本发明涉及一种锑还原炉，尤其涉及一种高纯金属锑的还原炉装置，属于高纯金属提纯装置技术领域。
背景技术：
高纯锑是指5N以上的高纯金属锑，主要用于制备半导体材料，它可以形成锑化铝、锑化镓、锑化铟等化合物半导体；作为半导体锗、硅等单晶的掺杂剂，使其形成N型半导体；另外，还可以用作制备其他高纯金属合金。在一些光电领域中，如红外探测、压电、压敏等电子原件，其作为基础性材料，一般要求金属纯度在5-7N。高纯锑的制备主要通过氯化、精馏、还原、蒸馏等过程实现。 由于传统的高纯锑还原炉在工作时，会生成一些有害气体，一般制作时均对于这种有害气体放任不管，使得车间烟气污染严重，气味刺鼻难闻，给生产员工的身体健康造成严重威胁，本发明诣在解决上述技术问题。
技术实现要素：
本发明的目的是为了解决上述背景技术中所提到的问题，提供了一种锑还原炉。
为了实现上述目的，本发明的技术方案如下：
一种锑还原炉，包括石英管、电阻炉及还原炉炉壳，所述电阻炉置于所述还原炉炉壳内，所述石英管横向穿过还原炉炉壳的中轴线，并放置于电阻炉内，所述石英管包括还原内管、废气排放管以及出料管，所述还原内管倾斜设于所述石英管内，所述还原内管处设置有进料口，所述石英管露至所述还原炉炉壳外部一侧设置有出料管以及废气排放管，所述废气排放管连接有废气处理装置，所述废气处理装置包括处理罐，所述处理罐内设置有分隔板，所述分隔板将所述处理罐分隔成上层的排气层和下层废水处理层，所述排气层与所述废水处理层设有连通的通孔，所述废水处理层内盛放有含活性炭的水，所述废气排放管延伸插入至废水处理层底部。
进一步地，所述通孔的位置以及所述废气排放管插入废水处理层的位置分别设于所述处理罐的两侧。
进一步地，所述还原内管的中心线与石英管的中心线成30°角倾斜。
进一步地，还包括辅助装置，所述辅助装置包括吊环和升降电机，所述吊环固定于还原炉炉壳上，升降电机的一端与吊环挂接。
进一步地，还包括支撑装置，支撑装置为支撑还原炉炉壳的支座。
与现有技术相比，本发明的有益效果如下：
1、本发明通过设置废气处理装置，其废气处理装置包括处理罐，其处理罐内设置有分隔板，分隔板将处理罐分隔成上层的排气层和下层废水处理层，排气层与废水处理层设有连通的通孔，废水处理层内盛放有含活性炭的水，废气排放管延伸插入至废水处理层底部，通过此设置，锑还原炉的废气通过从废水处理层底部经水中的活性炭吸附废气处理后，经隔离板一端的通孔排出，从而延长了废水在经过处理水中的时间，提高了废气处理后的净化率。
2、通过本发明的锑还原炉，其排放的废气已经达到并超过国家相关标准，效果良好，给车间员工提供了一个健康舒适的生产环境，保障了工人们的身心健康。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1 为本实施例中的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
具体实施例：
结合图1所示的一种锑还原炉，包括石英管1、电阻炉及还原炉炉壳2，电阻炉置于还原炉炉壳2内，石英管1横向穿过还原炉炉壳2的中轴线，并放置于电阻炉内，石英管1包括还原内管3、废气排放管4以及出料管5，还原内管3倾斜设于石英管1内，还原内管3处设置有进料口6，石英管1露至还原炉炉壳2外部一侧设置有出料管5以及废气排放管4，废气排放管4连接有废气处理装置8，废气处理装置包括处理罐，处理罐内设置有分隔板9，分隔板将处理罐分隔成上层的排气层10和下层废水处理层11，排气层10与废水处理层11设有连通的通孔12，废水处理层11内盛放有含活性炭的水，废气排放管4延伸插入至废水处理层11底部。
本实施例中，通孔12的位置以及废气排放管4插入废水处理层11的位置分别设于处理罐的两侧。
本实施例通过设置上述废气处理装置锑还原炉的废气通过从废水处理层11底部经水中的活性炭吸附废气处理后，经隔离板9一端的通孔12排出，从而延长了废水在经过处理水中的时间，提高了废气处理后的净化率。
通过本发明的锑还原炉，其排放的废气已经达到并超过国家相关标准，效果良好，给车间员工提供了一个健康舒适的生产环境，保障了工人们的身心健康。
本实施例中，还原内管3的中心线与石英管1的中心线成30°角倾斜。
本实施例中，还包括辅助装置，辅助装置包括吊环13和升降电机14，吊环13固定于还原炉炉壳2上，升降电机14的一端与吊环13挂接。通过此设置便于锑还原炉出料。
本实施例中，还包括支撑装置，支撑装置15为支撑还原炉炉壳的支座。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的保护范围内所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。