本实用新型涉及玻璃基板清洁装置技术领域，尤其涉及一种清洁装置的EUV灯结构。
背景技术：
AMOLED是英文Active-matrix organic light emitting diode的简写，中文全称是有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体。AMOLED屏幕的构造有三层，AMOLED屏幕、TouchScreenPanel(触控屏面板)和外保护玻璃。
关于AMOLED玻璃基板表面清洁处理方法和装置有很多，例如：EUV工艺处理，去离子水喷淋，风刀，Plasma处理等。传统EUV工艺处理中，玻璃基板放置在腔体内固定位置，使用固定EUV灯进行照射，对基板表面清洁。
采用固定的EUV灯照射时，不能将紫外光均匀地分布在玻璃基板上，这样会造成局部紫外光照射过量，导致阳极金属银层氧化，或者局部照射不足，基板表面未能彻底清洁干净，存在影响产品光电性能的隐患。
技术实现要素：
本实用新型的发明目的在于提供一种清洁装置的EUV灯结构，采用本实用新型提供的技术方案解决了现有采用固定式EUV灯的清洁装置，无法对玻璃基板进行彻底清洁，以及造成AMOLED屏局部损坏的技术问题。
为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种清洁装置的EUV灯结构，包括内部用于放置玻璃基板的腔室；在所述腔室内平行于所述玻璃基板形成有可旋转的EUV灯，所述EUV灯的照射方向正对于所述玻璃基板，且所述EUV灯旋转形成的投影完全覆盖所述玻璃基板。
优选的，所述EUV灯为扇形，其旋转中心位于所述扇形的圆心处。
优选的，所述EUV灯呈匀速圆周运动。
优选的，在所述腔室内设置有用于放置所述玻璃基板的支撑架；在所述支撑架正上方悬置有可旋转的圆形转盘；所述EUV灯贴设于所述转盘的下端面。
优选的，所述转盘通过伺服电机驱动。
优选的，在所述转盘的转轴处设置有可升降机构。
优选的，所述玻璃基板为AMOLED屏玻璃基板。
由上可知，应用本实用新型可以得到以下有益效果：本实用新型将EUV灯的固定照射模式更换为旋转扫描照射模式，提高了玻璃基板清洁的均一性，改善玻璃基板局部未被彻底清洁的情况，从而提升产品质量。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对本实用新型实施例或现有技术的描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一部分实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图，都属于本实用新型保护的范围。
图1为本实用新型实施例整体结构示意图；
图2为本实用新型实施例条状EUV灯结构示意图；
图3为本实用新型实施例扇形EUV灯结构示意图；
图4为本实用新型实施例扇形EUV灯扫描过程示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
采用固定的EUV灯照射时，不能将紫外光均匀地分布在玻璃基板上，会造成局部紫外光照射过量，导致阳极金属银层氧化，或者局部照射不足，基板表面未能彻底清洁干净，存在影响产品光电性能的隐患。
请参见图1，为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种清洁装置的EUV灯20结构，包括内部用于放置玻璃基板30的腔室10，在腔室10内平行于玻璃基板30形成有可旋转的EUV灯20。其中EUV灯20的照射方向正对于玻璃基板30，且EUV灯20旋转形成的投影完全覆盖玻璃基板30。
其中玻璃基本可以为AMOLED屏玻璃基板30。在此需要说明的是，尽管在本实施例中提供的EUV灯20结构应用于玻璃基板30的清洁，尤其应用于AMOLED屏玻璃基板30的清洁，但该EUV灯20结构不仅能用于玻璃基板30的清洁，还能针对清洁均匀度要求较高的产品表面的清洁，且该产品需能够通过EUV灯20实现清洁，为了因紫外光不能均匀分布而使基板30表面局部异常或未被清洁干净，该产品需为平面产品，在采用本实施例提供的EUV灯20结构实现清洁时，同样需要与EUV灯20平行放置。
具体的，在腔室10内设置有用于放置玻璃基板30的支撑架11，在支撑架11正上方悬置有可旋转的圆形转盘12，EUV灯20贴设于转盘12的下端面。
其中，EUV灯20可以呈条状或扇形。
请参见图2，当EUV灯20呈条状时，EUV灯20的一端为其旋转圆心。假设A、B点为条状EUV灯20OM端下对应玻璃基板30上的两点，通过弧长计算公式：L＝n×π×2r/360，其中L为A或B点扫过的圆弧的长度，n为EUV灯20旋转时扫过的圆心角度数，r为A或B点与圆心之间的距离。由于EUV灯20呈条状，在EUV灯20旋转扫描过程中，A或B点扫过的圆心角度数相等，可知，圆弧长度仅与A或B点与圆心之间的距离成正比。
综上，无论EUV灯20匀速旋转还是变速旋转，在相同时间内，EUV灯20上每个位置扫过的弧长均不一致，距离圆心越近的位置扫过的弧长越短，导致位于EUV灯20下方的玻璃基板30越靠近圆心的位置清洁更为密集，造成玻璃基板30的清洁度沿其径向呈递交趋势。
请参见图3-4，当EUV灯20呈扇形时，EUV灯20的旋转圆心为该扇形的圆心。假设A、B点为扇形EUV灯20OM端下对应玻璃基板30上的两点，则
T＝S/V＝(2πR)/(wR)＝2π/w，其中T为时间，S为弧长，V为匀速圆周运动线速度，R为半径，w为匀速圆周运动角速度，θ为扇形角度。若T1＝T2，则w1＝w2，由于w1＝θ1π/(180T1)；w2＝θ2π/(180T2)，则θ1＝θ2；反之，若θ1＝θ2，则T1＝T2。
综上，同一角度的扇形EUV灯20由圆心沿半径往外，从OM端开始旋转，至ON端结束，半径方向上EUV照射的时间是相同的，因此只有EUV灯20匀速圆周移动，才能保证AMOLED玻璃基板30上EUV照射的均匀性。
因此，在本实施例中，为了确保玻璃基板上EUV照射的均匀性，EUV灯优选为扇形。
为了实现EUV灯20旋转转速可控，转盘12通过伺服电机13驱动，并且设置有EUV灯20自动开关控制器。
同时还可以在转盘12的转轴处设置有可升降机构14，通过升降机构14即可对EUV灯20与玻璃基板30之间的距离进行调整。
在对玻璃基板30进行清洁时，在AMOLED玻璃基板30放入腔室10后，伺服电机13驱动转盘12旋转，待达到匀速圆周运动后，扇形EUV灯20亮起，并记录EUV灯20亮起时的旋转周数，旋转到设定周数后EUV灯20关闭，可以变更转盘12的旋转速度和旋转周数控制工艺所需的时间，同时可升降机构14改变EUV灯20和玻璃基板30的间距，即改变照射强度。
本实施例提供的EUV灯结构将EUV灯的固定照射模式更换为旋转扫描照射模式，灯管排列形式由两排多列更换为固定于旋转机构上的扇形结构，提高清洁AMOLED玻璃基板的均一性，改善玻璃基板局部光照过量或未被彻底清洁的情况，从而提升产品质量。
以上所述的实施方式，并不构成对该技术方案保护范围的限定。任何在上述实施方式的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在该技术方案的保护范围之内。