一种印染废水处理回收装置的制作方法

本实用新型涉及纺织领域，尤其涉及一种印染废水处理回收装置。

背景技术：

国家对印染废水的回用要求也越来越高，普遍要求印染废水的回用比例达到35-40％以上。由于印染行业对生产用水要求较高，反渗透膜处理是目前最主流的印染废水回用方法，反渗透膜产水可直接回用于染色等生产工艺，反渗透膜浓水COD普遍在80mg/L以上。但是反渗透膜需要定期更换使用成本较高，增加了印染废水的处理成本。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种新型的印染废水处理回收装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种印染废水处理回收装置，包括底板，所述底板的一侧垂直设有第一固定板，所述底板的另一侧垂直第二固定板，所述第二固定板与第一固定板呈倾斜设置有透光板，所述底板的上端面垂直安装有一对支架，一对所述支架上呈倾斜装安装有第一过滤槽和第二过滤槽，所述第一过滤槽的内腔固定安装有网框，所述网框的内腔中填充有活性炭壳颗粒，所述第二过滤槽的一侧设置有蓄水槽，所述蓄水槽通过水管与外部污水源连通，所述第二过滤槽的内腔并排安装有多块瓦楞板，所述第二过滤槽位于第一过滤槽的上方，所述底板的底部连接有多个反渗透膜，所述底板的上端面靠近挡水板一侧垂直设置有挡水板，所述底板的底部连接有导水管，所述导水管位于挡水板的左侧。

优选的，多个所述反渗透膜的外壁夹持有固定架，多个反渗透膜通过固定架并排固定。

优选的，所述透光板的底端面粘接有多根导水胶条。

优选的，所述瓦楞板为塑料板，所述瓦楞板的外壁喷涂有黑色清漆。

优选的，所述底板的侧壁固定连接有一对保温板。

本实用新型提出的一种印染废水处理回收装置，有益效果在于：通过设置反渗透膜、第一过滤槽、第二过滤槽和透光板，在进行印染废水处理回收时，印染废水经过第二过滤槽中的瓦楞板，太阳光透过透光板进行照射，使得部分污水能够受热蒸发然后经导水管流出进行回收利用，同时污水经过第一过滤槽中的网框，由活性炭颗粒进行吸附，然后流向反渗透膜中进行二次处理完成污水的处理回收，对比现有的印染废水处理回收装置合理的采用太阳能对污水进行蒸馏，提升了污水处理的效率，同时降低了反渗透膜的使用负担，延长了反渗透膜的使用时间，降低了污水处理回收成本。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的第二过滤槽结构示意图；

图3为本实用新型的第一过滤槽结构示意图。

图中：1第一固定板、2导水管、3反渗透膜、4固定架、5支架、 6底板、7第一过滤槽、8第二固定板、9第二过滤槽、10透光板、11挡水板、12活性炭壳颗粒、13网框、14瓦楞板、15蓄水槽。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-3，一种印染废水处理回收装置，包括底板6，底板6 的一侧垂直设有第一固定板1，底板6的另一侧垂直第二固定板8，第二固定板8与第一固定板1呈倾斜设置有透光板10，底板6的上端面垂直安装有一对支架5，一对支架5上呈倾斜装安装有第一过滤槽7和第二过滤槽9，第一过滤槽7的内腔固定安装有网框13，网框 13的内腔中填充有活性炭壳颗粒12，第二过滤槽9的一侧设置有蓄水槽15，蓄水槽15通过水管与外部污水源连通，第二过滤槽9的内腔并排安装有多块瓦楞板14，第二过滤槽9位于第一过滤槽7的上方，底板6的底部连接有多个反渗透膜3，底板6的上端面靠近挡水板11一侧垂直设置有挡水板11，底板6的底部连接有导水管2，导水管2位于挡水板11的左侧。

多个反渗透膜3的外壁夹持有固定架4，多个反渗透膜3通过固定架4并排固定。透光板10的底端面粘接有多根导水胶条，设置的导水胶条起到引流的作用，能够将在透光板10表面冷凝的水分导向导水管2处，瓦楞板14为塑料板，瓦楞板14的外壁喷涂有黑色清漆。底板6的侧壁固定连接有一对保温板，设置的保温板和喷涂黑色清漆，起到增大蒸发量的作用。

工作原理：在进行印染废水处理回收时，印染废水经过第二过滤槽9中的瓦楞板14，太阳光透过透光板10进行照射，使得部分污水能够受热蒸发然后在透光板10表面流淌至导水管2进行回收利用，同时污水经过第一过滤槽7中的网框13，由活性炭颗粒12进行吸附，然后流向反渗透膜3中进行二次处理完成污水的处理回收，对比现有的印染废水处理回收装置合理的采用太阳能对污水进行蒸馏，提升了污水处理的效率，同时降低了反渗透膜3的使用负担，延长了反渗透膜3的使用时间，降低了污水处理回收成本。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。