本实用新型涉及陶瓷生产技术领域，尤其涉及一种陶瓷生产除尘清洁装置。
背景技术：
陶瓷，用陶土烧制的器皿叫陶器，用瓷土烧制的器皿叫瓷器，陶瓷则是陶器，炻器和瓷器的总称，古人称陶瓷为瓯，凡是用陶土和瓷土这两种不同性质的粘土为原料，经过配料、成型、干燥、焙烧等工艺流程制成的器物都可以叫陶瓷，随着社会的发展，陶瓷的生产方式也不断的开始发展起来。而在如今的陶瓷生产中，缺乏对陶瓷除尘清洁的装置，影响了陶瓷生产的质量与效率。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺乏对陶瓷除尘清洁的装置的缺点，而提出的一种陶瓷生产除尘清洁装置。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
一种陶瓷生产除尘清洁装置，包括本体，所述本体的顶部设置有固定杆，且固定杆的一侧设置有洒水管，本体内安装有转动电机，转动电机的输出端设有转动轴，且转动轴上安装有扇叶，本体内设有安装杆，且安装杆上安装有加热管，本体内设置有放置板，放置板的两侧均焊接有竖直方向的挡板，且挡板上安装有支撑杆，支撑杆的内腔设有安装槽，安装槽的底部固定连接有弹簧，支撑杆的一端连接有伸缩杆，伸缩杆的一端延伸至支撑杆内，且伸缩杆与支撑杆的内壁滑动连接，放置板的一侧通过螺钉固定设有控制杆，且控制杆的一端安装有控制柄，控制柄位于本体的外侧，本体上开设有滑槽，且控制杆部分位于滑槽内。
优选的，所述本体的两侧均设有开口，且本体的顶部设有进水管，进水管与洒水管相连通，所述本体的底部设置有出水口。
优选的，所述放置板为水平设置，且放置板上开设有8-12个导水口。
优选的，所述安装槽靠近伸缩杆的两侧内壁上均设有卡块，所述伸缩杆的一端通过卡块之间的间隙延伸至安装槽内，且伸缩杆与卡块滑动连接。
优选的，所述洒水管为水平设置，且洒水管上开设有4-6个洒水口。
本实用新型的有益效果是：
1、本实用新型在本体内设置有放置板，放置板上开设有导水口，用来疏导水流，在放置板上设有支撑杆及伸缩杆，使用中，可将陶瓷放置在放置板上，利用弹簧及伸缩杆为其进行阻隔，防止其掉落下放置板，方便整体作业流程的进行。
2、本实用新型在本体内设置有洒水管，转动电机及加热管，可利用本体外侧的控制柄直接拉动放置板，使得控制杆在滑槽内作水平方向的运动，带动放置板进行三个步骤的除尘清洁，最大程度的进行了清洁，且结构简单合理、操作方便，因而，具有很好的推广使用价值。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种陶瓷生产除尘清洁装置的结构示意图；
图2为本实用新型提出的一种陶瓷生产除尘清洁装置的侧视图。
图中：1本体、2放置板、3挡板、4弹簧、5安装槽、6洒水管、7固定杆、8转动轴、9转动电机、10扇叶、11安装杆、12加热管、13滑槽、14支撑杆、15伸缩杆、16控制柄、17控制杆。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1-2，一种陶瓷生产除尘清洁装置，包括本体1（例如集装箱、柜等），本体1的顶部设置有固定杆7，且固定杆7的一侧设置有洒水管6，本体1内安装有转动电机9，转动电机9的输出端设有转动轴8，且转动轴8上安装有扇叶10，本体1内设有安装杆11，且安装杆11上安装有加热管12，本体1内设置有放置板2，放置板2的两侧均焊接有竖直方向的挡板3，且挡板3上安装有支撑杆14，支撑杆14的内腔设有安装槽5，安装槽5的底部固定连接有弹簧4，支撑杆14的一端连接有伸缩杆15，伸缩杆15的一端延伸至支撑杆14内，且伸缩杆15与支撑杆14的内壁滑动连接，放置板2的一侧通过螺钉固定设有控制杆17，且控制杆17的一端安装有控制柄16，控制柄16位于本体1的外侧，本体1上开设有滑槽13，且控制杆17部分位于滑槽13内。
本实施例中，本体1的两侧均设有开口，且本体1的顶部设有进水管，进水管与洒水管6相连通，本体1的底部设置有出水口，放置板2为水平设置，且放置板2上开设有8-12个导水口，安装槽5靠近伸缩杆15的两侧内壁上均设有卡块，伸缩杆15的一端通过卡块之间的间隙延伸至安装槽5内，且伸缩杆15与卡块滑动连接，洒水管6为水平设置，且洒水管6上开设有4-6个洒水口。
工作原理
本实用新型在本体1内设置有放置板2，放置板2上开设有导水口，用来疏导水流，在放置板2上设有支撑杆14及伸缩杆15，使用中，可将陶瓷放置在放置板2上，利用弹簧4及伸缩杆15为其进行阻隔，防止其掉落下放置板2，方便整体作业流程的进行，在本体1内设置有洒水管6，转动电机9及加热管12，可利用本体1外侧的控制柄16直接拉动放置板2，使得控制杆17在滑槽13内作水平方向的运动，带动放置板2进行三个步骤的除尘清洁，最大程度的进行了清洁，提高了作业效率。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。