之间设有一蓄压板；借此，令进气端通入蓄 压空间的气体可储压于蓄压空间中，待气压到达蓄压板的额定值时再均 匀流向处理区。
前述的蓄压式均匀气冷结构，其中排气端具有一排气口，并以一风 网将排气口与处理区分隔，该风网上具有数个大小不同的气孔，该气孔 的大小排列方式为靠近排气口的气孔较小，远离排气口的气孔较大的方式。
前述的蓄压式均匀气冷结构，其中排气端设有一排气空间与一排气 口，该排气空间为远离排气口处较小，而靠近排气口处较大的形态。
前述的蓄压式均匀气冷结构，其中排气端设有一风网将排气口、排 气空间与处理区分隔，该风网对应排气空间的大小而倾斜排列。 前述的蓄压式均匀气冷结构，其中进气端设有一导气板。 前述的蓄压式均匀气冷结构，其中本体为一紫外线多层炉。 前述的蓄压式均匀气冷结构，其中导气板可为纵向与横向交错设置。 前述的蓄压式均匀气冷结构，其中蓄压板可替换为不同额定风压的 蓄压板。
前述的蓄压式均匀气冷结构，其中蓄压板可替换为不同额定风量的 蓄压板。
前述的蓄压式均匀气冷结构，其中导气板可借由不同的开闭程度来 调整风向。
借由上述的结构，当低温冷却气体被鼓风机由进气口吹入进气端的 蓄压空间时，该气体会先被蓄压板阻绝而无法立刻流向处理区，待蓄压 空间内的气体压力逐渐升高至蓄压板的额定值时，气体方可通过蓄压板， 并经由导气板的方向微调而流入本体处理区各处理板内，此时的气体因 先在蓄压空间中汇集至较高的气压，故整个蓄压空间中的气体压力是呈
均匀分布的状态，蓄压空间中的气体分布无压力差，因此流向本体处理 区各处理板的低温冷却气体亦呈现一均匀无流量差的情况，而可有效的 提供各处理板降温效果；而当气流通过处理板而吸收热量之后，其可由 排气端的排气口排出，该排气端在排气空间与处理区之间设有一风网， 该风网的气孔是呈远离排气口的气孔孔径较大，而靠近排气口的气孔孔 径较小的排列方式，因此在较远离排气口处的气流所受阻力较小、靠近 排气口处的气流所受阻力较大，如此亦可平冲排气端排气空间处的压力 差，而使处理区各处理板的气流在排出时亦保持均匀的状态。
本发明的有益效果是，其可改善现有的制造设备冷却气流会随着距离 进气口、排气口的远近而无法均匀，散热效果不佳令产品良率下降等缺 点。
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。 图1是本发明蓄压式均匀气冷结构的分解结构示意图。 图1之一是本发明蓄压式均匀气冷结构的导气板横向导气口的局部 放大示意图。
图2是本发明蓄压式均匀气冷结构的外观立体示意图。 图3是本发明蓄压式均匀气冷结构另一角度的外观立体示意图。 图3之一是本发明蓄压式均匀气冷结构的导气板纵向导气口的局部 放大示意图。
图4是本发明蓄压式均匀气冷结构处理区装设处理板的示意图。 图5是本发明蓄压式均匀气冷结构均匀气流方向的示意图。
图中标号说明
1
1 0 1
1 0 2
2 1 — 2 2 — 2 4 — 2 4 1
陽本体
-处理板
-鼓风机
-进气口
-蓄压空间
-导气板
1 0
2 0
2 3
-处理区
-进气端
压板
-导气口
2 4 2
-导气口3 0-排气端
3 1-排气口 3 2-排气空间
3 3-风网
3 3 1——气孔
具体实施例方式
本发明是一种蓄压式均匀气冷结构，请参阅图1至图3所示，这种 蓄压式均匀气冷结构主要包括一制造设备的本体1 ，该本体1在本实施 例中是以一紫外线多层炉为结构进行说明，但并不以此为限；
该本体1主要具有一处理区1 0 ,该处理区1 0可供数个处理板1 0 l活动设置，该处理板l 0 1内可装设紫外灯与承载盘等制造相关结 构，该本体1下方另设有一鼓风机1 0 2 (请参阅图5),此乃一般现有 的紫外线多层炉结构设计，在此不再赘述。
该本体1处理区1 0 —侧是设有一进气端2 0 ，该进气端2 0具有 一进气口 2 1与一蓄压空间2 2 ，令鼓风机1 0 2的低温气流可由进气 口2 l进入蓄压空间2 2之中；该蓄压空间2 2与处理区1 0之间设有 蓄压板2 3与导气板2 4 ,该蓄压板2 3仅可在蓄压空间2 2内气压达 到预设的额定值时供气流通过，且可视不同需求而替换不同额定风压或 风量的蓄压板2 3 ，而该导气板2 4则如图1之一与图3之3所示，其 是可设置为横向与纵向，而形成横向的导气口2 4 l与纵向的导气口2 4 2，使用者亦可视其所需而调整导气板2 4的开闭程度以调整风向；
该本体1处理区1 0另一侧设有一排气端3 0 ，该排气端3 0具有 一排气口 3 i与一排气空间3 2 ，该排气口 3 1可将已吸收处理区1 0 热量的气体排出；该排气空间3 2与处理区1 0之间是设有风网3 3， 借该风网3 3将处理区1 O与排气口 3 l分隔，而该风网3 3上设有数 个排气用的气孔3 3 1，该气孔3 3 l可为方形、圆形，或椭圆形等形 状，该气孔3 3 1的大小不尽相同，该气孔3 3 1的大小排列方式为靠 近排气口 3 1的气孔3 3 1较小，远离排气口 3 1的气孔3 3 1较大的 方式，亦即气孔3 3 l愈靠近排气口3 l的孔径较小，而愈远离排气口 3 1的孔径较大。
再请配合参阅图4与图5所示，本发明在使用时，该处理区l 0可如图4所示同时置入数个处理板l 0 1以提高效率，而每一处理板l 0 1因距离进气端2 0进气口 2 1、排气端3 0排气口 3 1的位置不同， 故需借由本发明的进气端2 0、排气端3 O特殊设计以均匀冷却气体的 流量；
如图5所示，当低温冷却气体被鼓风机1 0 2由进气口 2 1吹入进 气端2 0的蓄压空间2 2时，该气体会先被蓄压板2 3阻绝而无法立刻 流向处理区1 0 ，待蓄压空间2 2内的气体压力逐渐升高至蓄压板2 3 的额定值时，气体方可通过蓄压板2 3，并经由导气板2 4的方向微调 而流入本体l处理区l 0各处理板1 0 l内，此时的气体因先在蓄压空 间2 2中汇集至较高的气压，故整个蓄压空间2 2中的气体压力是呈均 匀分布的状态，蓄压空间2 2中的气体分布无压力差，因此流向本体l 处理区1 0各处理板1 0 1的低温冷却气体亦呈1L一均匀无流量差的情 况，而可有效的使各处理板l 0 l达到降温效果；
再者，当气流通过处理板l 0 l而吸收热量的后，其可由排气端3 0的排气口3 l排出，该排气端3 0是在排气空间3 2与处理区1 0之 间设有一风网3 3 ，该风网3 3的气孔3 3 1是呈远离排气口 3 1的气 孔3 3 1孔径较大，而靠近排气口 3 1的气孔3 3 1孔径较小的排列方 式，因此在较远离排气口3 l处的气流所受阻力较小、靠近排气口3 1 处的气流所受阻力较大，如此亦可平冲排气端3 0排气空间3 2处的压 力差，而使处理区l 0各处理板1 0 l的气流在排出时亦保持均匀的状 态。
本发明的排气端3 0除第一实施例采用大小不同气孔3 3 l的风网 3 3以外，亦可将该排气空间3 2实施为远离排气口 3 1处较小，而靠 近排气口3 l处较大的形态，借由容置空间的大小变化，来抵消距离排 气口3 l远近不同所造成的流速差异，或再配合倾斜设置的风网3 3， 如此亦可达到与第一实施例相同的效果。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形 式上的限制，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单 修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
综上所述，本发明在结构设计、使用实用性及成本效益上，完全符合产业发展所需，且所揭示的结构亦是具有前所未有的创新构造，具有 新颖性、创造性、实用性，符合有关发明专利要^^的规定，故依法提起申请。
权利要求
1.一种蓄压式均匀气冷结构，其特征在于，其本体具有一进气端、一排气端，以及一位于进气端与排气端间的处理区，该进气端设有一蓄压空间，该蓄压空间与处理区之间设有一蓄压板；借此，令进气端通入蓄压空间的气体可储压于蓄压空间中，待气压到达蓄压板的额定值时再均匀流向处理区。
2. 根据权利要求l所述的蓄压式均匀气冷结构，其特征在于所述 排气端具有一排气口，并以一风网将排气口与处理区分隔，该风网上具 有数个大小不同的气孔，该气孔的大小排列方式为靠近排气口的气孔较 小，远离排气口的气孔较大的方式。
3. 根据权利要求l所述的蓄压式均匀气冷结构，其特征在于所述 排气端设有一排气空间与一排气口 ，该排气空间为远离排气口处较小， 而靠近排气口处较大的形态。
4. 根据权利要求3所述的蓄压式均匀气冷结构，其特征在于所述排气端设有一风网将排气口、排气空间与处理区分隔，该风网对应排气 空间的大小而倾斜排列。
5. 根据权利要求l、 2、 3或4所述的蓄压式均匀气冷结构，其 特征在于所述进气端设有一导气板。
6. 根据权利要求l、 2、 3或4所述的蓄压式均匀气冷结构，其特征在于所述本体为一紫外线多层炉。
7. 根据权利要求5所述的蓄压式均匀气冷结构，其特征在于所述导气板可为纵向与横向交错设置。
8. 根据权利要求l所述的蓄压式均匀气冷结构，其特征在于所述 蓄压板可替换为不同额定风压的蓄压板。
9. 根据权利要求l所述的蓄压式均匀气冷结构，其特征在于所述 蓄压板可替换为不同额定风量的蓄压板。
10.根据权利要求5所述的蓄压式均匀气冷结构，其特征在于所述导气板可借由不同的开闭程度来调整风向。
全文摘要
一种蓄压式均匀气冷结构，其本体具有一进气端、一排气端，以及一位于进气端与排气端间的处理区，该进气端设有一蓄压空间，该蓄压空间与处理区之间设有一蓄压板；借此，令进气端通入蓄压空间的气体可储压于蓄压空间中，待气压到达蓄压板的额定值时再均匀流向处理区。本发明可改善现有的制造设备冷却气流会随着距离进气口、排气口的远近而无法均匀，散热效果不佳令产品良率下降等缺点。
文档编号F26B3/28GK101338966SQ20071012293
公开日2009年1月7日 申请日期2007年7月5日 优先权日2007年7月5日
发明者巫吉生, 张义斌, 赖志勇 申请人:志圣工业股份有限公司